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      游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置的制作方法

      文檔序號:2388668閱讀:545來源:國知局
      專利名稱:游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型是一種游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置,屬于高速激光精密刻劃精度控制技術(shù)領(lǐng)域。
      游標卡尺激光刻劃的技術(shù)難點在于保證游標卡尺刻劃線紋的間距精度。一般而言,游標卡尺激光刻劃機床的光學掃描系統(tǒng)由X、Y二維掃描振鏡和F-θ平場聚焦透鏡組成。由于振鏡電控系統(tǒng)中不可避免存在溫度漂移、零點漂移、及其他電信號干擾,因此很難保證線紋刻劃時,要求位置固定為45°的X振鏡不產(chǎn)生偶然的微小角度偏移,而此振鏡的位置偏移,直接影響到刻劃線紋的間距精度。為解決振鏡因電控系統(tǒng)的溫度漂移、零點漂移、及其他電信號干擾而引起偶然偏轉(zhuǎn),一般的解決方案是在振鏡的電控系統(tǒng)中加入附加電路,穩(wěn)定工作點,排除干擾。但這種方案的缺點在于電路的復雜性增加,而且也不能完全避免零點漂移和干擾的產(chǎn)生,從而不能保證振鏡不產(chǎn)生偶然的位置偏轉(zhuǎn)。
      本實用新型的目的在于克服上述已有技術(shù)的不足,而提供一種根據(jù)刻劃內(nèi)容的不同,能自動在線紋刻劃時,由一個45°反身鏡代替X振鏡工作,從而完全排除由于振鏡電控系統(tǒng)溫度漂移、零點漂移、及其他電信號干擾而引起刻劃間距誤差的游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置。
      本實用新型的目的可以通過以下技術(shù)措施實現(xiàn)X振鏡4和45°反射鏡3固定安裝在可移動進行工位互換的支架2上,X振鏡4的零點位置和45°反射鏡3在同一平面上。
      本實用新型的目的還可以通過以下技術(shù)措施實現(xiàn)支架2連接到汽缸5的活塞桿,汽缸5經(jīng)電磁換向閥6與氣源8連接,電磁換向閥6的控制信號由計算機7發(fā)出。
      本實用新型相比已有技術(shù)具有以下優(yōu)點1、游標卡尺線紋時,由Y振鏡1和支架3上的45°反射鏡2進行一維掃描,完成刻劃。避免了由于振鏡電控系統(tǒng)溫度漂移、零點漂移、及其他電信號干擾而引起刻劃間距誤差,提高刻劃精度。
      2、刻劃字符、商標等二維圖形時,由Y振鏡1和支架2上的X振鏡4進行二維掃描,完成刻劃。
      3、支架2上的X振鏡4和45°反射鏡3的工位自動互換由汽缸5及活塞桿的進給運動自動完成,計算機7對汽缸的進給運動及其連接的支架2的運動進行程序控制。
      附圖
      為本實用新型的結(jié)構(gòu)圖。
      本實用新型
      以下結(jié)合附圖作進一步說明。
      如圖所示,45°反射鏡2和X振鏡4安裝在可移動,進行工位互換的支架3上,X振鏡4的零點位置和45°反射鏡3在同一平面上。支架3連接氣缸5的活塞桿。氣缸5經(jīng)電磁換向閥6與氣源8連接。計算機7控制電磁換向閥6的運動,從而對氣缸5的進給運動進行程序控制??虅澯螛丝ǔ呔€紋時,為保證刻劃線紋間距精度,計算機7控制電磁換向閥6,使氣缸5的活塞桿向Y負向進給,安裝在支架3上的45°反射鏡2自動到達工作位置。激光束經(jīng)Y振鏡1、45°反射鏡2反射,F(xiàn)-θ平場聚焦透鏡9聚焦到工件上。Y振鏡1偏轉(zhuǎn),激光束在工件上刻劃出一條Y向的線紋??虅澴址⑸虡藭r,計算機7控制電磁換向閥6,使氣缸的活塞桿向Y正向進給,安裝在支架3上的X振鏡4自動到達工作位置,由Y振鏡1、X振鏡4實現(xiàn)二維掃描,完成刻劃。
      權(quán)利要求1.一種游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置,激光束經(jīng)Y振鏡1和X振鏡4,F-θ平場聚焦透鏡9聚焦到工件上,實現(xiàn)一維掃描或二維掃描,其特征在于X振鏡4和45°反射鏡2固定安裝在可移動進行工位互換的支架3上,X振鏡4的零點位置和45°反射鏡2在同一平面上。
      2.如權(quán)利要求書1所述的游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置,其特征在于支架3連接氣缸5的活塞桿,氣缸5經(jīng)電磁換向閥6與氣源8連接,電磁換向閥6的控制信號由計算機7發(fā)出。
      專利摘要游標卡尺激光刻劃精度自動控制裝置,屬于激光精密刻劃裝置的進一步改進。其特征是X振鏡和45°反射鏡固定安裝在可移動進行工位互換的支架上,X振鏡的零點位置和45°反射鏡在同一平面上,由計算機控制電磁換向閥的運動,從而對氣缸的進給運動及其連接的支架運動進行程序控制。具有游標卡尺刻劃精度高的特點。
      文檔編號B25H7/04GK2447129SQ00244380
      公開日2001年9月12日 申請日期2000年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2000年9月6日
      發(fā)明者胡建華, 劉長國, 張勤, 鄧和林, 安雨生, 文代彬, 尹強, 劉 東, 蘭宦偉, 齊曉志 申請人:中國科學院光電技術(shù)研究所
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