本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板承載機(jī)構(gòu)及其使用方法、蒸鍍裝置。

背景技術(shù)：

真空蒸鍍是指在真空環(huán)境中，將待成膜物質(zhì)加熱蒸發(fā)或升華后，使其在低溫工件或基片表面凝結(jié)或沉積，形成鍍層的工藝。在有機(jī)顯示領(lǐng)域，有機(jī)半導(dǎo)體器件如有機(jī)發(fā)光二極管中的有機(jī)功能層大多是使用真空蒸鍍的方式進(jìn)行加工制作，鍍膜工藝的好壞是影響有機(jī)顯示器件功能優(yōu)劣的關(guān)鍵因素。

現(xiàn)有技術(shù)中的蒸鍍?cè)O(shè)備通常將待蒸鍍基板水平放置在真空腔室內(nèi)，其中待蒸鍍基板的待蒸鍍面向下，在待蒸鍍基板的待蒸鍍面上貼合包含有待蒸鍍圖案的掩膜版，蒸鍍?cè)丛O(shè)置在掩膜版的下方，蒸鍍?cè)丛诩ぐl(fā)狀態(tài)下將蒸鍍材料向上蒸發(fā)，其中，蒸鍍材料通過掩膜版上的待蒸鍍圖案中可透過的部分在待蒸鍍基板上沉積，從而在待蒸鍍基板上形成所需的蒸鍍圖案。

由于待蒸鍍基板的中心為待蒸鍍區(qū)域，為了避免對(duì)待蒸鍍區(qū)域的蒸鍍圖案造成影響，對(duì)待蒸鍍基板進(jìn)行承載固定的基板承載機(jī)構(gòu)只能夠與待蒸鍍基板的外側(cè)邊緣相接觸，這樣一來(lái)，待蒸鍍基板的中心就可能由于重力的作用發(fā)生下垂變形，從而影響到待蒸鍍基板與掩膜版之間的對(duì)位精度，進(jìn)而影響到蒸鍍圖案的正確性和鍍膜層的均一性，甚至可能由于待蒸鍍基板的邊緣固定尺寸過小，導(dǎo)致待蒸鍍基板脫落的事故。

通過增加基板承載機(jī)構(gòu)在待蒸鍍基板邊緣的支撐點(diǎn)能夠在一定程度上減小下垂變形量，降低待蒸鍍基板脫落的可能性，但是并不能解決上述問題，尤其是當(dāng)待蒸鍍基板的尺寸較大時(shí)，下垂變形量也會(huì)相應(yīng)增大，現(xiàn)有技術(shù)中還可以采用在待蒸鍍區(qū)域外用粘性膠對(duì)待蒸鍍基板進(jìn)行粘貼的方式，將待蒸鍍基板背離蒸鍍?cè)吹囊粋?cè)與基板承載機(jī)構(gòu)之間粘貼固定，但是這種方式的固定效果有限，待蒸鍍基板在蒸鍍過程中仍然有脫落的風(fēng)險(xiǎn)，而且在蒸鍍完成后基板與膠體分離時(shí)容易造成基板破損，增加次品率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板承載機(jī)構(gòu)及其使用方法、蒸鍍裝置，能夠解決待蒸鍍基板由于承載固定不牢固，而可能導(dǎo)致在蒸鍍過程中由于重力變形而發(fā)生脫落的問題。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例的一方面，提供一種基板承載機(jī)構(gòu)，包括支撐架，承載件，承載件包括位于承載件前端的承載面，用于搭載待蒸鍍基板的邊緣，承載件的后端與支撐架固定連接。下壓件，下壓件的至少一部分設(shè)置于承載件的承載面之上，下壓件在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板的邊緣壓緊在承載件的承載面上。

進(jìn)一步的，下壓件的后端與承載件的后端固定連接，下壓件由彈性材料制成，下壓件的前端在自由狀態(tài)下與承載件的前端之間留有用于置入待蒸鍍基板邊緣的間隙。

優(yōu)選的，承載件設(shè)置有一個(gè)，承載件的承載面沿支撐架的長(zhǎng)度方向延伸為條狀；和/或，下壓件設(shè)置有一個(gè)，下壓件沿支撐架的長(zhǎng)度方向延伸為條狀。

進(jìn)一步的，在承載件的承載面上設(shè)置有防滑結(jié)構(gòu)；和/或，在下壓件與待蒸鍍基板邊緣相接觸的表面設(shè)置有防滑結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步的，基板承載機(jī)構(gòu)還包括驅(qū)動(dòng)裝置，驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)下壓件向承載件的承載面移動(dòng)。

優(yōu)選的，驅(qū)動(dòng)裝置沿支撐架的長(zhǎng)度方向設(shè)置有多個(gè)。

進(jìn)一步的，基板承載機(jī)構(gòu)還包括拉伸部件，拉伸部件連接設(shè)置在支撐架的后端，用于拉動(dòng)支撐架向后移動(dòng)。

本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種基板承載機(jī)構(gòu)的使用方法，包括，將待蒸鍍基板放置在承載件上，其中，待蒸鍍基板的邊緣搭載在承載件的承載面上；向下移動(dòng)下壓件將待蒸鍍基板的邊緣壓緊。

進(jìn)一步的，當(dāng)下壓件由彈性材料制成，且下壓件的后端與承載件的后端固定連接時(shí)，向下移動(dòng)下壓件將待蒸鍍基板的邊緣壓緊包括，向下移動(dòng)下壓件的前端將待蒸鍍基板的邊緣壓緊；向下移動(dòng)下壓件將待蒸鍍基板的邊緣壓緊之后，使用方法還包括，向后移動(dòng)拉伸部件以拉動(dòng)支撐架向后移動(dòng)。

本發(fā)明實(shí)施例的再一方面，提供一種蒸鍍裝置，包括蒸鍍腔室，還包括上述任一項(xiàng)所述的基板承載機(jī)構(gòu)，基板承載機(jī)構(gòu)設(shè)置有至少一組，其中，每一組設(shè)置有兩個(gè)，且以相對(duì)的方向固定連接在蒸鍍腔室內(nèi)。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板承載機(jī)構(gòu)及其使用方法、蒸鍍裝置，包括支撐架，承載件，承載件包括位于承載件前端的承載面，用于搭載待蒸鍍基板的邊緣，承載件的后端與支撐架固定連接。下壓件，下壓件的至少一部分設(shè)置于承載件的承載面之上，下壓件在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板的邊緣壓緊在承載件的承載面上。將承載件的后端連接固定在支撐架上，在承載件之上設(shè)置下壓件，下壓件的至少一部分位于承載面之上，下壓件在下壓狀態(tài)下能夠?qū)⒋翦兓宓倪吘墘壕o在承載件的承載面上，以降低待蒸鍍基板的邊緣由承載件的承載面上脫落的風(fēng)險(xiǎn)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1的俯視圖之一；

圖3為圖1的俯視圖之二；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)中下壓件前端為自由狀態(tài)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)中下壓件前端為下壓狀態(tài)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)中在下壓件與承載面上設(shè)置有防滑結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)中在下壓件與承載面上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為圖7的俯視圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)中在下壓件與承載面上設(shè)置有拉伸部件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為圖9的俯視圖；

圖11為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)的使用方法的流程圖一；

圖12為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)的使用方法的流程圖二；

圖13為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板承載機(jī)構(gòu)的使用方法的流程圖三；

圖14為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

01-基板承載機(jī)構(gòu)01；02-蒸鍍腔室；10-支撐架；20-承載件；201-承載面；30-待蒸鍍基板；40-下壓件；50-防滑結(jié)構(gòu)；60-驅(qū)動(dòng)裝置；70-拉伸部件；W-間隙。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板承載機(jī)構(gòu)，如圖1所示，包括支撐架10，承載件20，承載件20包括位于承載件20前端的承載面201，用于搭載待蒸鍍基板30的邊緣，承載件20的后端與支撐架10固定連接。下壓件40，下壓件40的至少一部分設(shè)置于承載件20的承載面201之上，下壓件40在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊在承載件20的承載面201上。

需要說明的是，第一，承載件20的承載面201用于對(duì)待蒸鍍基板30的邊緣進(jìn)行搭載，在本發(fā)明實(shí)施例中定義承載件20靠近待蒸鍍基板30的一側(cè)為前，背離待蒸鍍基板30的一側(cè)為后，以下對(duì)于前、后的定義與此相同。

第二，本發(fā)明實(shí)施例中支撐架10指的是蒸鍍裝置內(nèi)用于與移動(dòng)部如機(jī)械手相連接的支撐部件，支撐架10可活動(dòng)的設(shè)置在蒸鍍裝置內(nèi)部，用于對(duì)基板承載機(jī)構(gòu)的位置進(jìn)行調(diào)整。因此，支撐架10的形狀應(yīng)該理解為長(zhǎng)條狀，支撐架10沿長(zhǎng)條狀結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度方向?qū)⒒宄休d機(jī)構(gòu)的承載件20后端固定，以保證能夠?qū)Τ休d整個(gè)待蒸鍍基板30的其中一側(cè)邊緣的基板承載機(jī)構(gòu)進(jìn)行固定和移位。由于下壓件40設(shè)置在承載件20的上方，為了能夠?qū)φ麄€(gè)基板承載機(jī)構(gòu)進(jìn)行同時(shí)移動(dòng)，避免分別移動(dòng)承載件20和下壓件40后，還需要重新對(duì)承載件20和下壓件40之間的相對(duì)關(guān)系進(jìn)行調(diào)整確定，可以將下壓件40以可滑動(dòng)連接的方式安裝在支撐架10上，以使得下壓件40在可上下移動(dòng)的基礎(chǔ)上，能夠與支撐架10之間連接共同移動(dòng)。

第三，承載件20至少包括位于前端的承載面201，本發(fā)明實(shí)施例中對(duì)于承載件20上的其他結(jié)構(gòu)不做限定，而且對(duì)于承載件20的形狀也不做具體限定，舉例來(lái)說，如圖2所示，承載件20可以為塊狀，多個(gè)塊狀的承載件20的后端在支撐架10上均布排列固定，多個(gè)塊狀的承載件20的承載面201共同承載待蒸鍍基板30的一側(cè)邊緣?；蛘?，又例如，如圖3所示，承載件20可以為長(zhǎng)條狀，長(zhǎng)條狀的承載件20后端固定連接在支撐架10上，承載件20的承載面201承載待蒸鍍基板30的一側(cè)邊緣。

第四，下壓件40的下壓狀態(tài)指的是，下壓件40受到下壓的力并向下移動(dòng)后的狀態(tài)。本發(fā)明實(shí)施例中對(duì)于下壓件40的具體形狀也未作限定，為了保證下壓件40對(duì)待蒸鍍基板30邊緣的下壓作用，下壓件40的至少一部分應(yīng)該位于承載面201的垂直上方，以保證下壓件40在下壓狀態(tài)下能夠?qū)⒋翦兓?0的邊緣壓緊在承載面上。與承載件20類似的，下壓件40也可以為如圖2所示的塊狀或如圖3所示的長(zhǎng)條狀，且下壓件40的形狀并不限于圖2和圖3中所示的與承載件20的形狀相對(duì)應(yīng)，也就是說，當(dāng)承載件20為如圖2所示的多個(gè)塊狀時(shí)，下壓件40也可以為如圖3中所示的條狀，反之亦然，只要能夠保證下壓件40在下壓狀態(tài)下能夠向待蒸鍍基板30施加向下的力并將待蒸鍍基板30壓緊在承載面201上即可。

此外，由于下壓件40在下壓狀態(tài)下需要與承載面201共同將待蒸鍍基板30的邊緣夾緊，為了增大接觸面以減小局部壓強(qiáng)過大導(dǎo)致待蒸鍍基板30破損，通常下壓件40壓緊發(fā)蒸鍍基板30的部分設(shè)置為與承載面相對(duì)的平面。為了進(jìn)一步降低待蒸鍍基板30破損的風(fēng)險(xiǎn)，同時(shí)提高待蒸鍍基板30的整條邊緣在承載面201上搭載以及在下壓件40下壓壓緊的過程中保持水平面上的高度一致，較為優(yōu)選的方案是如圖3所示的，承載件20與下壓件40均設(shè)置為條狀，即條狀的下壓件40將待蒸鍍基板30的整條邊緣壓緊在條狀的承載面201上，以下的實(shí)施例說明中均以此較為優(yōu)選的形狀結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板承載機(jī)構(gòu)，包括支撐架10，承載件20，承載件20包括位于承載件20前端的承載面201，用于搭載待蒸鍍基板30的邊緣，承載件20的后端與支撐架10固定連接。下壓件40，下壓件40的至少一部分設(shè)置于承載件20的承載面201之上，下壓件40在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊在承載件20的承載面201上。將承載件20的后端連接固定在支撐架10上，在承載件20之上設(shè)置下壓件40，下壓件40的至少一部分位于承載面20之上，下壓件40在下壓狀態(tài)下能夠?qū)⒋翦兓?0的邊緣壓緊在承載件20的承載面201上，以降低待蒸鍍基板30的邊緣由承載件20的承載面201上脫落的風(fēng)險(xiǎn)。

進(jìn)一步的，如圖4所示，下壓件40的后端與承載件20的后端之間固定連接，下壓件40由彈性材料制成，下壓件40的前端在自由狀態(tài)下與承載件20的前端之間留有用于置入待蒸鍍基板30邊緣的間隙W。

下壓件40是由彈性材料制成，下壓件40受力后能夠發(fā)生一定程度的彈性形變，并且在撤銷受力后回彈至自由狀態(tài)，如圖4所示，下壓件40在自由狀態(tài)下后端與承載件20的后端固定連接且前端承載面201之間留有間隙W，間隙W的高度大于待蒸鍍基板30的厚度，待蒸鍍基板30由下壓件40前端與承載件20前端的間隙W水平放入，待蒸鍍基板30的兩相對(duì)側(cè)的邊緣分別置于相對(duì)設(shè)置的基板承載機(jī)構(gòu)的承載面201上。在將待蒸鍍基板30置入間隙W內(nèi)之后，在下壓件40的上方對(duì)下壓件40的前端施加向下的壓力，下壓件40的前端受力向下移動(dòng)，以壓緊待蒸鍍基板30的邊緣，如圖5所示，從而能夠有效降低待蒸鍍基板30由于中心部分的重力作用而發(fā)生下垂形變的程度，從而降低下垂形變過大時(shí)可能導(dǎo)致待蒸鍍基板30的邊緣由承載面201上脫落的風(fēng)險(xiǎn)。

這樣一來(lái)，由于下壓件40的后端固定連接在承載件20的后端不可移動(dòng)，下壓件40的前端在受到下壓作用力時(shí)，能夠沿豎直方向向下移動(dòng)，從而降低了下壓件40與承載件20之間不固定連接時(shí)，向下移動(dòng)的過程中產(chǎn)生橫向位移的可能性，提高了下壓件40在下壓時(shí)運(yùn)動(dòng)軌跡的穩(wěn)定性。

進(jìn)一步的，承載件20與支撐架10為一體結(jié)構(gòu)。這樣能夠進(jìn)一步提高承載件20后端與支撐架10之間的連接穩(wěn)定性。

優(yōu)選的，如圖3所示，承載件20設(shè)置有一個(gè)，承載件20的承載面201沿支撐架10的長(zhǎng)度方向延伸為條狀；和/或，下壓件40設(shè)置有一個(gè)，下壓件40沿支撐架10的長(zhǎng)度方向延伸為條狀。

在上述對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的具體說明中，已經(jīng)說明了支撐架10應(yīng)該理解為條狀結(jié)構(gòu)，在此基礎(chǔ)上，較為優(yōu)選的，承載件20僅設(shè)置一個(gè)，承載件20的承載面201也設(shè)置為條狀(進(jìn)一步優(yōu)選的，承載件20整體均為條狀)，并且條狀承載面201的長(zhǎng)度方向與支撐架201的長(zhǎng)度方向相同。同樣的，下壓件40也僅設(shè)置有一個(gè)，下壓件40設(shè)置為條狀，并且條狀下壓件40長(zhǎng)度方向與支撐架201的長(zhǎng)度方向相同。

這樣一來(lái)，一方面，由于支撐架10、承載件20和下壓件40均為條狀且支撐架10與承載件20之間、承載件20與下壓件40之間均沿長(zhǎng)度方向固定連接，相互之間的固定穩(wěn)定性好；另一方面，承載面201和下壓件40與待蒸鍍基板30之間均為面接觸，進(jìn)一步提高了待蒸鍍基板30夾緊在承載面201和下壓件40之間的邊緣整體受力均勻性。

進(jìn)一步的，如圖6所示，在承載件20的承載面201上設(shè)置有防滑結(jié)構(gòu)50；和/或，在下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面設(shè)置有防滑結(jié)構(gòu)50。

需要說明的是，在本發(fā)明實(shí)施例中所述的防滑結(jié)構(gòu)50，可以是在承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面上涂覆的防滑材料層，也可以是在承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面上加工的一層能夠起到增加摩擦力的結(jié)構(gòu)層，例如，凹凸結(jié)構(gòu)層。

通過在承載件20的承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面上設(shè)置防滑結(jié)構(gòu)50，能夠提高待蒸鍍基板30在被壓緊的狀態(tài)下與承載件20的承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面之間的摩擦阻力，從而進(jìn)一步降低待蒸鍍基板30邊緣由于待蒸鍍基板30自身的重力下垂而由承載件20的承載面201和下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面之間花落的風(fēng)險(xiǎn)。

進(jìn)一步的，如圖7所示，基板承載機(jī)構(gòu)還包括驅(qū)動(dòng)裝置60，驅(qū)動(dòng)裝置60驅(qū)動(dòng)下壓件40向承載件20的承載面201移動(dòng)。

通過驅(qū)動(dòng)裝置60驅(qū)動(dòng)下壓件40的移動(dòng)，能夠提高下壓件40移動(dòng)方向的準(zhǔn)確性和移動(dòng)速度的穩(wěn)定性，降低由于下壓件40向下移動(dòng)速度過快而可能對(duì)待蒸鍍基板30邊緣造成的碰傷或壓傷。

優(yōu)選的，驅(qū)動(dòng)裝置60沿支撐架10的長(zhǎng)度方向設(shè)置有多個(gè)。

例如，如圖8所示，驅(qū)動(dòng)裝置60沿支撐架10的長(zhǎng)度方向設(shè)置有4個(gè)。這樣一來(lái)，4個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置60同時(shí)驅(qū)動(dòng)下壓件40的移動(dòng)，能夠進(jìn)一步提高下壓件40上各處的受力均一性，以使得下壓件40在向下移動(dòng)至與待蒸鍍基板30的上表面接觸時(shí)為面接觸，從而降低下壓件40在待蒸鍍基板30上的局部壓力過大而導(dǎo)致對(duì)待蒸鍍基板30造成壓傷的風(fēng)險(xiǎn)。

需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例中對(duì)于驅(qū)動(dòng)裝置60的具體選取不做限制，例如使用氣缸、液壓油缸、直線電機(jī)等均可，只要能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)下壓件40在直線方向上勻速驅(qū)動(dòng)即可。

進(jìn)一步的，如圖9所示，基板承載機(jī)構(gòu)還包括拉伸部件70，拉伸部件70連接設(shè)置在支撐架10的后端，用于拉動(dòng)支撐架10向后移動(dòng)。

如圖9所示，在下壓件40的后端與承載件20的后端固定連接的情況下，在支撐架10的后端連接設(shè)置拉伸部件70。其中優(yōu)選的，拉伸部件70可以與驅(qū)動(dòng)裝置60選用相同的器件，例如氣缸、液壓油缸、直線電機(jī)等。

這樣一來(lái)，在下壓件40的前端下壓以將待蒸鍍基板30壓緊在承載面201上之后，驅(qū)動(dòng)拉伸部件70工作，將支撐架10向后拉動(dòng)，支撐架10會(huì)帶動(dòng)承載件20以及與承載件20固定連接的下壓件40共同向后移動(dòng)，此時(shí)，夾緊在承載面201和下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面之間的待蒸鍍基板30也隨之受到向后的拉力(如圖9中箭頭所示)，在拉力的作用下，待蒸鍍基板30中心的重力下垂作用力被抵消掉一部分，從而減小了下垂形變的程度。

優(yōu)選的，拉伸部件70沿所述支撐架10的長(zhǎng)度方向設(shè)置有多個(gè)。

如圖10所示，拉伸部件70沿所述支撐架10的長(zhǎng)度方向設(shè)置有3個(gè)。這樣一來(lái)，3個(gè)拉伸部件70同時(shí)驅(qū)動(dòng)支撐架10的移動(dòng)，能夠進(jìn)一步提高支撐架10上各處的受力均一性，以使得支撐架10在向后移動(dòng)的過程中，沿支撐架10的長(zhǎng)度方向上的移動(dòng)速度和移動(dòng)距離相同，進(jìn)而使得待蒸鍍基板30的邊緣上各處的受力以及受力后的移動(dòng)距離相同，提高待蒸鍍基板30的移動(dòng)精確度。

本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種基板承載機(jī)構(gòu)的使用方法，如圖11所示，包括，

S101、將待蒸鍍基板30放置在承載件20上，其中，待蒸鍍基板30的邊緣搭載在承載件20的承載面201上。

S102、向下移動(dòng)下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊。

這樣一來(lái)，首先，將待蒸鍍基板30放置在承載件20上，以使得待蒸鍍基板30的邊緣搭載在承載件20的承載面201上，對(duì)待蒸鍍基板30的一側(cè)進(jìn)行支撐。然后，向下移動(dòng)下壓件40以使得下壓件40對(duì)待蒸鍍基板30的邊緣施加向下的壓力并進(jìn)一步將待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201與下壓件40之間壓緊。

如圖9所示，當(dāng)在待蒸鍍基板30相對(duì)的兩個(gè)側(cè)邊均設(shè)置基板承載機(jī)構(gòu)時(shí)，待蒸鍍基板30相對(duì)的兩側(cè)邊緣分別放置在相對(duì)設(shè)置的基板承載機(jī)構(gòu)的承載面201上，以使得整個(gè)待蒸鍍基板30通過兩側(cè)邊的支撐而放置于蒸鍍腔室內(nèi)。此時(shí)，由于待蒸鍍基板30需要在蒸鍍腔室內(nèi)對(duì)其下表面進(jìn)行蒸鍍，因此，基板承載機(jī)構(gòu)對(duì)待蒸鍍基板30的支撐僅能夠施加在待蒸鍍基板30相對(duì)的兩邊緣位置(即蒸鍍區(qū)域以外的部分)，中間的蒸鍍區(qū)域部分的待蒸鍍基板30由于重力的原因會(huì)產(chǎn)生下垂變形，下垂變形會(huì)帶動(dòng)待蒸鍍基板30邊緣在承載面201上的向前移動(dòng)。由于下壓件40下壓后能夠?qū)⒋翦兓?0的邊緣在承載面201與下壓件40之間壓緊，這樣一來(lái)，待蒸鍍基板30由于重力作用下垂的力無(wú)法拉動(dòng)待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201上的向前移動(dòng)，從而也就能夠有效的減輕待蒸鍍基板30由于重力作用而在中間的蒸鍍區(qū)域部分產(chǎn)生的下垂變形程度。

進(jìn)一步的，當(dāng)下壓件40由彈性材料制成，且下壓件40的后端與承載件20的后端固定連接時(shí)，如圖12所示，向下移動(dòng)下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊包括，向下移動(dòng)下壓件40的前端將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊；如圖13所示，向下移動(dòng)下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊之后，使用方法還包括，向后移動(dòng)拉伸部件70以拉動(dòng)支撐架10向后移動(dòng)。

由于下壓件40由彈性材料制成，且下壓件40的后端與承載件20的后端固定連接，因此，在此結(jié)構(gòu)中，向下移動(dòng)下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊即為向下移動(dòng)下壓件40的前端將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊。

這樣一來(lái)，如圖9所示，在將待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201與下壓件40之間壓緊之后，向后移動(dòng)拉伸部件70以拉動(dòng)支撐架10向后移動(dòng)，能夠?qū)Υ翦兓?0施加向后的拉力，以使得待蒸鍍基板30的下垂變形量得到一定的恢復(fù)。

在上述對(duì)于基板承載機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)和工作方式的描述中，已經(jīng)對(duì)基板承載機(jī)構(gòu)對(duì)于待蒸鍍基板30的承載、壓緊和拉伸方法進(jìn)行了詳細(xì)的說明，此處不再贅述。

本發(fā)明實(shí)施例的再一方面，提供一種蒸鍍裝置，如圖14所示，包括蒸鍍腔室02，還包括上述任一項(xiàng)的基板承載機(jī)構(gòu)01，基板承載機(jī)構(gòu)01設(shè)置有至少一組，其中，每一組設(shè)置有兩個(gè)，且以相對(duì)的方向固定連接在蒸鍍腔室02內(nèi)(其中，基板承載機(jī)構(gòu)01的固定連接方式在圖14中未示出，蒸鍍腔室02內(nèi)設(shè)置的其他蒸鍍部件，例如蒸鍍?cè)吹染鶠槭境?。

可選的，還可以在蒸鍍腔室02中同一水平方向上設(shè)置相互垂直的兩組基板承載機(jī)構(gòu)01，以對(duì)待蒸鍍基板30個(gè)相互垂直的兩個(gè)方向均進(jìn)行拉伸以減小下垂形變量。兩組基板承載機(jī)構(gòu)01的設(shè)置方式在以上實(shí)施例中已經(jīng)進(jìn)行了詳細(xì)的說明，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。