專利名稱:一種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法
一種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及標(biāo)識(shí)制作領(lǐng)域,特別是玻璃標(biāo)識(shí)制作領(lǐng)域。
背景技術(shù):
傳統(tǒng)的在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法主要有以下幾種(I)網(wǎng)印油墨,這是目前在玻璃上制作商標(biāo)的主要方法,通過網(wǎng)版印刷工藝,將油墨印制在玻璃上形成圖案,然后在高溫下烘干、燒結(jié)制成標(biāo)識(shí)。油墨由有機(jī)溶劑、低熔玻璃粉和填料組成,其有機(jī)溶劑在烘干時(shí)大量揮發(fā),并且油墨的清洗需要更多的有機(jī)溶劑,如二甲苯,這需要比較繁瑣的后期處理,易污染環(huán)境。(2)蝕刻法,它是利用材料和玻璃之間物理化學(xué)反應(yīng),在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法, 如公開號(hào)為CN1209421A的中國專利公開了一種用于汽車玻璃防盜標(biāo)識(shí)制作的蝕刻劑,也適用于在其他玻璃上蝕刻各種標(biāo)識(shí)圖案。但是這種方法制作的標(biāo)識(shí)圖案是沒有顏色的,紋理很不清晰。(3)直接粘貼,它是直接把制好的標(biāo)識(shí)粘貼在玻璃上,但長時(shí)間使用,標(biāo)簽會(huì)磨損或脫落。目前,市場(chǎng)已廣泛應(yīng)用節(jié)能玻璃,尤其是低輻射玻璃。低輻射玻璃又稱Low-e玻璃,是在玻璃表面鍍上多層金屬或化合物組成的膜系產(chǎn)品。其鍍膜層具有對(duì)可見光高透過及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性,使玻璃產(chǎn)品具有優(yōu)異的節(jié)能性能,因此被廣泛地應(yīng)用于建筑玻璃和汽車玻璃上。Low-e鍍膜是由多層膜層構(gòu)成的,以銀(Ag)層為主要功能層,根據(jù)需要Ag層可為純Ag膜,也可適量添加其他元素,如Cu。Ag層介于介質(zhì)層和介質(zhì)層之間形成“三明治結(jié)構(gòu)”, 介質(zhì)層不僅可以是單層膜層,還可以是由多個(gè)單層,比如金屬層、氧化物層、氮化物層或者它們的組合構(gòu)成的復(fù)合層。低輻射膜層典型結(jié)構(gòu)如圖I和圖2所示。低輻射玻璃按生產(chǎn)工藝可分為在線低輻射玻璃和離線低輻射玻璃,本文所指低輻射玻璃為離線低輻射玻璃。由于離線低輻射玻璃屬于軟涂層玻璃,耐磨性和牢固度比不上在線低輻射玻璃。而其主要功能層銀層透光低、反光高,且很容易受到腐蝕或機(jī)械磨損,所以需要配合介質(zhì)層,起到加強(qiáng)連接、保護(hù)銀層、提高透光率和調(diào)整顏色等作用。不同介質(zhì)層的選取和搭配會(huì)造成低輻射玻璃的不同性能,本文所指低輻射玻璃是可以經(jīng)受400°C以上高溫?zé)崽幚淼腖ow-e玻璃,尤其是可鋼化Low-e和可烘彎Low-e。如公開號(hào)為CN101585667A 的中國專利,其公開了一種可烘彎的低輻射玻璃,該可烘彎低輻射鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為玻璃基板/Si0xNy/ZnSn0x/Ti0y/Ag/Ti0x/ZnSn0y/SixNy。這里本文將TiOx/ZnSnOy/SixNy視為第一介質(zhì)層,SiOxNy/ZnSnOx/TiOy視為第二介質(zhì)層,銀層介于第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層之間。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于解決上述在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的傳統(tǒng)方法存在的問題,提供了一種利用低輻射玻璃制作標(biāo)識(shí)的新方法。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是ー種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法, 包括第一玻璃板、沉積在第一玻璃板的低福射膜層和待制作標(biāo)識(shí)的第二玻璃板,所述低福射膜層從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質(zhì)層、銀層和第二介質(zhì)層,其特征在于還包括以下步驟I)對(duì)第一玻璃板上低輻射膜層的第一介質(zhì)層進(jìn)行刻蝕,刻蝕方向?yàn)閺耐庵恋谝徊AО宸较颍涛g厚度為第一介質(zhì)層厚度的10-90%,使第一介質(zhì)層顯出標(biāo)識(shí)所對(duì)應(yīng)的圖形;2)將第一玻璃板和第二玻璃板配對(duì),使刻蝕后的低輻射膜層與第二玻璃板貼合, 間距小于0. 2mm ;3)將配對(duì)后的兩塊玻璃板在400°C以上熱處理,使指定的標(biāo)識(shí)出現(xiàn)在第二玻璃板上。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于實(shí)施簡單,對(duì)環(huán)境無污染,生產(chǎn)的標(biāo)識(shí)圖案清晰,且耐酸堿性、 耐摩擦性好,使用壽命長,具有很好的商業(yè)前景。
圖I是低輻射玻璃的單銀Low-e膜典型結(jié)構(gòu)圖;圖2是低輻射玻璃的雙銀Low-e膜典型結(jié)構(gòu)圖;圖3是刻蝕后的第一玻璃板上Low-e膜層結(jié)構(gòu)示意圖;圖4是本發(fā)明配對(duì)后的第一玻璃板以及功能膜層和第二玻璃板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5是本發(fā)明的エ藝流程圖。
具體實(shí)施方式—種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,包括第一玻璃板I、沉積在第一玻璃板I的低福射膜層2和待制作標(biāo)識(shí)的第二玻璃板3,所述低輻射膜層2從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質(zhì)層21、銀層22和第二介質(zhì)層23,其特征在于還包括以下步驟I)對(duì)第一玻璃板I上低輻射膜層2的第一介質(zhì)層21進(jìn)行刻蝕,刻蝕方向?yàn)閺耐庵恋谝徊AО宸较颍涛g厚度為第一介質(zhì)層21厚度的10-90%,使第一介質(zhì)層21顯出標(biāo)識(shí)所對(duì)應(yīng)的圖形;2)將第一玻璃板I和第二玻璃板3配對(duì),使刻蝕后的低福射膜層2與第二玻璃板 3貼合,間距小于0. 2mm ;3)將配對(duì)后的兩塊玻璃板在400°C以上熱處理,使指定的標(biāo)識(shí)出現(xiàn)在第二玻璃板 3上。其中,所述第一介質(zhì)層21厚度至少為20nm,刻蝕厚度至少為2nm ;所述第一介質(zhì)層21和/或第二介質(zhì)層23可為單層膜,也可為由金屬膜、氧化物膜、氮化物膜或者它們的組合構(gòu)成的復(fù)合膜層;刻蝕方法可采用激光刻蝕或可印刷蝕刻介質(zhì)刻蝕,激光刻蝕可采用紅光(波長為 1064nm)、綠光(波長為532nm)或紫外光(波長為0_380nm)進(jìn)行刻蝕,可印刷的蝕刻介質(zhì)可以為蝕刻糊、蝕刻膏以及蝕刻油墨;所述玻璃板為浮法玻璃。
本發(fā)明所指的低輻射膜層為可耐高溫?zé)崽幚恚话憬橘|(zhì)層都比較致密或有Ag層保護(hù)層,使其在高溫狀態(tài)下,能夠保護(hù)Ag層,避免或減少Ag層氧化。但如果采用蝕刻方法把Ag層上方的介質(zhì)層給刻蝕掉,而不刻蝕掉Ag層,那么膜層刻蝕部位的Ag層在高溫狀態(tài)下,就易擴(kuò)散到配片玻璃表面或內(nèi)部,在玻璃表面和玻璃內(nèi)部發(fā)生復(fù)雜的物理化學(xué)反應(yīng),從而使第二板玻璃所對(duì)應(yīng)的部位變黃,形成黃色的標(biāo)識(shí)。以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容作進(jìn)ー步說明實(shí)施例I首先對(duì)浮法玻璃原片按照所需尺寸進(jìn)行切割,制作配對(duì)的第一玻璃板I和第二玻璃板3,清洗干燥后采用以下步驟制作I)采用磁控濺射方法在第一玻璃板I上依次沉積中國專利CN101585667A例I 中所述的Low-e膜層2,銀層22以上的第一介質(zhì)層21為TiO1VZnSnO2VSi3N4,總厚度為 49. 5nm ;2)米用激光刻蝕方法在Low-e膜2刻蝕,刻蝕方向?yàn)閺耐庵恋谝徊AО宸较颍涛g深度20nm,使第一介質(zhì)層21上呈現(xiàn)“FY”字樣的刻蝕圖案??涛g后的第一玻璃板I上 Low-e膜層2結(jié)構(gòu)如圖3所示。其中,激光刻蝕可采用紅光(1064nm)、綠光(532nm)或紫外 (0-380nm)進(jìn)行刻蝕;3)將第一玻璃板I和第二玻璃板3配對(duì),指在第一玻璃板I上加另一片清洗干凈的、未鍍膜的第二玻璃板3 (也稱為配片),使第一玻璃板I的膜面和第二玻璃板3相貼,配對(duì)后的第一玻璃板I以及低輻射膜層2和第二玻璃板3的結(jié)構(gòu)如圖4所示,中間加入適量的隔離粉;4)將已配對(duì)好的第一玻璃板I和第二玻璃板3進(jìn)行600°C的烘彎熱處理,并在 600°C溫度下保溫3分鐘,整個(gè)熱處理過程不超過20分鐘,“FY”標(biāo)識(shí)鏡像顯示在第二玻璃板3的相應(yīng)位置,取出,完成標(biāo)識(shí)制作。本實(shí)施例中制備標(biāo)識(shí)方法的主要エ藝流程如圖5所示。該實(shí)施例I的標(biāo)識(shí)是應(yīng)用到汽車前擋低輻射鍍膜玻璃,有效結(jié)合汽車前擋低輻射玻璃制備エ藝,僅多出激光刻蝕標(biāo)識(shí)圖案步驟,簡單方便,標(biāo)識(shí)清晰持久。實(shí)施例2首先對(duì)浮法玻璃原片按照所需尺寸進(jìn)行切割,制作配對(duì)的第一玻璃板I和第二玻璃板3,清洗干燥后采用以下步驟制作I)采用磁控濺射方法在第一玻璃板I上依次沉積中國專利CN1300327A例8中所述的雙銀低輻射膜層2,離第一玻璃板I最遠(yuǎn)的銀層22上的第一介質(zhì)層21為鈦/氧化鋅 /52-48錫酸鋅/鈦,總厚度約為24nm ;2)米用蝕刻膏刻蝕方法在低福射膜層2刻蝕,刻蝕方向?yàn)閺耐庵恋谝徊AО宸较颍涛g深度20nm,使第一介質(zhì)層21上呈現(xiàn)“FY”鏡像圖形的刻蝕圖案,其中,蝕刻膏可以采用公開號(hào)為CN101600779A的中國專利所描述的蝕刻膏進(jìn)行絲網(wǎng)印刷刻蝕;3)將第一玻璃板I和第二玻璃板3配對(duì),指在第一玻璃板I上加另一片清洗干凈的、未鍍膜的第二玻璃板3 (也稱為配片),使第一玻璃板I的膜面和第二玻璃板3相貼,中間加入適量的隔離粉;4)將已配對(duì)好的第一玻璃板I和第二玻璃板3進(jìn)行550°C的烘彎熱處理,并在550°C溫度下保溫4分鐘,整個(gè)熱處理過程不超過25分鐘,“FY”標(biāo)識(shí)顯示在第二玻璃板3的相應(yīng)位置,取出,完成標(biāo)識(shí)制作。該實(shí)施例與實(shí)施例I的區(qū)別在于低輻射膜層為雙銀Low-e膜層,且膜層結(jié)構(gòu)不同, 刻蝕方式改為用蝕刻膏進(jìn)行蝕刻,這樣降低成本,也能取得同樣的效果。以上內(nèi)容是對(duì)本發(fā)明所述的ー種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法進(jìn)行了具體描述,但是本發(fā)明不受以上描述的具體實(shí)施方式
內(nèi)容的局限,所以凡依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)要點(diǎn)進(jìn)行的任何改進(jìn)、等同修改和替換等,均屬于本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.ー種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,包括第一玻璃板、沉積在第一玻璃板的低福射膜層和待制作標(biāo)識(shí)的第二玻璃板,所述低輻射膜層從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質(zhì)層、銀層和第二介質(zhì)層,其特征在于還包括以下步驟D對(duì)第一玻璃板上低輻射膜層的第一介質(zhì)層進(jìn)行刻蝕,刻蝕方向?yàn)閺耐庵恋谝徊AО宸较?,刻蝕厚度為第一介質(zhì)層厚度的10-90%,使第一介質(zhì)層顯出標(biāo)識(shí)所對(duì)應(yīng)的圖形;2)將第一玻璃板和第二玻璃板配對(duì),使刻蝕后的低輻射膜層與第二玻璃板貼合,間距小于0. 2mm ;3)將配對(duì)后的兩塊玻璃板在400°C以上熱處理,使指定的標(biāo)識(shí)出現(xiàn)在第二玻璃板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,其特征在于所述低輻射膜層可以經(jīng)受400°C以上高溫?zé)崽幚怼?br>
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,其特征在于所述第一介質(zhì)層厚度至少為20nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,其特征在于所述第一介質(zhì)層和/ 或第二介質(zhì)層可為單層膜,也可為由金屬膜以及氧化物膜層組成的復(fù)合膜層。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,其特征在于刻蝕方法可采用激光刻蝕或可印刷蝕刻介質(zhì)刻蝕,激光刻蝕可采用波長為1064nm的紅光、波長為532nm的綠光或波長為0-380nm的紫外光進(jìn)行刻蝕,可印刷蝕刻介質(zhì)可以為蝕刻糊、蝕刻膏以及蝕刻油星。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,其特征在于所述玻璃板為浮法玻璃。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種在玻璃上制作標(biāo)識(shí)的方法,涉及標(biāo)識(shí)制作領(lǐng)域,包括第一玻璃板、沉積在第一玻璃板的低輻射膜層和待制作標(biāo)識(shí)的第二玻璃板,所述低輻射膜層從外至第一玻璃板方向至少依次為第一介質(zhì)層、銀層和第二介質(zhì)層,其特征在于還包括以下步驟首先,對(duì)第一玻璃板上低輻射膜層的第一介質(zhì)層進(jìn)行刻蝕,使第一介質(zhì)層顯出標(biāo)識(shí)所對(duì)應(yīng)的圖形;其次,將第一玻璃板和第二玻璃板配對(duì),使刻蝕后的低輻射膜層與第二玻璃板貼合;最后,將配對(duì)后的兩塊玻璃板在400℃以上熱處理,使指定的標(biāo)識(shí)出現(xiàn)在第二玻璃板上。優(yōu)點(diǎn)是實(shí)施簡單,對(duì)環(huán)境無污染,生產(chǎn)的標(biāo)識(shí)圖案清晰,且耐酸堿性、耐摩擦性好,使用壽命長,具有很好的商業(yè)前景。
文檔編號(hào)C03C23/00GK102603211SQ20121006545
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2012年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月12日
發(fā)明者何立山, 盧國水, 朱謐, 林柱, 福原康太, 袁軍林 申請(qǐng)人:福耀玻璃工業(yè)集團(tuán)股份有限公司