專利名稱：一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃。
背景技術：
現(xiàn)有的玻璃，在鍍相關功能膜后、鋼化處理前，通常會粘貼一 PE保護膜或直接撒隔離粉。在鋼化處理時，再去掉PE保護膜或隔離粉，工藝復雜，故有必要對現(xiàn)有產(chǎn)品作出改進，以提供一種可簡化鋼化處理工藝的高透單銀低輻射玻璃。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其可簡化鋼化工藝，利于鋼化處理而又不影響光學性能。一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于還包括由下而上依次設于玻璃基材上表面的一 TiO2介質層、一 NbOx折射層、一 CrNx阻擋層、一 AZO平整層、一降福射鍍Ag層、一 CrNxOy膜層、一 SnO2保護層、以及一 C膜層。作為上述方案的一種改進，所述TiO2介質層的厚度為l(T30nm。作為上述方案的進一步改進，所述NbOx折射層的厚度為5 10nm。作為上述方案的進一步改進，所述CrNJ且擋層的厚度為0. 5 3nm。防止Ag被氧化。作為上述方案的進一步改進，所述AZO平整層的厚度為5 20nm。平滑所述CrNx阻擋層，為Ag層作鋪墊，降低輻射率。作為上述方案的進一步改進，所述降輻射鍍Ag層的厚度為疒10nm，可大大降低紅外輻射。作為上述方案的進一步改進，所述CrNxOy膜層的厚度為0. 5飛nm?？商岣吣幽湍バ浴⑻岣咄腹饴?、提高鋼化時抗高溫氧化性。作為上述方案的進一步改進，所述SnO2保護層的厚度為2(T50nm。耐腐蝕性好。作為上述方案的進一步改進，所述C膜層的厚度為l(T20nm。本發(fā)明具有如下優(yōu)點本發(fā)明于最外層設有C膜層，在鋼化處理前，該C膜層可以防止鍍膜玻璃被劃傷，而在鋼化過程中又會被完全燃燒，從而不影響鍍膜玻璃的光學性能，鋼化后其透光率達83%，輻射率小于0. 08。與傳統(tǒng)相比，無需粘貼PE保護膜或撒隔離粉，在鋼化處理時，可省去撕掉PE保護膜或去掉隔離粉的工藝，可簡化鋼化工藝，利于鋼化處理而又不影響光學性能。


圖I為本發(fā)明結構剖視圖。
具體實施例方式如圖所示，一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，包括玻璃基材I、以及由下而上依次設于玻璃基材I上表面的一 TiO2介質層2、一 NbOx折射層3、一 CrNx阻擋層4、一AZO平整層5、一降福射鍍Ag層6、一 CrNxOy膜層7、一 SnO2保護層8和一 C膜層9。所述TiO2介質層2的厚度為l(T30nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶，用氧氣作反應氣體，將靶材上的材料打到玻璃基材表面，最終形成TiO2介質層。所述NbOx折射層3的厚度為5 10nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源濺射陶瓷鈮靶，最終在TiO2介質層表面形成NbOx折射層。所述CrNx阻擋層4的厚度為0. 5 3nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鉻靶，用氮氣作反應氣體，最終在NbOx折射層表面形成CrNx阻擋層，防止Ag被氧化。所述AZO平整層5的厚度為5 20nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn (AZO)祀，最終在CrNx阻擋層表面形成AZO平整層，為Ag層作鋪墊，降低輻射率。所述降輻射鍍Ag層6的厚度為7 10nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射銀靶，最終在AZO平整層表面形成降輻射鍍Ag層。所述CrNxOy膜層7的厚度為0. 5飛nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鉻靶，用氮氣做反應氣體，滲少量氧氣，最終在降輻射鍍Ag層表面形成CrNxOy膜層，可提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時抗高溫氧化性。所述SnO2保護層8的厚度為2(T50nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源濺射錫靶，用氧氣作反應氣體，最終在CrNxOy膜層表面形成SnO2保護層，耐腐蝕性好。所述C膜層9的厚度為l(T20nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電流濺射石墨靶，最終在SnO2保護層表面形成C膜層。在鋼化處理前，該C膜層可以防止鍍膜玻璃被劃傷，而在鋼化過程中又會被完全燃燒，從而不影響鍍膜玻璃的光學性能。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并非用來限定本發(fā)明實施的范圍，凡依本發(fā)明專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本發(fā)明專利涵蓋的范圍。
權利要求
1.一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于還包括由下而上依次設于玻璃基材上表面的一 TiO2介質層、一 NbOx折射層、一 CrNx阻擋層、一 AZO平整層、一降福射鍍Ag層、一 CrNxOy膜層、一 SnO2保護層、以及一 C膜層。
2.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述TiO2介質層的厚度為10 30nm。
3.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述NbOx折射層的厚度為5 10nm。
4.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述CrNx阻擋層的厚度為O. 5 3nm。
5.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述AZO平整層的厚度為5 20nm。
6.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述降輻射鍍Ag層的厚度為7 10nm。
7.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述CrNxOy膜層的厚度為O. 5 5nm。
8.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述SnO2保護層的厚度為2(T50nm。
9.根據(jù)權利要求I所述的一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，其特征在于所述C膜層的厚度為l(T20nm。
全文摘要
一種利于鋼化處理的高透單銀低輻射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于還包括由下而上依次設于玻璃基材上表面的一TiO2介質層、一NbOx折射層、一CrNx阻擋層、一AZO平整層、一降輻射鍍Ag層、一CrNxOy膜層、一SnO2保護層、以及一C膜層。本發(fā)明可簡化鋼化工藝，利于鋼化處理而又不影響光學性能。
文檔編號C03C17/36GK102951855SQ201210487399
公開日2013年3月6日 申請日期2012年11月26日 優(yōu)先權日2012年11月26日
發(fā)明者楊柳, 劉昕 申請人:中山市創(chuàng)科科研技術服務有限公司