一種三軸氣浮臺結構的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種三軸氣浮臺結構，在所述水平橫向滑槽內設置有水平橫向滑板，且所述水平橫向滑板與所述水平橫向滑槽之間設置有第一氣浮層，所述水平橫向滑板由該第一氣浮層支撐而沿所述水平橫向滑槽往復滑動；在所述承載底座上方還設置有水平縱向滑槽，在該水平縱向滑槽內設置有水平縱向滑板，且所述水平縱向滑板與所述水平縱向滑槽之間設置有第二氣浮層，所述水平縱向滑板由該第二氣浮層支撐而沿所述水平縱向滑槽往復滑動；在所述水平縱向滑板的端部還結合設置有立向軸套，所述立向軸套內設置有立向滑軸，所述立向滑軸與所述立向軸套之間設置有第三氣浮層，所述立向滑軸由設置于水平縱向滑板上的驅動機構驅動而于所述立向軸套內往復移動。
【專利說明】
一種三軸氣浮臺結構
技術領域
[000? ]本實用新型涉及一種氣浮臺結構，尤其涉及一種三軸氣浮臺結構。
【背景技術】
[0002]氣浮臺是一種精密控制裝備，其通過氣浮層承載，實現(xiàn)高負荷、超穩(wěn)定、無摩擦的相對運動。
[0003]但是，對于提供向上方向承載力的氣浮層而言，當偶然遇到向上方向的外加力時，就會破壞原有的力學平衡結構，使得氣浮層承載的工作臺工作狀態(tài)發(fā)生變化，從而影響整個氣浮臺的精度。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型針對現(xiàn)有技術的弊端，提供一種三軸氣浮臺結構。
[0005]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構，包括承載底座，所述承載底座設置有水平橫向滑槽，在該水平橫向滑槽內設置有水平橫向滑板，且所述水平橫向滑板與所述水平橫向滑槽之間設置有第一氣浮層，所述水平橫向滑板由該第一氣浮層支撐而沿所述水平橫向滑槽往復滑動；
[0006]在所述承載底座上方還設置有水平縱向滑槽，在該水平縱向滑槽內設置有水平縱向滑板，且所述水平縱向滑板與所述水平縱向滑槽之間設置有第二氣浮層，所述水平縱向滑板由該第二氣浮層支撐而沿所述水平縱向滑槽往復滑動；
[0007]在所述水平縱向滑板的端部還結合設置有立向軸套，所述立向軸套內設置有立向滑軸，所述立向滑軸與所述立向軸套之間設置有第三氣浮層，所述立向滑軸由設置于水平縱向滑板上的驅動機構驅動而于所述立向軸套內往復移動。
[0008]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，所述承載底座內結合設置有水平吸附鐵件；
[0009]所述水平橫向滑板內結合設置有水平吸附磁件；
[0010]所述水平橫向滑板在第一氣浮層的向上的氣浮力和水平吸附鐵件與水平吸附磁件之間的向下的吸附力的共同作用下而平穩(wěn)滑動。
[0011]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，在所述水平橫向滑槽的底面及兩個側面均布有多個出氣孔，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源；
[0012]所述外部氣源通過各出氣孔噴出氣體而形成第一氣浮層。
[0013]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，在所述水平縱向滑槽的底面及兩個側面均布有多個出氣孔，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源；
[0014]所述外部氣源通過各出氣孔噴出氣體而形成第二氣浮層。
[0015]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，所述水平縱向滑槽內結合設置有水平吸附鐵件；
[0016]所述水平縱向滑板內結合設置有水平吸附磁件；
[0017]所述水平縱向滑板在第二氣浮層的向上的氣浮力和水平吸附鐵件與水平吸附磁件之間的向下的吸附力的共同作用下而平穩(wěn)滑動。
[0018]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，所述立向軸套的內表面均布有多個出氣孔，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源；
[0019]所述外部氣源通過各出氣孔而形成第三氣浮層。
[0020]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，在水平方向運動的水平橫向滑槽和水平縱向滑槽內分別結合設置水平吸附鐵件、在水平方向運動的水平橫向滑板和水平縱向滑板內分別結合設置水平吸附磁件，使水平運動的水平橫向滑板和水平縱向滑板分別受到向上的氣浮力和向下的磁性吸附力的作用，并且，向下的磁性吸附力通過計算而確定充分余量，從而避免了因遭受意外的向上外力作用而破壞力學平衡的狀況發(fā)生，提高了三軸氣浮臺的穩(wěn)定性。
【附圖說明】
[0021]圖1為本實用新型所述三軸氣浮臺的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0022]下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據(jù)以實施。
[0023]如圖1所示，本實用新型所述的三軸氣浮臺，包括承載底座I，所述承載底座I設置有水平橫向滑槽11，在該水平橫向滑槽11內設置有水平橫向滑板2，且所述水平橫向滑板2與所述水平橫向滑槽11之間設置有第一氣浮層(圖中未示)，所述水平橫向滑板2由該第一氣浮層支撐而沿所述水平橫向滑槽11往復滑動。
[0024]在所述承載底座I上方還設置有水平縱向滑槽4，在該水平縱向滑槽4內設置有水平縱向滑板5，且所述水平縱向滑板5與所述水平縱向滑槽4之間設置有第二氣浮層(圖中未示)，所述水平縱向滑板5由該第二氣浮層支撐而沿所述水平縱向滑槽4往復滑動；
[0025]在所述水平縱向滑板5的端部還結合設置有立向軸套7，所述立向軸套7內設置有立向滑軸6，所述立向滑軸6與所述立向軸套7之間設置有第三氣浮層(圖中未示)，所述立向滑軸6由設置于水平縱向滑板5上的驅動機構(圖中未示)驅動而于所述立向軸套7內往復移動。
[0026]進一步的，為了提高氣浮臺的工作穩(wěn)定性，本實用新型中，還在所述承載底座I內結合設置有水平吸附鐵件12;對應的，在所述水平橫向滑板2內結合設置有水平吸附磁件21;所述水平橫向滑板2在第一氣浮層的向上的氣浮力和水平吸附鐵件12與水平吸附磁件21之間的向下的吸附力的共同作用下而平穩(wěn)滑動。
[0027]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，在所述水平橫向滑槽11的底面及兩個側面均布有多個出氣孔13，所述出氣孔13通過氣管連接外部氣源(圖中未示)；所述外部氣源通過各出氣孔13噴出氣體而形成第一氣浮層。
[0028]同樣，在所述水平縱向滑槽4的底面及兩個側面均布有多個出氣孔42，所述出氣孔42通過氣管連接外部氣源(圖中未示)；所述外部氣源通過各出氣孔42噴出氣體而形成第二氣浮層。
[0029]在所述水平縱向滑槽4內結合設置有水平吸附鐵件41;所述水平縱向滑板5內結合設置有水平吸附磁件51;所述水平縱向滑板5在第二氣浮層的向上的氣浮力和水平吸附鐵件41與水平吸附磁件51之間的向下的吸附力的共同作用下而平穩(wěn)滑動。
[0030]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，所述立向軸套7的內表面均布有多個出氣孔(圖中未示)，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源;所述外部氣源通過各出氣孔而形成第三氣浮層。
[0031]本實用新型所述的三軸氣浮臺結構中，在水平方向運動的水平橫向滑槽和水平縱向滑槽內分別結合設置水平吸附鐵件、在水平方向運動的水平橫向滑板和水平縱向滑板內分別結合設置水平吸附磁件，使水平運動的水平橫向滑板和水平縱向滑板分別受到向上的氣浮力和向下的磁性吸附力的作用，并且，向下的磁性吸附力通過計算而確定充分余量，從而避免了因遭受意外的向上外力作用而破壞力學平衡的狀況發(fā)生，提高了三軸氣浮臺的穩(wěn)定性。
[0032]盡管本實用新型的實施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實施方式中所列運用，它完全可以被適用于各種適合本實用新型的領域，對于熟悉本領域的人員而言，可容易地實現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實用新型并不限于特定的細節(jié)和這里示出與描述的圖例。
【主權項】
1.一種三軸氣浮臺結構，包括承載底座，其特征在于，所述承載底座設置有水平橫向滑槽，在該水平橫向滑槽內設置有水平橫向滑板，且所述水平橫向滑板與所述水平橫向滑槽之間設置有第一氣浮層，所述水平橫向滑板由該第一氣浮層支撐而沿所述水平橫向滑槽往復滑動； 在所述承載底座上方還設置有水平縱向滑槽，在該水平縱向滑槽內設置有水平縱向滑板，且所述水平縱向滑板與所述水平縱向滑槽之間設置有第二氣浮層，所述水平縱向滑板由該第二氣浮層支撐而沿所述水平縱向滑槽往復滑動； 在所述水平縱向滑板的端部還結合設置有立向軸套，所述立向軸套內設置有立向滑軸，所述立向滑軸與所述立向軸套之間設置有第三氣浮層，所述立向滑軸由設置于水平縱向滑板上的驅動機構驅動而于所述立向軸套內往復移動。2.如權利要求1所述的三軸氣浮臺結構，其特征在于，所述承載底座內結合設置有水平吸附鐵件； 所述水平橫向滑板內結合設置有水平吸附磁件； 所述水平橫向滑板在第一氣浮層的向上的氣浮力和水平吸附鐵件與水平吸附磁件之間的向下的吸附力的共同作用下而平穩(wěn)滑動。3.如權利要求2所述的三軸氣浮臺結構，其特征在于，在所述水平橫向滑槽的底面及兩個側面均布有多個出氣孔，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源； 所述外部氣源通過各出氣孔噴出氣體而形成第一氣浮層。4.如權利要求2所述的三軸氣浮臺結構，其特征在于，在所述水平縱向滑槽的底面及兩個側面均布有多個出氣孔，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源； 所述外部氣源通過各出氣孔噴出氣體而形成第二氣浮層。5.如權利要求4所述的三軸氣浮臺結構，其特征在于，所述水平縱向滑槽內結合設置有水平吸附鐵件； 所述水平縱向滑板內結合設置有水平吸附磁件； 所述水平縱向滑板在第二氣浮層的向上的氣浮力和水平吸附鐵件與水平吸附磁件之間的向下的吸附力的共同作用下而平穩(wěn)滑動。6.如權利要求2所述的三軸氣浮臺結構，其特征在于，所述立向軸套的內表面均布有多個出氣孔，所述出氣孔通過氣管連接外部氣源； 所述外部氣源通過各出氣孔而形成第三氣浮層。
【文檔編號】B25H1/00GK205497410SQ201620325649
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年4月18日
【發(fā)明人】張瑞杰
【申請人】天津中精微儀器設備有限公司