專利名稱：吸附裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及需要使用基板的制造領域，特別涉及一種吸附裝置。
背景技術：
在需要使用基板的制造領域中，如在液晶顯示裝置的制造過程中，需要使用不同的裝置對基板進行不同的加工，在對基板進行不同的加工的過程中，需要對基板進行固定?，F(xiàn)有的基板的固定是通過吸附裝置如放置基板的基臺的吸附栓或真空孔進行吸附固定。但是這兩種吸附方式吸附的面積比較小，固定效果不夠理想；如果通過增加吸附栓和真空孔的方式保證固定效果，需要的吸附栓和真空孔比較多，加工的復雜程度比較高。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供了一種吸附裝置，增加吸附面積，從而改善了吸附固定基板的效果，同時，吸附槽的加工比較簡單。為達到上述目的，本實用新型提供以下技術方案一種吸附裝置，包括載放臺，所述載放臺的上表面劃分有一個或多個吸附區(qū)域；每個所述吸附區(qū)域凹設有吸附槽，每個所述吸附槽的槽底設置有一個或多個真空孔；抽真空單元，所述抽真空單元與每個所述真空孔相連通。優(yōu)選地，每個所述吸附區(qū)域包括p個相互平行的吸附槽；其中，P是大于I的自然數(shù)。優(yōu)選地，所述吸附槽包括橫向吸附槽和縱向吸附槽；每個所述吸附區(qū)域包括m個相互平行的橫向吸附槽和n個相互平行的縱向吸附槽，橫向吸附槽和縱向吸附槽相交叉且交叉處相連通，交叉處為mXn個；其中，m和n是大于I的自然數(shù)。優(yōu)選地，所述橫向吸附槽之間等間距分布，所述縱向吸附槽之間等間距分布，且最邊緣的交叉處位于所述橫向吸附槽和所述縱向吸附槽的端部。優(yōu)選地，每個所述真空孔設置在交叉處的槽底。優(yōu)選地，所述多個真空孔均勻分布。優(yōu)選地，所述多個真空孔圍合形成的圖形是中心對稱圖形且是軸對稱圖形。優(yōu)選地，每個所述交叉處的槽底設置有一個真空孔。優(yōu)選地，所述載放臺的上表面劃分有I個吸附區(qū)域，所述吸附區(qū)域包括6個相互平行的橫向吸附槽和6個相互平行的縱向吸附槽；所述第I個，第3個，第4個和第6個橫向吸附槽與第I個，第3個，第4個和第6個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔；所述第2個和第5個橫向吸附槽與所述第2個和第5個縱向吸附槽的交叉處的槽
底設置有真空孔。優(yōu)選地，所述載放臺的上表面劃分有四個吸附區(qū)域，所述四個吸附區(qū)域按陣列兩行X兩列分布；每個所述吸附區(qū)域包括3個相互平行的橫向吸附槽和3個相互平行的縱向吸附槽；第一行第一列和第二行第二列的吸附區(qū)域的所述第I個橫向吸附槽與第I個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第3個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔；第一行第二列和第二行第一列的吸附區(qū)域的所述第I個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第3個橫向吸附槽與第I個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置
有真空孔。優(yōu)選地，還包括真空監(jiān)測單元，所述真空監(jiān)測單元與吸附區(qū)域一一對應，每個真空監(jiān)測單元和與之對應的吸附區(qū)域的吸附槽相連接。本實用新型提供的吸附裝置，在需要固定基板的時候，將基板放置在載放臺上，基板與載放臺的上表面相接觸；啟動抽真空單元,抽真空單元通過每個真空孔對每個吸附槽與基板之間進行抽真空，從而將基板吸附固定在載放臺上。與現(xiàn)有的僅依靠真空孔進行吸附固定相比，本實用新型的吸附裝置采用吸附槽這個簡單的結(jié)構，增加吸附面積，從而改善了吸附固定基板的效果，同時，吸附槽的加工比較簡單。

圖1為本實用新型的吸附裝置的一個實施例的示意圖；圖2為本實用新型的吸附裝置的另一個實施例的示意圖。主要元件附圖標記說明100載放臺，111橫向吸附槽，112縱向吸附槽，113交叉處，200 真空孔。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。本實用新型的第一個實施例的吸附裝置，如圖1和圖2所示，包括載放臺100，所述載放臺100的上表面劃分有一個或多個吸附區(qū)域；每個吸附區(qū)域凹設有吸附槽，每個吸附槽的槽底設置有一個或多個真空孔200 ；抽真空單元，所述抽真空單元與每個真空孔200相連通。本實施例的吸附裝置，在需要固定基板的時候，將基板放置在載放臺100上，基板與載放臺100的上表面相接觸；啟動抽真空單元,抽真空單元通過每個真空孔200對每個吸附槽與基板之間進行抽真空，從而將基板吸附固定在載放臺100上。與現(xiàn)有的僅依靠真空孔進行吸附固定相比，本實施例的吸附裝置采用吸附槽這個簡單的結(jié)構，增加吸附面積，從而改善了吸附固定基板的效果，同時，吸附槽的加工比較簡單。[0033]作為本實用新型的第二個實施例，本實施例在第一個實施例的基礎上，對吸附槽的一種優(yōu)選的方式進行闡述每個吸附區(qū)域包括p個相互平行的吸附槽；其中，p是大于I的自然數(shù)。每個吸附區(qū)域的吸附槽的數(shù)量，決定吸附固定的效果；相互平行的吸附槽在加工時比較整體，容易加工。作為本實用新型的第三個實施例，本實施例在第一個實施例的基礎上，對吸附槽的另一種優(yōu)選的方式進行闡述如圖1和圖2所示，所述吸附槽包括橫向吸附槽111和縱向吸附槽112;每個吸附區(qū)域包括m個相互平行的橫向吸附槽111和n個相互平行的縱向吸附槽112，橫向吸附槽111和縱向吸附槽112相交叉且交叉處113相連通，交叉處113為mXn個；其中，m和n是大于I的自然數(shù)。這樣分布的橫向吸附槽和縱向吸附槽，使得基板受到的吸附力比較均勻。進一步地，橫向吸附槽111之間等間距分布，縱向吸附槽112之間等間距分布，且最邊緣的交叉處113位于橫向吸附槽111和縱向吸附槽112的端部。作為本實用新型的第四個實施例，本實施例在第三個實施例的基礎上，對真空孔進一步進行闡述每個真空孔200設置在交叉處113的槽底。位于交叉處113的槽底的真空孔200，不僅能夠?qū)M向吸附槽111進行抽真空，而且能對縱向吸附槽112進行抽真空。進一步地，所述多個真空孔200均勻分布。均勻分布的多個真空孔200使得基板受到的吸附力均勻。進一步地，所述多個真空孔200圍合形成的圖形是中心對稱圖形且是軸對稱圖形。作為本實用新型的第五個實施例，本實施例在第三個實施例的基礎上，對真空孔進一步進行闡述每個所述交叉處113的槽底設置有一個真空孔200。這樣，可以最大程度地增加對基板的固定吸附。作為本實用新型的第六個實施例，本實施例在第四個實施例的基礎上，對吸附裝置進一步進行闡述如圖1所示，所述載放臺100的上表面劃分有I個吸附區(qū)域，所述吸附區(qū)域包括6個相互平行的橫向吸附槽111和6個相互平行的縱向吸附槽112 ；所述第I個，第3個，第4個和第6個橫向吸附槽111與第I個，第3個，第4個和第6個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200 ；所述第2個和第5個橫向吸附槽111與所述第2個和第5個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200。需要說明的是，吸附區(qū)域的數(shù)量和排列及每個所述吸附區(qū)域的真空孔的排列方式并不限于本實施例中限定的這一種，只要可以實現(xiàn)吸附固定基板的即可，本處只是舉例說明。作為本實用新型的第七個實施例，本實施例在第四個實施例的基礎上，對吸附裝置進一步進行闡述[0051]如圖2所示，所述載放臺100的上表面劃分有四個吸附區(qū)域，所述四個吸附區(qū)域按陣列兩行X兩列分布；每個所述吸附區(qū)域包括3個相互平行的橫向吸附槽111和3個相互平行的縱向吸附槽112;第一行第一列和第二行第二列的吸附區(qū)域的所述第I個橫向吸附槽111與第I個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200，所述第2個橫向吸附槽111與第2個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200，所述第3個橫向吸附槽111與第3個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200 ；第一行第二列和第二行第一列的吸附區(qū)域的所述第I個橫向吸附槽111與第3個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200，所述第2個橫向吸附槽111與第2個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200，所述第3個橫向吸附槽111與第I個縱向吸附槽112的交叉處113的槽底設置有真空孔200。需要說明的是，吸附區(qū)域的數(shù)量和排列及每個所述吸附區(qū)域的真空孔的排列方式并不限于本實施例中限定的這一種，只要可以實現(xiàn)吸附固定基板的即可，本處只是舉例說明。作為本實用新型的第八個實施例，本實施例在上述任一個實施例的基礎上，對吸附裝置進行進一步闡述還包括真空監(jiān)測單元，所述真空監(jiān)測單元與吸附區(qū)域一一對應，每個真空監(jiān)測單元和與之對應的吸附區(qū)域的吸附槽相連接。真空監(jiān)測單元用來監(jiān)測每個吸附區(qū)域的真空度，通過真空度的大小來判斷基板是否完全吸附。能夠被吸附裝置完全吸附的基板是完好的基板，不能被吸附裝置完全吸附的基板是有裂紋的基板。利用本實施例的吸附裝置檢測基板是否完好的過程如下首先，挑選一塊與需要加工的基板規(guī)格相同的完好的基板，通過多次試驗，找到完全吸附這塊基板時，所述抽真空單元的工作狀態(tài)，此時的工作狀態(tài)定義為標準工作狀態(tài)，及監(jiān)測到的每個吸附區(qū)域的真空監(jiān)測單元的真空度，此時的真空度定義為標準真空度；標準真空度與基板的規(guī)格及抽真空單元的標準工作狀態(tài)相關，因此，對于不同規(guī)格的基板需要進行試驗來進行確定；然后，在對基板進行加工的過程中，設置抽真空單元的工作狀態(tài)為標準工作狀態(tài)，當每個吸附區(qū)域的真空監(jiān)測單元監(jiān)測到的真空度達到標準真空度時，說明基板完全被吸附，基板是完好的基板；當某個吸附區(qū)域的真空監(jiān)測單元監(jiān)測到的真空度達不到標準真空度時，說明該吸附區(qū)域吸附的基板的范圍內(nèi)有裂紋。對于載放臺100的上表面只有一個吸附區(qū)域時，只有一個真空監(jiān)測單元，這個吸附區(qū)域的真空監(jiān)測單元監(jiān)測到的真空度達不到標準真空度時，說明基板有裂紋；這個吸附區(qū)域的真空監(jiān)測單元監(jiān)測到的真空度達到標準真空度時，說明基板完好。對于載放臺100的上表面有多個吸附區(qū)域時，設置有與吸附區(qū)域相同數(shù)量的真空監(jiān)測單元，每個真空監(jiān)測單元分別獨立工作，用以分別獨立監(jiān)測各個吸附區(qū)域的真空度，因而可以進一步監(jiān)測出基板裂紋的具體區(qū)域。這樣，本實施例的吸附裝置，不僅能吸附固定基板，而且可以檢測基板是否存在裂痕；這樣可以及時發(fā)現(xiàn)有裂痕的基板，避免有裂痕的基板破碎產(chǎn)生的碎屑污染損傷加工基板的裝置。顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型實施例進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權利要求1.一種吸附裝置，其特征在于，包括載放臺，所述載放臺的上表面劃分有一個或多個吸附區(qū)域；每個所述吸附區(qū)域凹設有吸附槽，每個所述吸附槽的槽底設置有一個或多個真空孔；抽真空單元，所述抽真空單元與所述每個真空孔相連通。
2.根據(jù)權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，每個所述吸附區(qū)域包括P個相互平行的吸附槽；其中，P是大于I的自然數(shù)。
3.根據(jù)權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附槽包括橫向吸附槽和縱向吸附槽；每個所述吸附區(qū)域包括m個相互平行的橫向吸附槽和η個相互平行的縱向吸附槽， 橫向吸附槽和縱向吸附槽相交叉且交叉處相連通，交叉處為mXn個；其中，m和η是大于I 的自然數(shù)。
4.根據(jù)權利要求3所述的吸附裝置，其特征在于，所述橫向吸附槽之間等間距分布，所述縱向吸附槽之間等間距分布，且最邊緣的交叉處位于所述橫向吸附槽和所述縱向吸附槽的端部。
5.根據(jù)權利要求4所述的吸附裝置，其特征在于，每個所述真空孔設置在交叉處的槽底。
6.根據(jù)權利要求5所述的吸附裝置，其特征在于，所述多個真空孔均勻分布。
7.根據(jù)權利要求5所述的吸附裝置，其特征在于，所述多個真空孔圍合形成的圖形是中心對稱圖形且是軸對稱圖形。
8.根據(jù)權利要求5所述的吸附裝置，其特征在于，每個所述交叉處的槽底設置有一個真空孔。
9.根據(jù)權利要求7所述的吸附裝置，其特征在于，所述載放臺的上表面劃分有I個吸附區(qū)域，所述吸附區(qū)域包括6個相互平行的橫向吸附槽和6個相互平行的縱向吸附槽；所述第I個，第3個，第4個和第6個橫向吸附槽與第I個，第3個，第4個和第6個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔；所述第2個和第5個橫向吸附槽與所述第2個和第5個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔。
10.根據(jù)權利要求7所述的吸附裝置，其特征在于，所述載放臺的上表面劃分有四個吸附區(qū)域，所述四個吸附區(qū)域按陣列兩行X兩列分布；每個所述吸附區(qū)域包括3個相互平行的橫向吸附槽和3個相互平行的縱向吸附槽；第一行第一列和第二行第二列的吸附區(qū)域的所述第I個橫向吸附槽與第I個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第3個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔；第一行第二列和第二行第一列的吸附區(qū)域的所述第I個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第3個橫向吸附槽與第I個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔。
11.根據(jù)權利要求ι- ο中任一項所述的吸附裝置，其特征在于，還包括真空監(jiān)測單元， 所述真空監(jiān)測單元與吸附區(qū)域一一對應，每個真空監(jiān)測單元和與之對應的吸附區(qū)域的吸附槽相連接。
專利摘要本實用新型公開了一種吸附裝置，包括載放臺，所述載放臺的上表面劃分有一個或多個吸附區(qū)域；每個吸附區(qū)域凹設有吸附槽，每個吸附槽的槽底設置有一個或多個真空孔；抽真空單元，所述抽真空單元與每個真空孔相連通。本實用新型提供的吸附裝置，在需要固定基板的時候，將基板放置在載放臺上，基板與載放臺的上表面相接觸；啟動抽真空單元，抽真空單元通過每個真空孔對每個吸附槽與基板之間進行抽真空，從而將基板吸附固定在載放臺上。與現(xiàn)有的僅依靠真空孔進行吸附固定相比，本實用新型的吸附裝置采用吸附槽這個簡單的結(jié)構，增加吸附面積，從而改善了吸附固定基板的效果，同時，吸附槽的加工比較簡單。
文檔編號B25B11/00GK202846418SQ20122054342
公開日2013年4月3日 申請日期2012年10月23日 優(yōu)先權日2012年10月23日
發(fā)明者宋延生, 文斌 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司