煎烤裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及煎烤設(shè)備領(lǐng)域，尤其是涉及一種煎烤裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]相關(guān)技術(shù)中指出，具有方形烤盤的煎烤機在煎烤的過程中，烤盤的溫度場常常分布不均，致使位于烤盤不同位置處的食物產(chǎn)生成熟度不一致的問題，例如，烤盤中心的位置溫度偏高，烤盤邊緣的位置溫度偏低，使得位于烤盤中心處的食物的熟透程度與位于烤盤邊緣處的食物的熟透程度不一致，致使烤盤邊緣位置處的食物常出現(xiàn)成熟較慢、成熟不均勻、或者不熟的問題，從而延長了煎烤時間，而且，食物的上表面也常常出現(xiàn)不熟或者成熟不均勻的現(xiàn)象，尤其是在烙制薄餅的過程中，薄餅的上表面容易發(fā)白，不易上色，煎烤效果不好。另外，在煎烤的過程中，常常出現(xiàn)水分損失較大的問題，導(dǎo)致煎烤出的食物發(fā)干、口感偏硬。綜上所述，相關(guān)技術(shù)中的煎烤機存在食物受熱不均、煎烤時間較長、煎烤效果不好等問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明在于提出一種煎烤裝置，所述煎烤裝置的煎烤效果好。
[0004]根據(jù)本發(fā)明的煎烤裝置，包括:下烤盤；上烤盤，所述上烤盤可轉(zhuǎn)動地連接至所述下烤盤，且所述上烤盤與所述下烤盤之間限定出煎烤腔室，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態(tài)時所述煎烤腔室的高度為10-15mm，所述上烤盤和所述下烤盤均為方形烤盤；發(fā)熱管，所述發(fā)熱管設(shè)在所述上烤盤和所述下烤盤的至少一個內(nèi)且盤繞設(shè)置，所述發(fā)熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的內(nèi)側(cè)壁之間的最近距離不大于50mm。
[0005]根據(jù)本發(fā)明的煎烤裝置，通過將煎烤腔室的高度限定在10_15mm的范圍內(nèi)，從而可以提高食物上表面的煎烤效果，使得食物整體可以均勻地受熱、成熟和上色，且通過將發(fā)熱管的中心線與相應(yīng)烤盤內(nèi)側(cè)壁之間的距離限定在50_以內(nèi)，從而可以提高置于烤盤邊緣處的食物的煎烤效果，且可以減小烤盤的中心與邊緣的溫差，使得烤盤整體受熱均勻，提高食物整體的煎烤效果。
[0006]具體地，所述上烤盤和所述下烤盤均為大體矩形烤盤。
[0007]具體地，所述發(fā)熱管在其所在的所述上烤盤和/或下烤盤內(nèi)盤繞成外輪廓為大體矩形的形狀。
[0008]具體地，所述發(fā)熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的相對兩個內(nèi)側(cè)壁之間的距離相等。
[0009]具體地，所述發(fā)熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的四個內(nèi)側(cè)壁之間的距離均相等。
[0010]具體地，在所述上烤盤和所述下烤盤內(nèi)均設(shè)置所述發(fā)熱管且位置對應(yīng)。
[0011]具體地，所述上烤盤的內(nèi)表面垂直地延伸出環(huán)形的鎖水圈，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態(tài)時所述鎖水圈的下端與所述下烤盤的內(nèi)表面之間的距離小于等于7_。
[0012]具體地，所述上烤盤和/或下烤盤的內(nèi)表面上形成有彎曲的蒸汽通道。
[0013]具體地，所述蒸汽通道形成為螺旋形狀。
[0014]具體地，所述上烤盤和/或下烤盤的內(nèi)表面上設(shè)有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋，所述蒸汽通道由所述凸筋之間限定出。
[0015]具體地，所述凸筋包括依次連接的且徑向間隔開的多條回形凸筋，且所述蒸汽通道形成為方螺旋形狀。
[0016]具體地，所述上烤盤和/或下烤盤的內(nèi)表面上具有多個凸出部，所述多個凸出部之間限定出所述蒸汽通道。
[0017]具體地，所述多個凸出部呈多排多列排列、或呈環(huán)形陣列排列。
[0018]具體地，所述凸出部之間的距離Dl滿足:2mm ^ Dl ^ 5mm。
[0019]具體地，所述凸出部的高度Hl滿足:0.5mm ^ Hl ^ 1.5mm。
[0020]本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。
【附圖說明】
[0021]圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的煎烤裝置的打開狀態(tài)示意圖；
[0022]圖2是圖1中所示的煎烤裝置的關(guān)閉狀態(tài)示意圖；
[0023]圖3是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的下烤盤的示意圖；
[0024]圖4是沿圖3中A-A線的剖面圖；
[0025]圖5是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的下烤盤的示意圖；
[0026]圖6是沿圖5中B-B線的剖面圖；
[0027]圖7是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的下烤盤的示意圖；
[0028]圖8是圖7中圈示的C部放大圖；
[0029]圖9是沿圖7中D-D線的剖面圖；
[0030]圖10是圖9中圈示的E部放大圖。
[0031]附圖標記:
[0032]100:煎烤裝置；101:煎烤腔室；
[0033]1:上烤盤；11:上煎烤壁面；12:上內(nèi)側(cè)壁；13:鎖水圈；
[0034]2:下烤盤；21:下煎烤壁面；
[0035]22:下內(nèi)側(cè)壁；221:第一下內(nèi)側(cè)壁；222:第二下內(nèi)側(cè)壁；
[0036]223:第三下內(nèi)側(cè)壁；224:第四下內(nèi)側(cè)壁；
[0037]23:下固定槽；
[0038]24:凸筋；241:第一圈第一凸筋；242:第一圈第二凸筋；
[0039]243:第一圈第三凸筋；244:第一圈第四凸筋；
[0040]25:蒸汽通道；251:第一圈第一蒸汽通道段；
[0041]252:第一圈第二蒸汽通道段；253:第一圈第三蒸汽通道段；
[0042]254:第一圈第四蒸汽通道段；255:最后一圈第一蒸汽通道段；
[0043]256:蒸汽通道出口；
[0044]26:凸出部；
[0045]3:發(fā)熱管；31:用于固定第一管段的下固定槽的中心線；
[0046]32:用于固定第二管段的下固定槽的中心線；
[0047]33:用于固定第三管段的下固定槽的中心線；
[0048]34:用于固定第四管段的下固定槽的中心線；
[0049]4:鉸鏈結(jié)構(gòu)；
[0050]200:食物。
【具體實施方式】
[0051]下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0052]下文的公開提供了許多不同的實施例或例子用來實現(xiàn)本發(fā)明的不同結(jié)構(gòu)。為了簡化本發(fā)明的公開，下文中對特定例子的部件和設(shè)置進行描述。當(dāng)然，它們僅僅為示例，并且目的不在于限制本發(fā)明。此外，本發(fā)明可以在不同例子中重復(fù)參考數(shù)字和/或字母。這種重復(fù)是為了簡化和清楚的目的，其本身不指示所討論各種實施例和/或設(shè)置之間的關(guān)系。此夕卜，本發(fā)明提供了的各種特定的工藝和材料的例子，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以意識到其他工藝的可應(yīng)用于性和/或其他材料的使用。
[0053]下面參考圖1-圖10描述根據(jù)本發(fā)明實施例的煎烤裝置100。
[0054]如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的煎烤裝置100，包括:下烤盤2、上烤盤I以及發(fā)熱管3。其中，上烤盤I和下烤盤2均為方形烤盤。這里，需要說明的是，在本文的描述中，術(shù)語“方形”指的是長方形和正方形的總稱。
[0055]具體地，上烤盤I可轉(zhuǎn)動地連接至下烤盤2，且上烤盤I與下烤盤2之間限定出煎烤腔室101。如圖1和圖2所示，上烤盤I在打開煎烤腔室101的打開位置和關(guān)閉煎烤腔室101的關(guān)閉位置之間繞旋轉(zhuǎn)軸線可轉(zhuǎn)動地設(shè)在下烤盤2的上面，例如，上烤盤I的一端可通過鉸鏈結(jié)構(gòu)4與下烤盤2的一端構(gòu)成可轉(zhuǎn)動地連接，其中，上烤盤I與下烤盤2彼此相對的兩個表面之間，也就是說，上烤盤I與下烤盤2彼此鄰近的兩個面之間限定出煎烤腔室101，當(dāng)上烤盤I位于關(guān)閉位置時，上烤盤I與下烤盤2共同限定出封閉的煎烤腔室101，當(dāng)上烤盤I位于打開位置時，煎烤腔室101敞開。
[0056]使用時，將下烤盤2放置在安裝平面(例如水平桌面)上，當(dāng)上烤盤I位于關(guān)閉位置時，如圖2所示，上烤盤I與下烤盤2之間的夾角優(yōu)選為0°，此時上烤盤I蓋合在下烤盤2的上面，以與下烤盤2共同限定出封閉的煎烤腔室101 ;當(dāng)上烤盤I位于打開位置時，如圖1所示，上烤盤I與下烤盤2之間的夾角可以為鈍角，例如上烤盤I和下烤盤2之間的夾角可以為100°，從而可以使煎烤腔室101敞開。另外，需要說明的是，在上烤盤I位于打開位置時，上烤盤I與下烤盤2之間的夾角也可為其它角