一種ito鍍膜工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種ITO鍍膜工藝,所述工藝包括:首先,將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃;然后,將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗;然后,將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光;然后,將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗;然后,將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理;然后,將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜;最后,將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光,實(shí)現(xiàn)了ITO鍍膜工藝設(shè)計合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好,導(dǎo)電性較好,表面雜質(zhì)較少,表面平整,膜的厚度均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻一致,工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
【專利說明】—種ITO鍍膜工藝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及工業(yè)加工制造領(lǐng)域,尤其涉及一種ITO鍍膜工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]ITO導(dǎo)電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上,利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫(俗稱ΙΤ0)膜加工制作成的。液晶顯示器專用ITO導(dǎo)電玻璃,還會在鍍ITO層之前,鍍上一層二氧化硅阻擋層,以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內(nèi)液晶里擴(kuò)散。
[0003]ITO玻璃是觸摸屏生產(chǎn)制造的重要原料,而ITO玻璃的質(zhì)量關(guān)系著觸摸屏的質(zhì)量,傳統(tǒng)的ITO玻璃制造工藝在切割完成后進(jìn)行清洗直接進(jìn)行鍍膜,并沒有進(jìn)行表面處理,導(dǎo)致鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多等問題,且由于鍍膜機(jī)傳輸速度不穩(wěn)定,導(dǎo)致在鍍膜時,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,導(dǎo)致生產(chǎn)出來的產(chǎn)品工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求,且采用傳統(tǒng)工藝加工出來的ITO玻璃表面粗糙不平,質(zhì)量較差。
[0004]綜上所述,本申請發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本申請實(shí)施例中發(fā)明技術(shù)方案的過程中,發(fā)現(xiàn)上述技術(shù)至少存在如下技術(shù)問題:
在現(xiàn)有技術(shù)中,由于傳統(tǒng)的ITO玻璃制造工藝在切割完成后進(jìn)行清洗直接進(jìn)行鍍膜,并沒有進(jìn)行表面處理,導(dǎo)致鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多等問題,且由于鍍膜機(jī)傳輸速度不穩(wěn)定,導(dǎo)致在鍍膜時,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,導(dǎo)致生產(chǎn)出來的產(chǎn)品工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求,且采用傳統(tǒng)工藝加工出來的ITO玻璃表面粗糙不平,質(zhì)量較差,所以,現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計不合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多,表面粗糙不平,質(zhì)量較差,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明提供了一種ITO鍍膜工藝,解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計不合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多,表面粗糙不平,質(zhì)量較差,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題,實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好,導(dǎo)電性較好,表面雜質(zhì)較少,表面平整,膜的厚度均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻一致,工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0006]為解決上述技術(shù)問題,本申請實(shí)施例提供了一種ITO鍍膜工藝,所述工藝包括: 首先,將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃;
然后,將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗;
然后,將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光;
然后,將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗;
然后,將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理;
然后,將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜;
最后,將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光。
[0007]進(jìn)一步的,所述一次清洗、所述二次清洗均為采用清水進(jìn)行清洗。
[0008]進(jìn)一步的,所述將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理具體包括:
首先,用去離子水超聲清洗30分鐘;
然后,用丙酮超聲清洗30分鐘;
然后,用無水乙醇超聲清洗30分鐘;
最后,用純氮?dú)獯蹈伞?br>
[0009]進(jìn)一步的,所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體為:將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜,所述真空鍍膜機(jī)設(shè)有傳輸速度控制單元,用于控制基片的移動速度。
[0010]進(jìn)一步的,所述將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光具體為:使用A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面。
[0011]進(jìn)一步的,所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體包括:
首先,在玻璃表面進(jìn)行S12鍍膜;
然后,將鍍有S12膜的玻璃傳輸至新的真空室進(jìn)行ITO鍍膜。
[0012]本申請實(shí)施例中提供的一個或多個技術(shù)方案,至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn): 由于采用了首先將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃,然后將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗,然后將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光,然后將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗,然后將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理,然后將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜,最后將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光的工藝來制造ITO玻璃,即,在鍍膜前將玻璃表面進(jìn)行了處理,如:首先用去離子水超聲清洗30分鐘;然后用丙酮超聲清洗30分鐘;然后用無水乙醇超聲清洗30分鐘;最后用純氮?dú)獯蹈?,保障了表面的工藝要求,使得表面雜質(zhì)較少,干凈平整,便于鍍膜時靶材更好的吸附在基片上,且在鍍膜機(jī)上設(shè)置了速度控制單元,用于控制鍍膜機(jī)基片的傳輸速度,使得基片傳輸速度平穩(wěn)均勻,保障在鍍膜時膜的厚度均勻,且在鍍膜后進(jìn)行拋光處理,使得ITO玻璃表面平整,所以,有效解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計不合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多,表面粗糙不平,質(zhì)量較差,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好,導(dǎo)電性較好,表面雜質(zhì)較少,表面平整,膜的厚度均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻一致,工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013]圖1是本申請實(shí)施例一中ITO鍍膜工藝的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]本發(fā)明提供了一種ITO鍍膜工藝,解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計不合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多,表面粗糙不平,質(zhì)量較差,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題,實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好,導(dǎo)電性較好,表面雜質(zhì)較少,表面平整,膜的厚度均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻一致,工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0015]本申請實(shí)施中的技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問題??傮w思路如下:采用了首先將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃,然后將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗,然后將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光,然后將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗,然后將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理,然后將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜,最后將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光的工藝來制造ITO玻璃,即,在鍍膜前將玻璃表面進(jìn)行了處理,如:首先用去離子水超聲清洗30分鐘;然后用丙酮超聲清洗30分鐘;然后用無水乙醇超聲清洗30分鐘;最后用純氮?dú)獯蹈?,保障了表面的工藝要求,使得表面雜質(zhì)較少,干凈平整,便于鍍膜時靶材更好的吸附在基片上,且在鍍膜機(jī)上設(shè)置了速度控制單元,用于控制鍍膜機(jī)基片的傳輸速度,使得基片傳輸速度平穩(wěn)均勻,保障在鍍膜時膜的厚度均勻,且在鍍膜后進(jìn)行拋光處理,使得ITO玻璃表面平整,所以,有效解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計不合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多,表面粗糙不平,質(zhì)量較差,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了ITO鍍膜工藝設(shè)計合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好,導(dǎo)電性較好,表面雜質(zhì)較少,表面平整,膜的厚度均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻一致,工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0016]為了更好的理解上述技術(shù)方案,下面將結(jié)合說明書附圖以及具體的實(shí)施方式對上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明。
[0017]實(shí)施例一:
在實(shí)施例一中,提供了一種ITO鍍膜工藝,請參考圖1,所述工藝包括:
S10,將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃;
S20,將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗;
S30,將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光;
S40,將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗;
S50,將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理;
S60,將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜;
S70,將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光。
[0018]其中,在本申請實(shí)施例中,所述一次清洗、所述二次清洗均為采用清水進(jìn)行清洗。
[0019]其中,在本申請實(shí)施例中,所述將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理具體包括:
首先,用去離子水超聲清洗30分鐘;
然后,用丙酮超聲清洗30分鐘;
然后,用無水乙醇超聲清洗30分鐘;
最后,用純氮?dú)獯蹈伞?br>
[0020]其中,在實(shí)際應(yīng)用中,使用去離子水、丙酮、無水乙醇進(jìn)行超聲清洗,可以有效的去掉玻璃表面的雜質(zhì),達(dá)到更好的表面光潔度,滿足工藝要求。
[0021]其中,在本申請實(shí)施例中,所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體為:將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜,所述真空鍍膜機(jī)設(shè)有傳輸速度控制單元,用于控制基片的移動速度。
[0022]其中,在實(shí)際應(yīng)用中,傳輸速度控制單元具體為電流大小控制器,用于控制輸出電流的大小,進(jìn)而控制與鍍膜機(jī)連接的伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速,來逐漸改變膜的均勻,使得在鍍膜時,傳輸速度穩(wěn)定,膜的厚度均勻。
[0023]其中,在本申請實(shí)施例中,所述將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光具體為:使用A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面。
[0024]其中,在實(shí)際應(yīng)用中,用大量A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面,借助其動能將表面層的微觀凸起部位削平或壓平,以實(shí)現(xiàn)拋光的目的。此法操作簡單,表面微觀型貌良好,無方向性,主要用于清除表面積污、微觀凸起及較淺線條,并具有強(qiáng)化表面的作用,表面粗糙度能在原有基礎(chǔ)上有改善。
[0025]其中,在本申請實(shí)施例中,所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體包括:
首先,在玻璃表面進(jìn)行S12鍍膜;
然后,將鍍有S12膜的玻璃傳輸至新的真空室進(jìn)行ITO鍍膜。
[0026]其中,在實(shí)際應(yīng)用中,在更換至新的真空室后,雜質(zhì)較少,便于更好的鍍膜。
[0027]上述本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案,至少具有如下的技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn): 由于采用了首先將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃,然后將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗,然后將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光,然后將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗,然后將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理,然后將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜,最后將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光的工藝來制造ITO玻璃,即,在鍍膜前將玻璃表面進(jìn)行了處理,如:首先用去離子水超聲清洗30分鐘;然后用丙酮超聲清洗30分鐘;然后用無水乙醇超聲清洗30分鐘;最后用純氮?dú)獯蹈?,保障了表面的工藝要求,使得表面雜質(zhì)較少,干凈平整,便于鍍膜時靶材更好的吸附在基片上,且在鍍膜機(jī)上設(shè)置了速度控制單元,用于控制鍍膜機(jī)基片的傳輸速度,使得基片傳輸速度平穩(wěn)均勻,保障在鍍膜時膜的厚度均勻,且在鍍膜后進(jìn)行拋光處理,使得ITO玻璃表面平整,所以,有效解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計不合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差,導(dǎo)電性較差,表面雜質(zhì)較多,表面粗糙不平,質(zhì)量較差,膜的厚度不均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致,工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計合理,鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好,導(dǎo)電性較好,表面雜質(zhì)較少,表面平整,膜的厚度均勻,膜面點(diǎn)各方塊電阻一致,工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0028]盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念,則可對這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以,所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0029]顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種ITO鍍膜工藝,其特征在于,所述工藝包括: 將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃; 將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗; 將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光; 將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗; 將二次清洗后的玻 進(jìn)行表面處理; 將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜; 將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于,所述一次清洗、所述二次清洗均為采用清水進(jìn)行清洗。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于,所述將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理具體包括: 用去離子水超聲清洗30分鐘; 用丙酮超聲清洗30分鐘; 用無水乙醇超聲清洗30分鐘; 用純氮?dú)獯蹈伞?br>
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于,所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體為:將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜,所述真空鍍膜機(jī)設(shè)有傳輸速度控制單元,用于控制基片的移動速度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于,所述將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光具體為:使用A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于,所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體包括: 在玻璃表面進(jìn)行S12鍍膜; 將鍍有S12膜的玻璃傳輸至新的真空室進(jìn)行ITO鍍膜。
【文檔編號】C03C17/23GK104163576SQ201410395714
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年8月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月13日
【發(fā)明者】林華業(yè) 申請人:成都派萊克科技有限公司