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      一種易攀爬污水井的制作方法

      文檔序號:12901842閱讀:306來源:國知局

      本發(fā)明屬于污水處理技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種易攀爬污水井。



      背景技術(shù):

      目前,隨著工業(yè)和生活水平的快速發(fā)展,其排放的污水量也日益加大,工業(yè)污水中多含有各種雜質(zhì)和有毒有害物質(zhì),不能直接排放,否則對環(huán)境破壞和對人體的傷害非常大,現(xiàn)有的易攀爬污水井多存在容易堵塞,難以清理的問題,為此,需要一種能夠解決上述問題的易攀爬污水井,使其不易堵塞,容易清理,滿足實際情況的需要。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于,提供一種易攀爬污水井,解決容易堵塞,難以清理的問題,使其不易堵塞,容易清理,滿足實際情況的需要。

      為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種易攀爬污水井,包括圓形的井體,井體的一側(cè)的上部連接設(shè)有進污管,進污管向下傾斜設(shè)置,井體的另一側(cè)的下部設(shè)有排污管,排污管在井體內(nèi)設(shè)有向下彎曲30°的斜頭端;井體頂部的井口處設(shè)有井蓋,井蓋包括圓錐環(huán)形的井蓋支架和連接在井蓋支架上部的圓形的蓋體,井蓋支架的側(cè)壁上設(shè)有均勻分布的透過孔,蓋體與井蓋支架相連接的位置處設(shè)有密封圈;井口處位于蓋體的下面還設(shè)有向下凹陷的圓弧形的過濾網(wǎng);井體的內(nèi)壁上沿豎直方向上均勻設(shè)有攀梯,攀梯上套設(shè)有防滑層。

      在以上方案中優(yōu)選的是,進污管向下傾斜27°度設(shè)置。

      還可以優(yōu)選的是,井蓋的左右兩側(cè)對稱設(shè)置有半圓形扶手。

      還可以優(yōu)選的是,井體內(nèi)設(shè)有攪拌器。

      本發(fā)明的易攀爬污水井,能夠解決容易堵塞,難以清理的問題,其不易堵塞,容易清理,且能夠更好的沉淀污物,便于維修維護,滿足實際情況的需要。

      附圖說明

      下面結(jié)合附圖和實施方式對本發(fā)明作進一步說明:

      圖1是本發(fā)明的易攀爬污水井的結(jié)構(gòu)剖視圖。

      圖中,1為井體,2為進污管,3為排污管,4為斜頭端,5為井蓋支架,6為蓋體,7為密封圈,8為過濾網(wǎng),9為攀梯。

      具體實施方式

      為了更好地理解本發(fā)明,下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作了詳細說明。但是,顯然可對本發(fā)明進行不同的變型和改型而不超出后附權(quán)利要求限定的本發(fā)明更寬的精神和范圍。因此,以下實施例具有例示性的而沒有限制的含義。

      實施例1:

      一種易攀爬污水井,包括圓形的井體1,井體1的一側(cè)的上部連接設(shè)有進污管2,進污管2向下傾斜設(shè)置,井體1的另一側(cè)的下部設(shè)有排污管3,排污管3在井體1內(nèi)設(shè)有向下彎曲30°的斜頭端4;井體1頂部的井口處設(shè)有井蓋,井蓋包括圓錐環(huán)形的井蓋支架5和連接在井蓋支架5上部的圓形的蓋體6,井蓋支架5的側(cè)壁上設(shè)有均勻分布的透過孔,蓋體6與井蓋支架5相連接的位置處設(shè)有密封圈7;井口處位于蓋體6的下面還設(shè)有向下凹陷的圓弧形的過濾網(wǎng)8;井體1的內(nèi)壁上沿豎直方向上均勻設(shè)有攀梯9,攀梯9上套設(shè)有防滑層。



      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及一種易攀爬污水井,包括圓形的井體,井體的一側(cè)的上部連接設(shè)有進污管,進污管向下傾斜設(shè)置,井體的另一側(cè)的下部設(shè)有排污管,排污管在井體內(nèi)設(shè)有向下彎曲30°的斜頭端;井體頂部的井口處設(shè)有井蓋,井蓋包括圓錐環(huán)形的井蓋支架和連接在井蓋支架上部的圓形的蓋體,井蓋支架的側(cè)壁上設(shè)有均勻分布的透過孔,蓋體與井蓋支架相連接的位置處設(shè)有密封圈;井口處位于蓋體的下面還設(shè)有向下凹陷的圓弧形的過濾網(wǎng);井體的內(nèi)壁上沿豎直方向上均勻設(shè)有攀梯,攀梯上套設(shè)有防滑層;其不易堵塞,容易清理,且能夠更好的沉淀污物。

      技術(shù)研發(fā)人員:周玉禮
      受保護的技術(shù)使用者:周玉禮
      技術(shù)研發(fā)日:2017.06.23
      技術(shù)公布日:2017.11.10
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