專利名稱：：光盤片的制造方法及光盤片積層體的搬運方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明是有關(guān)于一種光盤片的制造方法此光盤片利用激光來進行信息的記錄或再生。特別是，將由透明樹脂構(gòu)成的片板黏著到盤片基板上以構(gòu)成覆蓋層的光盤片的制造方法，以及一種光盤片積層體的搬運方法，用以在該光盤片制造過程中，搬運以液體狀的黏著劑將薄膜狀的片板載置到盤片基板上而構(gòu)成的光盤片積層體。
背景技術(shù)：
：使用激光來記錄或再生數(shù)據(jù)的光盤片，如CD-R(CompactDisc-Recordable)，aCD(CompactDisc)，aDVD(DigitalVersatileDisc)，oraDVD-R(DigitalVersatileDisc-Recordable)已經(jīng)越來越普遍。然而，近年來，希望光盤片能夠儲存更大量的信息，如影像數(shù)據(jù)等，故而高密度化的研究便持續(xù)進行著。此光盤片的記錄密度大體上取決于激光的光斑。若激光波長為λ、物鏡的數(shù)值口徑為NA，光斑的大小則與λ/NA成比例。因此，為了提高光盤片的記錄密度，必須將縮短激光波長λ以及提高物鏡的數(shù)值口徑NA。但是，因光盤片傾斜所產(chǎn)生的彗形像差(comaaberration)與NA的三次方成比例地增加，故提高NA將使得光盤片的傾斜容忍邊緣(tiltmargin)變得非常小。因此只要光盤片稍微地傾斜，激光束便會變模糊，而無法達成高密度化的目的。為此，為了達到高密度化光盤片，例如日本特開平11-31337號公報所提出，做為激光穿透層的覆蓋層做得非常薄(例如0.1mm)左右，必須抑制隨著高NA值所增加的彗形像差。在上述的光盤片制造過程中，例如，將液體狀的紫外線硬化黏著劑供應(yīng)到載置于旋涂機轉(zhuǎn)盤上的樹脂制盤片基板上，透過此紫外線硬化黏琢劑，將透明薄膜狀的片板載置到盤片基板上，以構(gòu)成光盤片積層體。接著，以轉(zhuǎn)盤將光盤片積層體高速旋轉(zhuǎn)，使盤片基板與片板之間的黏著劑延展而成為薄膜化后，將此光盤片積層體從轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置。在紫外線照射裝置中，將紫外線照射到光盤片積層體，使充填在盤片基板與片板間的黏著劑。因此，利用紫外線硬化黏著劑，將片板貼合到盤片基板上，以構(gòu)成覆蓋層。如上所述，當(dāng)利用片板與黏著劑形成覆蓋層時，要不損及0.1mm左右片板的內(nèi)周緣的光盤片品質(zhì)的話，在作業(yè)上是有困難的。即，在盤片基板與片板間的黏著劑往外周側(cè)的部分，因離心力而延展出的厚度可以簡單地、比較地均勻。其次，往外周側(cè)延展的紫外線硬化黏著劑中的剩余部份，會因離心力而在外周側(cè)被振掉，故可以防止剩余的紫外線硬化黏著劑附著到光盤片表面。此外，公知用來搬運光盤片積層體的搬運裝置中，例如具備搬運臂，用以將光盤片積層體沿著上下方向與水平方向移動，并且在此搬運臂的前端配置吸盤狀的吸著器。上述的搬運裝置利用吸著器吸住光盤片積層體的上面?zhèn)龋雌宓谋砻?。接著，利用搬運臂的升降雨旋轉(zhuǎn)，將光盤片積層體從旋涂機的轉(zhuǎn)盤舉起，而搬運到紫外線照射裝置。然而，為了要將片板的內(nèi)周緣側(cè)好好地黏著到盤片基板，在載置片板前，必須要將對應(yīng)盤片基板上的片板內(nèi)周緣部分的環(huán)狀區(qū)域上，涂上紫外線硬化黏著劑，或者是利用載置在盤片基板的片板，將盤片基板上的紫外線硬化黏著劑好好地壓至片板的內(nèi)周緣處。此時，紫外線硬化黏著劑會剩余少許，剩余的紫外線硬化黏著劑便從盤片基板與片板之間往片板的內(nèi)周緣溢出。從盤片基板與片板之間所溢出的紫外線硬化黏著劑，在轉(zhuǎn)盤高速旋轉(zhuǎn)下，會被轉(zhuǎn)到光盤片的表面。這些若被紫外線照射而硬化的話，便會成為放射狀的污斑，而使外觀品質(zhì)降低。此外，片板的內(nèi)周緣也無法好倒地黏著到盤片基板。故假如光盤片被重復(fù)地置入取出于光盤裝置中的話，因為片板極薄且強度非常低，片板便會從內(nèi)周緣側(cè)開始剝離，此外也會照成外觀上看起來很差的問題。其次，當(dāng)以上述的搬運裝置，將光盤片積層體從轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置時，利用吸著器吸住片板的表面并且以搬運臂將光盤片積層體舉起，因吸著器內(nèi)的負壓而產(chǎn)生的吸引力或光盤片積層體本身所產(chǎn)生的載重等會作用到片板。此時，由于盤片基板上的片板是十分地薄(例如0.1mm以下)，片板上被吸著器吸著附近的便會產(chǎn)生縐折或局部剝離。與片板無法完全地黏著到盤片基板的情形一樣，此縐折與剝離也會造成光盤片的外觀品質(zhì)下降。再者，當(dāng)片板上產(chǎn)生剝離時，空氣會進入片板與盤片基板之間，而使片板無法完全地黏著到盤片基板上。在使用光盤片時，會以空氣侵入的部分為起點，而使片板的剝離部分?jǐn)U大，而使激光穿透率發(fā)生改變，造成記錄再生錯誤的原因。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提出一種光盤片制造方法，其可以利用黏著劑，簡單地將片板從內(nèi)周緣部分到外周緣部分貼合到盤片基板上，并且再貼合時，可以防止剩余的黏著劑附著到光盤片表面而造成的品質(zhì)低落問題。本發(fā)明的另一目的是本發(fā)明提出一種光盤片積層體搬運方法，其可以在盤片基板與片板間的黏著劑硬化前，將光盤片積層體舉起搬運，而不會使片板上產(chǎn)生縐折與剝離。依據(jù)本發(fā)明的前述的光盤片制造方法，其執(zhí)行一貼合工藝在盤片基板上所設(shè)置的信息記錄層的信息記錄區(qū)域的內(nèi)周側(cè)，形成環(huán)狀的溝槽后，利用黏著劑將片板貼合到形成上述溝槽的盤片基板上。在上述的貼合工藝中，黏著劑供應(yīng)到盤片基板的溝槽的外周側(cè)，透過此黏著劑將片板載置到盤片基板上，使盤片基板與片板之間的黏著劑沿著半徑方向，從溝槽延展到片板的外周側(cè)。在延展時，即使有比為了要把片板的內(nèi)周側(cè)黏著到盤片基板上所需要量的黏著劑往內(nèi)周側(cè)移動，因為剩余的黏著劑可以流入溝槽內(nèi)而被阻隔，故剩余的黏著劑不會溢出到溝槽的內(nèi)周側(cè)。在此，為了要將盤片基板與片板之間的黏著劑沿著半徑方向，從溝槽延展至片板的外周側(cè)，例如往內(nèi)周側(cè)部分以片板把黏著劑押壓時的延展到溝槽后，往外周側(cè)部分再以旋涂法使黏著劑延展到片板的外周側(cè)。此外，可以從片板與盤片基板之間供應(yīng)負壓，將黏著劑吸引到溝槽后，往外周側(cè)部分再以旋涂法使黏著劑延展到片板的外周側(cè)。其次，在此貼合工藝中，使盤片基板與片板之間的黏著劑往外周側(cè)延展，使填在盤片基板與片板之間的黏著劑硬化后，沿著溝槽將延伸到溝槽外周側(cè)的片板的非黏著部分切斷，將非黏著部分從盤片基板上去除。因此，從內(nèi)周緣到外周緣的整個片板可以由黏著劑貼合到盤片基板上。此外，在溝槽形成工藝中，例如當(dāng)盤片基板以樹脂為材料利用模具以模造成形方法來制作時，在一部分的印戳部或支撐此印戳部的支撐器上，設(shè)置對應(yīng)溝槽形狀的環(huán)狀突起部，可以模造成形該盤片基板并且利用前述的突起部將環(huán)狀溝槽形成于盤片基板上。此外，在模造成形后，也可以利用切削加工的方式在盤片基板上形成溝槽。此外，依據(jù)本發(fā)明前述的光盤片制造方法，片板的厚度設(shè)定在30μm～150μm的范圍。即，因光盤片傾斜產(chǎn)生的彗形像差會隨著物鏡的數(shù)值口徑NA的三次方成比例地增加，高NA值使得對光盤片傾斜的容忍邊緣變得很?。灰虼?，當(dāng)應(yīng)高記錄密度而提高NA值時，為了要獲得足夠的傾斜邊緣，光盤片上的做為光穿透層的覆蓋層便必須做得很薄。然而，要將覆蓋層變薄，片板的厚度便不得不減少，但是減少片板的厚度，其強度(剛性)也會隨之降低，故從內(nèi)周緣到外周緣的整個片板便無法貼合到盤片基板上。此時，在使用光盤片時，片板便會從盤片基板上剝離。如上所述，在片板厚度為30μm～150μm時，為了防止片板從盤片基板上剝離，其適用專利權(quán)利要求1所述的光盤片制造方法，從內(nèi)周緣到外周緣的整個片板便有需要確實地黏著到盤片基板上。此外，依據(jù)本發(fā)明前述的光盤片積層體搬運方法，在盤片基板與片板之間的黏著劑硬化前，為了搬運光盤片積層體，利用搬運裝置將透過黏著劑將片板載置到盤片基板的光盤片積層體舉起搬運時，將搬運裝置連接到光盤片積層體的盤片基板上，利用透過盤片基板以搬運裝置來支撐來自光盤片積層體的載重并且利用此搬運裝置舉起搬運該光盤片積層體。在搬運光盤片積層體時，因為搬運裝置不會將載重直接作用到光盤片積層體的片板，故可以防止搬運裝置的力量對光盤片積層體的片板產(chǎn)生縐折，也可以防止片板從盤片基板上剝離。在此，從光盤片積層體到搬運裝置的載重為光盤片積層體的本身重量、慣性力等所產(chǎn)生的載重。光盤片積層體搬運時做為前述載重的反作用力的搬運力、用來將光盤片積層體維持連接到搬運裝置的保持力等的載重會從搬運裝置作用到光盤片積層體。此外，若上述的搬運力、保持力等不會從搬運裝置直接作用到片板上時，搬運裝置要如何連接到光盤片積層體的盤片基板均可以。例如，利用設(shè)置在搬運裝置的復(fù)數(shù)個固定具，將盤片基板的外周緣或內(nèi)周緣加以固定，并直接地將搬運裝置連接到盤片基板?；?，也可以將搬運裝置連接到載置光盤片積層體的轉(zhuǎn)盤上，而間接地連接到盤片基板。以下配合附圖來說明本發(fā)明的光盤片制造方法與及光盤片積層體的搬運方法的實施例。圖1A與圖1B分別為本發(fā)明第一實施例的光盤片結(jié)構(gòu)的立體圖與剖面圖；圖2A與圖2D分別為本發(fā)明第一實施例的光盤片制造方法的貼合工藝的剖面圖；圖3為本發(fā)明第一實施例的光盤片與轉(zhuǎn)盤的側(cè)面剖面圖，顯示在透過紫外線硬化黏著劑將片板載置到盤片基板上時；圖4為本發(fā)明第一實施例的光盤片與紫外線照射裝置的側(cè)面剖面圖，顯示在紫外線向紫外線硬化黏著劑照射的狀態(tài)；圖5為本發(fā)明第一實施例的光盤片與紫外線照射裝置的側(cè)面剖面圖，顯示在紫外線硬化黏著劑硬化后，將片板上的非黏著部分去除的狀態(tài)；圖6為本發(fā)明第二實施例的光盤片結(jié)構(gòu)的立體圖與剖面圖；圖7為本發(fā)明第二實施例的光盤片積層體搬運方法所適用的光盤片制造裝置的架構(gòu)平示意圖；圖8A至圖8D分別為本發(fā)明第二實施例的光盤片積層體與旋涂機的轉(zhuǎn)盤的側(cè)面剖面圖，顯示在旋涂機的轉(zhuǎn)盤所進行的光盤片積層體的工藝；圖9分別為本發(fā)明第二實施例的光盤片積層體的搬運裝置與轉(zhuǎn)盤的側(cè)面剖面圖；以及圖10A至圖10C分別為本發(fā)明第二實施例的光盤片積層體的搬運裝置與紫外線照射裝置的側(cè)面剖面圖。附圖標(biāo)記說明10光盤片12盤片基板13記錄面14光吸收層16光反射層18記錄層(信息記錄層)20覆蓋層22片板23非黏著部24紫外線硬化黏著劑26中心孔28開口部30溝槽32位置決定孔34旋涂機36轉(zhuǎn)盤38載置面40凸柱42旋轉(zhuǎn)軸44吸引溝46逃脫部48連通路徑52紫外線照射裝置54轉(zhuǎn)盤56載置面58凸柱60旋轉(zhuǎn)軸62紫外線燈64切割刀66刀刃68光盤片積層體110光盤片112盤片基板120信息記錄層122覆蓋層124片板126紫外線硬化黏著劑132光盤片制造裝置134旋涂機136紫外線照射裝置138光盤片搬運裝置140轉(zhuǎn)盤156光盤片積層體162只稱基臺164旋轉(zhuǎn)臺166搬運臂168盤片連接裝置170固定器172爪部186紫外線燈具體實施方式首先，說明本發(fā)明第一實施例的光盤片制造方法。圖1為本發(fā)明第一實施例中的光盤片。相對于公知的DVD-R等光盤片，光盤片10可以進行高密度的信息記錄。例如，相較于公知光盤片，光盤片10使用短波長的青紫激光來做為記錄再生用的激光，并且將記錄再生裝置的對物鏡的數(shù)值孔徑(numeralaperture)NA增加至約0.85左右，如此便將直徑12cm光盤片10的記錄容量提高至約22.5GB。如圖1A所示，光盤片10具有形成為圓盤狀的盤片基板12、沉積在盤片基板12上的記錄層18以及覆蓋記錄層18的覆蓋層(coverlayer)20。記錄層18將光反射層16與光吸收層堆積于盤片基板12上。此外，覆蓋層20透過紫外線硬化黏著劑24，將后述的片板(sheet)22貼合到盤片基板12后而制成。如圖1B所示，在盤片基板12的中心部份，沿著光盤片10的旋轉(zhuǎn)中心，即軸心SD，來貫穿以形成中心孔26。覆蓋層20的中心部份也以軸心SD為中心，形成比中心孔26大的圓形開口部28。此外，在盤片基板12的覆蓋層20側(cè)的記錄面13上，環(huán)狀的溝槽30以軸心SD為中心，沿著圓周方向，形成在記錄層18的內(nèi)周側(cè)。盤片基板12使用聚碳酸酯(polycarbonate，PC)等樹脂為材料，以模造成形(molding)來形成。例如，用來模造成形盤片基板12的模型(未繪出)具有本體部與印戳(stamper)部；在本體部上，形成對應(yīng)于盤片基板12的形狀的圓形凹狀空穴(cavity)，而印戳部為圓型，用以將導(dǎo)引溝轉(zhuǎn)印成形于盤片基板12的記錄面13上。印戳部做成由模造成形裝置的保持具所支持的構(gòu)造。對應(yīng)溝槽30的環(huán)狀突起部則形成于印戳部或保持具上。在利用印戳部將導(dǎo)引溝轉(zhuǎn)印到盤片基板12時，盤片基板12的溝槽30也在轉(zhuǎn)印導(dǎo)引溝的同時，利用環(huán)狀突起部來形成。另一方面，構(gòu)成覆蓋層20的片板22由聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚對苯二甲酸乙酯(polyethyleneterephthalate，PET)等透明樹脂的薄膜片所構(gòu)成。在貼合到盤片基板13前，具有與盤片基板12的中心孔26的相同內(nèi)徑的位置決定孔32(參考圖3)貫穿形成于其中心部。在此，做為片板22材料的薄膜片厚度可以選擇在30μm至150μm之間的范圍內(nèi)。圖2A至圖2D為本實施例的光盤制造方法的貼合工藝。在貼合工藝中，首先將利用一般方法把記錄層18形成于記錄面13上的盤片基板12載置到旋涂機(spincoater)34上。旋涂機34具有如圖2A至圖2D所示的厚圓盤狀的轉(zhuǎn)盤(turntable)36，轉(zhuǎn)盤36的上面做為載置盤片機板12的一載置面38。圓柱狀的凸柱(boss)40立設(shè)于載置面38的中心部。此凸柱40的外徑略小于盤片基板12的中心孔26的內(nèi)徑。在將盤片基板12載置到載置面38上后，凸柱40便插入中心孔26，便決定出位置使得盤片基板12與轉(zhuǎn)盤36同軸。如圖2A至圖2D所示，轉(zhuǎn)盤36下方的中心部同軸地連接到旋轉(zhuǎn)軸42，旋轉(zhuǎn)軸42則直接或透過力矩傳輸機構(gòu)來連接到驅(qū)動馬達(未繪出)。此外，如圖3所示，在轉(zhuǎn)盤36的載置面38上，環(huán)狀的吸引溝44沿著圓周方向，以轉(zhuǎn)盤36的軸心ST為中心形成在內(nèi)周側(cè)，并且幅寬比吸引溝44還寬的逃脫部46沿著圓周方向，形成在溝槽44的外周側(cè)。吸引溝44通過設(shè)置在轉(zhuǎn)盤36內(nèi)的管狀連通路徑48，連接到真空產(chǎn)生裝置(未繪出)，如真空泵等。真空產(chǎn)生裝置在轉(zhuǎn)盤36旋轉(zhuǎn)時，提供一負壓到吸引溝44內(nèi)，以將盤片基板12吸附固定于載置面38上。此外，除了盤片基板12下面的內(nèi)周緣與外周緣外，載置面38上的逃脫部46與對應(yīng)至記錄層18的區(qū)域則懸浮于載置面38，其可以防止此區(qū)域被傷害或有塵埃等異物附著于其上。在光盤片10的貼合工藝中，如圖2A所示，將盤片基板12載置于載置面38上；然后，如圖2B所示，利用黏著劑供應(yīng)裝置的黏著劑供應(yīng)器，即噴嘴狀的噴罐50，將紫外線硬化黏著劑24供應(yīng)到盤片基板12上的記錄面13。在從噴罐50供應(yīng)紫外線硬化黏著劑24時，沿著半徑方向?qū)姽?0的位置調(diào)整到在溝槽30外周側(cè)的一預(yù)定距離上，接著使轉(zhuǎn)盤36以低速旋轉(zhuǎn)并且使紫外線硬化黏著劑24從噴罐50滴下。此外，也可以使噴罐50本身沿著圓周方向移動，而同時將紫外線硬化黏著劑24從噴罐50滴下。因此，從噴罐50滴下的紫外線硬化黏著劑24可以在距離溝槽30一預(yù)定距離的外周側(cè)，形成環(huán)狀而附著于記錄面13上。接著，如圖2C所示，將片板22緩緩地下降到盤片基板12上，使凸柱40插入到片板22的位置決定孔32內(nèi)，以決定出位置使得片板22與轉(zhuǎn)盤36成為同軸配置，即使得片板22與盤片基板12在面方向上一致。因此，片板22透過紫外線硬化黏著劑24被載置到盤片基板12上。紫外線硬化黏著劑24則利用片板22，在半徑方向上分別被加壓而向內(nèi)周側(cè)與外周側(cè)擴展。此時，被片板22所加壓延展的紫外線硬化黏著劑24則如圖3所示，在往內(nèi)周側(cè)方面，至少會到達盤片基板13的溝槽30。換言之，盤片基板12上從紫外線硬化黏著劑24的滴下位置到溝槽30的距離會比當(dāng)以片板22加壓延展時紫外線硬化黏著劑24往內(nèi)周側(cè)的移動量還小。但是，若紫外線硬化黏著劑24沒有被片板22加壓延展至溝槽30，便使在凸柱40上的連接到轉(zhuǎn)盤36中的連通路徑48的吸引口打開。通過此吸引口，利用真空產(chǎn)生裝置，從盤片基板12與片板22之間的空隙，在預(yù)定的時間內(nèi)時常地供應(yīng)一負壓。由此負壓，盤片基板12與片板22間紫外線硬化黏著劑24便可以被強制地吸引到溝槽30。如圖2C所示，當(dāng)片板22載置到盤片基板12上后，轉(zhuǎn)盤36便以高速旋轉(zhuǎn)。因此，如圖2D所示，盤片基板12與片板22將與轉(zhuǎn)盤36一同旋轉(zhuǎn)。盤片基板12與片板22之間的紫外線硬化黏著劑24便會因為離心力之故，而往外周側(cè)延展并被薄膜化。故從溝槽30至片板22的外周緣間的厚度便大致成為一致。此時，盤片基板12與片板22之間剩余的紫外線硬化黏著劑24，會從盤片基板12與片板22外周端之間飛散到外周側(cè)，而附著于轉(zhuǎn)盤36的周邊部分。但是，在硬化前的紫外線硬化黏著劑24具有充分的流動性，固可以很容易地被去除與回收。透過硬化前的紫外線硬化黏著劑24，將盤片基板12與片板22堆積而成的光盤片積層體68，則以盤片搬運裝置(未繪出)運送到紫外線照射裝置52的轉(zhuǎn)盤54(參考圖4)。此時，盤片搬運裝置從光盤片積層體68下側(cè)，即從盤片基板12側(cè)加以支撐，并且將光盤片積層體68從轉(zhuǎn)盤36運送到紫外線照射裝置52的轉(zhuǎn)盤54上。因此，光盤片積層體68可以被運送，而不會在片板22上形成縐折而且片板22在盤片基板12上也部會產(chǎn)生偏移。再者，旋涂機的轉(zhuǎn)盤36架構(gòu)成可拆卸方式，在旋轉(zhuǎn)涂布后，便可以將光盤片積層體68連同轉(zhuǎn)盤36一起運送到紫外線照射裝置52中加以裝載。如圖4所示，紫外線照射裝置52中設(shè)置轉(zhuǎn)盤54。轉(zhuǎn)盤54也在其載置面56中心部上立設(shè)置凸柱58。此凸柱58決定出位置使得載置在載置面56上的光盤片積層體68與轉(zhuǎn)盤36同軸。此外，轉(zhuǎn)盤54下方的中心部同軸地連接到旋轉(zhuǎn)軸60，旋轉(zhuǎn)軸60則直接或透過力矩傳輸機構(gòu)來連接到驅(qū)動馬達(未繪出)。此外，當(dāng)光盤片積層體68載置到載置面56上后，轉(zhuǎn)盤54便與光盤片積層體68載置一起以驅(qū)動馬達的力矩，在低速下旋轉(zhuǎn)。如圖4所示，在紫外線照射裝置52中，由光源與反射器等所構(gòu)成的紫外線燈62配置在轉(zhuǎn)盤54上方。當(dāng)轉(zhuǎn)盤54開始旋轉(zhuǎn)，紫外線燈62便以預(yù)定波長的紫外線照射到轉(zhuǎn)盤54上的光盤片積層體68。大部分的紫外線會穿透片板22，并且入射至紫外線硬化黏著劑24。因此，紫外線硬化黏著劑24便開始硬化反應(yīng)，在經(jīng)過預(yù)定的硬化時間后，盤片基板12與片板22間的薄膜化的紫外線硬化黏著劑24便完全地硬化。因此，片板22便黏著到盤片基板12，并且以硬化的紫外線硬化黏著劑24與片板22來構(gòu)成厚度150μm以下的覆蓋層20。在紫外線硬化黏著劑24硬化完成后，便關(guān)掉紫外線燈62，并且退縮到轉(zhuǎn)盤54的外周側(cè)。如圖4所示，在紫外線照射裝置52中，將切割刀64配置于轉(zhuǎn)盤54上方。此切割刀64更連接到以步進馬達等做為驅(qū)動源的線性致動器的作動軸。由此線性致動器，切割刀64被支持成可以對轉(zhuǎn)盤54接觸或分離。此外，在半徑方向上，切割刀64被支持于對應(yīng)到盤片基板12上的溝槽30的位置上。例如，切割刀64的刀刃66被支持在比溝槽30稍微內(nèi)側(cè)的位置上。但是，在刀刃66沿著半徑方向的位置則必須依據(jù)刀刃66的形狀或片板22的厚度等來做微調(diào)。在光盤片積層體68中的紫外線硬化黏著劑24完全硬化前，切割刀64以線性致動器，使其位在低速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)盤54的上方待機。在紫外線硬化黏著劑24完全硬化后，切割刀64則由線性致動器，開始下降至載置光盤片積層體68的轉(zhuǎn)盤54。此時，如圖4中的虛線所示，線性致動器使切割刀下降，使得刀刃66沿著厚度方向貫穿片板22，但刀刃66則到達未達記錄面13的切割位置。在轉(zhuǎn)盤54至少轉(zhuǎn)一圈的時間內(nèi)，切割刀64被保持在該切割位置；然后，便利用線性致動器使切割刀64上升，而到達轉(zhuǎn)盤54上方的待機位置。此外，位于比溝槽30更內(nèi)側(cè)片板22的非黏著部23則從其黏著在盤片基板12上的外周側(cè)加以切割。例如，此非黏著部23可以用配置在操控器前端的吸盤狀的負壓吸引器來吸著，在以此操控器將其從盤片基板12上除去。因此，如圖5所示，便在片板22上形成開口28。此外，本實施例在紫外線兆設(shè)裝置52中進行片板22的非黏著部23的切割與去除。但是，也可以將紫外線硬化黏著劑完全硬化后的光盤片積層體68從紫外線照射裝置52搬運到專用的切割裝置，再利用此切割裝置將非黏著部23從片板22切斷與去除。此時，與在紫外線照射裝置中的情形相同，將光盤片積層體載置在轉(zhuǎn)盤上旋轉(zhuǎn)，并且以切割刀來切斷片板22。相反地，也可以將光盤片積層體68固定住，將切割刀沿著半徑方向移動以切斷片板。此外，也可以具有圓形刀刃的切割刀64押壓到片板22上，利用切割刀64的刀刃部押切片板22，以將非黏著部23從內(nèi)周側(cè)切離開。此外，也可以加熱狀態(tài)下的切割刀64切斷片板22，并且在切斷的同時，使片板22的切斷面溶融或軟化，在加工成所需的形狀。再者，除了切割刀64等的切削工具外，也可以用高輸出功率激光照射到片板22，再以激光從片板22將非黏著部分23溶斷。此外，也可以沿著片板22的溝槽30的部位預(yù)先加工成切口(notch)狀的溝或間隔點狀的切斷部等，當(dāng)紫外線硬化黏著劑24硬化后，不用切割刀而僅僅利用加壓，使非黏著部23從片板22分離出來。將非黏著部23從片板22去除后的光盤片積層體68，便成為如圖1所示的產(chǎn)品，光盤片10。光盤片10依據(jù)所需，在與盤片基板12上的覆蓋層20側(cè)的反對側(cè)的光盤片表面上涂上樹脂涂料，干燥后，在印上光盤片種類與卷標(biāo)等的印刷。在進行形狀與尺寸等的檢驗后，便得到光盤片制品。如以上的說明，依據(jù)本發(fā)明知光盤片制造方法的話，紫外線硬化黏著劑24供應(yīng)到盤片基板12上的溝槽30的外周側(cè)。透過此紫外線硬化黏著劑24，片板22載置到盤片基板12上，以片板22將盤片基板12與片板22間的紫外線硬化黏著劑24加壓使的延展至溝槽30。再延展時，即使比用來將片板22黏著到盤片基板12上所需的量還多的紫外線硬化黏著劑24移動到內(nèi)周側(cè)，因為剩余的紫外線硬化黏著劑24會流入溝槽30而被阻隔，故剩余的紫外線硬化黏著劑24將很難流到溝槽30的內(nèi)周側(cè)。此外，即使紫外線硬化黏著劑24溢出到溝槽30的內(nèi)周側(cè)，因為紫外線硬化黏著劑24會被保持在片板22的非黏著部分23與盤片基板12之間，故在紫外線硬化黏著劑24硬化前，即使盤片基板12與片板22間的紫外線硬化黏著劑24藉由旋涂機延展到外周側(cè)，非黏著部23可以阻止溢出到溝槽30內(nèi)周側(cè)的紫外線硬化黏著劑24移動到光盤片積層體68的表面。其次，在本實施例的光盤片制造方法中，盤片基板12與片板22之間的紫外線硬化黏著劑24以旋涂機延展到外周側(cè)，在以紫外線照射填在盤片基板12與片板22之間的紫外線硬化黏著劑24后，往溝槽30的內(nèi)周側(cè)延展的片板22的非黏著部23則沿著溝槽30被切斷。由將非黏著部23從盤片基板12上去除，從內(nèi)周緣到外周緣的整個片板22便可以紫外線硬化黏著劑24貼合到盤片基板上。因此，即使為了對應(yīng)高記錄密度而提高NA值，而將片板22做得很薄而使片板22的強度(剛性)降低，因為從內(nèi)周緣到外周緣的整個片板22可以紫外線硬化黏著劑24貼合到盤片基板上，故可以確實地防止光盤片10的片板22從盤片基板12上剝離。此外，在光盤片10的表面，沿著溝槽30硬化的紫外線硬化黏著劑24并不會暴露到光盤片的表面，故光盤片10的外觀便十分良好。接著，說明本發(fā)明第二實施例的光盤片積層體的搬運方法。本實施例的光盤片積層體搬運方法適用于透過黏著層將片板載置到盤片基板，并以黏著劑與片板來形成覆蓋層的光盤片工藝。圖6為本發(fā)明第二實施例的光盤片。光盤片110具有與圖1所示的光盤片10相同的構(gòu)造。光盤片110也使用短波長的青紫激光來做為記錄再生用的激光，并且將記錄再生裝置的對物鏡的數(shù)值孔徑(numeralaperture)NA增加至約0.85左右，如此便將直徑12cm光盤片10的記錄容量提高至約22.5GB。但是，在圖1的光盤片10上所形成的開口部28，比與紫外線硬化黏著劑24一同構(gòu)成覆蓋層20的片板22上的中心孔26還大。但是，圖6所示的光盤片110中，在片板124中心部上的盤片基板112的中心孔128與中心孔130形成同一孔徑。如圖6所示，光盤片110上具有圓盤狀的盤片基板112，此盤片基板112的一側(cè)面做為記錄面114。記錄面114上依序堆積光反射層116與光吸收層118，并以光反射層116與光吸收層118構(gòu)成記錄層120。此外，在光盤片110中，透明的覆蓋層122設(shè)置于盤片基板112上，以覆蓋記錄層120。覆蓋層122利用紫外線硬化黏著劑126，經(jīng)由記錄層120，將片板124貼合至盤片基板112而構(gòu)成。在此，盤片基板112使用聚碳酸酯(polycarbonate，PC)等的樹脂為材料，以模造成形(molding)來形成。構(gòu)成覆蓋層20的片板22由聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚對苯二甲酸乙酯(polyethyleneterephthalate，PET)等透明樹脂的薄膜片所構(gòu)成。做為片板22材料的薄膜片厚度可以選擇在30μm至150μm之間的范圍內(nèi)。圖7為用來制造光盤片的光盤片制造裝置。光盤片制造裝置132具備旋涂機134與紫外線照射裝置136與光盤片搬運裝置138。如圖8A～圖8D所示，光盤片制造裝置132中的旋涂機134設(shè)置厚圓盤狀的轉(zhuǎn)盤140，轉(zhuǎn)盤140的上面做為載置盤片基板112的載置面142。圓柱狀的凸柱144沿著轉(zhuǎn)盤140的軸心ST1立設(shè)在載置面142的中心部。凸柱144的外徑僅略小于盤片基板112的中心孔128的內(nèi)徑。當(dāng)盤片基板112載置到載置面142上而插入中心孔128內(nèi)，便決定位置使盤片基板112與轉(zhuǎn)盤140同軸地配置。如圖8A至圖8D所示，轉(zhuǎn)盤140下方的中心部同軸地連接到旋轉(zhuǎn)軸146，旋轉(zhuǎn)軸146則直接或透過力矩傳輸機構(gòu)來連接到驅(qū)動馬達(未繪出)。此外，如圖9所示，在轉(zhuǎn)盤140的載置面142上，環(huán)狀的吸引溝148沿著圓周方向，以轉(zhuǎn)盤140的軸心ST1為中心形成在內(nèi)周側(cè)，并且幅寬比吸引溝148還寬的逃脫部150沿著圓周方向，形成在溝槽的外周側(cè)。吸引溝148通過設(shè)置在轉(zhuǎn)盤140內(nèi)的管狀連通路徑152，連接到真空產(chǎn)生裝置(未繪出)，如真空泵等。真空產(chǎn)生裝置在轉(zhuǎn)盤140旋轉(zhuǎn)時，提供一負壓到吸引溝148內(nèi)，以將盤片基板112吸附固定于載置面142上。此外，除了盤片基板112下面的內(nèi)周緣與外周緣外，載置面142上的逃脫部150與對應(yīng)至記錄層120的區(qū)域則懸浮于載置面142，其可以防止此區(qū)域被傷害或有塵埃等異物附著于其上。如圖8A所示，將盤片基板112載置于轉(zhuǎn)盤140的載置面142上；然后，如圖8B所示，利用噴嘴狀的噴罐154，將紫外線硬化黏著劑126供應(yīng)到盤片基板112上的記錄面114。在從噴罐154供應(yīng)紫外線硬化黏著劑126時，沿著半徑方向?qū)姽?54的位置調(diào)整到在中心孔128外周側(cè)的一預(yù)定距離上。此時，使轉(zhuǎn)盤140以低速旋轉(zhuǎn)并且使紫外線硬化黏著劑126從噴罐154滴下。因此，從噴罐154滴下的紫外線硬化黏著劑126可以在距離中心孔128一預(yù)定距離的外周側(cè)，形成環(huán)狀而附著于記錄面114上。此外，在供應(yīng)紫外線硬化黏著劑126到記錄面114時，也可以不使轉(zhuǎn)盤140旋轉(zhuǎn)，而讓噴罐154本身沿著圓周方向移動，而同時將紫外線硬化黏著劑126從噴罐154滴下。接著，如圖8C所示，將片板124緩緩地下降到盤片基板112上，使凸柱144插入到片板124的中心孔130內(nèi)，以決定出位置使得片板124與轉(zhuǎn)盤140成為同軸配置；然后，再將片板124載置到盤片基板112。因此，利用已形成記錄層的盤片基板112，以及透過紫外線硬化黏著劑126載置到盤片基板112的片板124來構(gòu)成所謂的光盤片積層體156。再者，利用片板124，將盤片基板112上的紫外線硬化黏著劑126分別往內(nèi)周側(cè)與外周側(cè)加壓延展。此時，設(shè)定紫外線硬化黏著劑126從噴罐154至記錄面114的供應(yīng)位置與供應(yīng)量，使得向內(nèi)周側(cè)紫外線硬化黏著劑126可以被加壓延伸至盤片基板112上的內(nèi)周側(cè)的預(yù)定的半徑位置。再者，從紫外線硬化黏著劑126完成供應(yīng)至記錄面114到載置片板124的時間可以被適當(dāng)?shù)卣{(diào)整。在轉(zhuǎn)盤140上形成光盤片積層體156后，使旋涂機內(nèi)的轉(zhuǎn)盤140高速旋轉(zhuǎn)。因此，光盤片積層體156將與轉(zhuǎn)盤140一同旋轉(zhuǎn)，光盤片積層體156中的盤片基板112與片板124之間的紫外線硬化黏著劑126將因離心力往外周側(cè)延展而被薄膜化，這使得盤片基板112與片板124間的可以大致均勻。此時，盤片基板112與片板124之間剩余的紫外線硬化黏著劑126會因為離心力的影響，從盤片基板112與片板124的外周端之間，往外周側(cè)飛散到轉(zhuǎn)盤140附近并附著于其上。但是，在硬化的前，紫外線硬化黏著劑126具有充分的流動性，故可以容易地去除與回收。如圖9所示，3個插入溝158沿著轉(zhuǎn)盤140的凸柱144的軸方向，形成于其外周面上。此三個插入溝158分別從凸柱144的頂端延伸至其底部，并且以軸心ST1為中心沿著圓周方向，以等間距方式(120°)配置。此外，在轉(zhuǎn)盤140的載置面142上，環(huán)狀凹部160沿著凸柱144的底部，形成于吸引溝148的內(nèi)周側(cè)。凹部160的內(nèi)徑等于從軸心ST1到插入溝158底部的距離，但也可以略小。此外，凹部160的外徑僅比盤片基板112還長一預(yù)定長度。3個插入溝158的下端分別連接到凹部160。另一方面，如圖7所示，在光盤片搬運裝置138中，在旋涂機134與紫外線照射裝置136的共通樓板(未繪出)上設(shè)置支撐基臺162。在支撐基臺162上，設(shè)置可以在其上面旋轉(zhuǎn)與升降的旋轉(zhuǎn)臺164，以及在其內(nèi)部設(shè)置用來驅(qū)動旋轉(zhuǎn)臺164的旋轉(zhuǎn)與升降的驅(qū)動機構(gòu)(未繪出)。旋轉(zhuǎn)臺164則連接到細長的搬運臂166的基端。搬運臂166被旋轉(zhuǎn)臺164支撐成懸吊狀態(tài)，而略在水平方向延伸。此外，搬運臂166的前端連接到一略呈筒狀的光盤片連接部168。如圖9所示，3個固定器170設(shè)置成突出于光盤片連接部168的下端面。此3個固定器170分別做成細長的桿狀。固定器170被光盤片連接部168所支撐，使得其長邊方向得以與轉(zhuǎn)盤140的軸心ST1平行。此3個固定器170對應(yīng)凸柱144上的三個插入溝158，而沿著圓周方向，以120°的等間距方式配置。此外，各固定器170的前端具有爪部172，其以略成直角的角度往外周側(cè)彎曲。光盤片連接部168可移動地支撐3個固定器170，使其可以光盤片連接部168的中心軸為中心，沿著半徑方向移動。利用配置在內(nèi)部的電磁螺線管等的致動器，使3個固定器170可以在圖9中實線所示的固定位置與虛線所示的待機位置間移動。如圖8D所示，當(dāng)光盤片積層體156形成在轉(zhuǎn)盤140上，并且完成光盤片積層體156的旋涂后，光盤片搬運裝置138便將光盤片積層體156從旋涂機134的轉(zhuǎn)盤140搬運到紫外線照射裝置136中(參考圖7)。當(dāng)搬運轉(zhuǎn)盤140上的光盤片積層體156時，光盤片搬運裝置138首先調(diào)整旋轉(zhuǎn)臺164在旋轉(zhuǎn)方向與上下方向的位置，使光盤片連接部168的中心與轉(zhuǎn)盤140的軸心ST1一致，并且使固定器170的下端保持在轉(zhuǎn)盤140上的光盤片積層體156上方。接著，連同旋轉(zhuǎn)臺，使搬運臂166與光盤片連接部168下降；并且下降旋轉(zhuǎn)臺164，使得保持在圖9虛線所示的待機位置上的固定器170，分別插入到凸柱144上的3個插入溝158內(nèi)，通過中心孔128、130后，固定器170的爪部172便突出于盤片基板112的下方。此時，因為固定器170的前端被插入到轉(zhuǎn)盤140的凹部160，故固定器170可突出于盤片基板112的下方，而不會接觸到轉(zhuǎn)盤140。在固定器170通過中心孔128、30而突出于盤片基板112下方后，光盤片搬運裝置138利用光盤片連接部168，將3個固定器170分別從圖9實線所示的待機位置移動到虛線所示的固定位置。因此，以固定器170的爪部172分別固定住盤片機板112的下表面在此狀態(tài)下使旋轉(zhuǎn)臺上升后，利用固定器170固定住盤片基板112的光盤片積層體156會與光盤片連接部168一起上升，而舉到轉(zhuǎn)盤140的上方。當(dāng)光盤片積層體156從轉(zhuǎn)盤140被舉起后，光盤片搬運裝置138使旋轉(zhuǎn)臺164向紫外線照射裝置136的方向旋轉(zhuǎn)，如圖10A所示，使光盤片連接部168移動到紫外線照射裝置136的轉(zhuǎn)盤174上方。此時也調(diào)整旋轉(zhuǎn)臺164的在旋轉(zhuǎn)方向的位置，使光盤片連接部168的中心與轉(zhuǎn)盤174的軸心ST2一致。另一方面，如圖10A～圖10C所示，在紫外線照射裝置136的轉(zhuǎn)盤174上也立設(shè)一凸柱178，用以決定光盤片積層體156的位置。在凸柱178的外周面上，也設(shè)置與旋涂機134的凸柱144相同的3個插入溝180。此外，與旋涂機134的轉(zhuǎn)盤140相同，在轉(zhuǎn)盤174的載置面176上沿著凸柱178的底部也形成環(huán)狀的凹部182。當(dāng)光盤片連接部168的中心與轉(zhuǎn)盤的軸心ST2一致后，光盤片搬運裝置138使旋轉(zhuǎn)臺164與光盤片連接部168一同下降；如圖10B所示，將以固定器170懸吊在光盤片連接部168下方的光盤片積層體156，載置到轉(zhuǎn)盤174的載置面176上。此時，固定光盤片積層體156的3個固定器170通過凸柱178上的插入溝180內(nèi)而下降，在光盤片積層體156載置到轉(zhuǎn)盤174的前，其前端插入轉(zhuǎn)盤174上的凹部182內(nèi)。藉此，光盤片連接部168可以將光盤片積層體156載置到轉(zhuǎn)盤174上，而不會使3個固定器170接觸到凸柱178與轉(zhuǎn)盤174。當(dāng)光盤片積層體156載置到轉(zhuǎn)盤174上后，光盤片搬運裝置138利用光盤片連接部168使3個固定器170分別從固定位置移動到待機位置。然后，連同旋轉(zhuǎn)臺將光盤片連接部168上升，而將固定器170從中心孔128、130內(nèi)拔出，以從光盤片積層體156脫離出來。此外，在本實施例中，從旋轉(zhuǎn)臺164的旋轉(zhuǎn)軸到轉(zhuǎn)盤140的軸心ST1為止的距離以及從旋轉(zhuǎn)臺的旋轉(zhuǎn)軸到轉(zhuǎn)盤174的軸心ST2為止的距離兩者是一致的，故僅以旋轉(zhuǎn)臺164為中心來轉(zhuǎn)動搬運臂166，便可以使光盤片連接部168的中心與軸心ST1、軸心ST2任何一個一致。然而，其間的軸距不一致的話，搬運臂166可以沿著他的長邊方向伸縮；故由一邊使搬運臂166旋轉(zhuǎn)一邊調(diào)整它的臂長，也可以使光盤片連接部168的中心與軸心ST1、軸心ST2任何一個一致。此外，可以使支撐基162臺本身沿著水平方向前進或后退，來旋轉(zhuǎn)搬運臂166并且調(diào)整從支撐臺162到旋涂機134與紫外線照射裝置136為止的距離，而使光盤片連接部168的中心與軸心ST1、軸心ST2任何一個一致。如圖10A至圖10C所示，紫外線照射裝置136的轉(zhuǎn)盤174的下面中心部也連接到旋轉(zhuǎn)軸184，此旋轉(zhuǎn)軸184以可旋轉(zhuǎn)的方式支撐轉(zhuǎn)盤174，而旋轉(zhuǎn)軸184則直接或透過力矩傳輸機構(gòu)來連接到步進馬達(未繪出)。此外，本實施例的光盤片搬運裝置138中，在使轉(zhuǎn)盤140、174停止旋轉(zhuǎn)時，利用控制用來分別旋轉(zhuǎn)驅(qū)動轉(zhuǎn)盤140、174的步進馬達的位相，以3個插入溝158、180與3個固定器170彼此一致的位相，使轉(zhuǎn)盤140、174經(jīng)常停止旋轉(zhuǎn)。如圖10A到圖10C所示，在紫外線設(shè)裝置136中，紫外線燈186配置在轉(zhuǎn)盤174的上方。當(dāng)光盤片積層體156載置在轉(zhuǎn)盤174，而轉(zhuǎn)盤174開始以低速旋轉(zhuǎn)時，紫外線燈186便以預(yù)定波長的紫外線照射在光盤片積層體156上。此紫外線會穿透光盤片積層體156的片板，并入射至薄膜化的紫外線硬化黏著劑126。因此，紫外線硬化黏著劑126開始硬化反應(yīng)，在經(jīng)過預(yù)定的硬化時間后，在片板124與盤片基板114之間硬化的紫外線硬化黏著劑126便完全硬化。因此，片板124便黏著到盤片基板112上，并且紫外線硬化黏著劑126與片板124便形成覆蓋層122。紫外線硬化黏著劑126完全硬化后的光盤片積層體156便成為如圖6所示產(chǎn)品的光盤片110。光盤片110從轉(zhuǎn)盤174上被搬運到如輸送帶等的搬運器具。由此搬運器具，光盤片110便被搬運到應(yīng)來暫時保管的保管空間，或者搬運到印刷裝置，用以在光盤片110上印刷卷標(biāo)。此外，當(dāng)光盤片110從轉(zhuǎn)盤174搬運到搬運器具時，也與從轉(zhuǎn)盤140到轉(zhuǎn)盤174的搬運相同，可以使用盤片搬運裝置138來搬運。此外，也可以使用與盤片搬運裝置138不同的搬運器具來進行搬運。此時，因為紫外線硬化黏著劑126的硬化已完成，并且片板124已足夠的強度貼合到盤片基板112，故即使以吸盤狀的吸著裝置吸住光盤片110的片板124并且將光盤片110舉起，片板124上也不會引起縐折與剝離。若利用以上所說明的本實施例的光盤片積層體156的搬運方法，在盤片基板112與片板124之間的紫外線硬化黏著劑126硬化前，透過紫外線硬化黏著劑126而將片板124載置到盤片基板112的光盤片積層體156，以盤片搬運裝置138從轉(zhuǎn)盤140搬運到轉(zhuǎn)盤174。在此情形，盤片基板112以固定具170加以固定，從盤片積層體來的載重被固定具170所支撐，并且以盤片搬運裝置138的搬運臂166來舉起光盤片積層體156，故在搬運光盤片積層體156時，來自盤片搬運裝置138的載重便不會直接作用到片板124上。因此，可以防止來自盤片搬運裝置138的載重對光盤片積層體156的片板124引起縐折，并且可以防止片板124從盤片基板112上局部地剝離。其次，在本實施例的光盤片積層體的搬運方法中，雖然僅說明將光盤片積層體156從旋涂機134的轉(zhuǎn)盤140搬運到紫外線照射裝置136的轉(zhuǎn)盤174，但是光盤片積層體156在搬運前與搬運后的位置并未限定于此情形。若本實施例的光盤片積層體的搬運方法適用的話，在紫外線硬化黏著劑126硬化前，即使將光盤片積層體156舉起搬運，在搬運時也可以防止光盤片積層體156上的片板124產(chǎn)生縐折與剝離。此外，在本實施例的光盤片積層體的搬運方法中，也適用于當(dāng)將圖1所示的光盤片10從旋涂機34的轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置52等的其它裝置或場所。再者，在本實施例的盤片搬運裝置138中，以三個固定具170來固定盤片基板112的內(nèi)周緣，將光盤片連接裝置168連結(jié)到盤片基板112。然而，也可以利用復(fù)數(shù)個具有往內(nèi)側(cè)突出的爪部的固定具，將盤片基板112的外周緣加以固定，并將光盤片連接裝置168連結(jié)到盤片基板112。此外，如本實施例所述，將光盤片連接裝置168直接連接到盤片基板112并非是唯一的方式。例如，可以將旋涂機134的轉(zhuǎn)盤140做成可拆卸式，以固定具將此轉(zhuǎn)盤固定住，來間接地將光盤片連接裝置168連結(jié)到盤片基板112。重要的是，當(dāng)在光盤片積層體156被舉起的狀態(tài)時，假如來自光盤片搬運裝置138的載重部會直接作用到片板122的話，將光盤片連接裝置168連結(jié)到盤片基板112的形式與光盤片連接裝置168的構(gòu)造便不是很重要。此外在本實施例中，光盤片搬運裝置138使用具有可升降與可旋轉(zhuǎn)的搬運臂的旋臂式裝置，然而光盤片搬運裝置138的結(jié)構(gòu)并未加以限定。此外，光盤片搬運裝置也可以例如是包括可在旋涂機134與紫外線照射裝置136上方二維移動的載具(carrier)，以及搭載在載具上，可以使光盤片連接裝置沿上下方向移動的起重裝置。實驗例以下依據(jù)上述本發(fā)明的光盤片制造方法與光盤片積層體搬運方法的實施例，舉出幾個具體實驗例與比較例，來做更進一步的說明。實驗例1在此實驗例中，光盤片的盤片基板以厚度1.2mm，外徑120mm的聚碳酸酯為材料，以模造成形的方式制作。在此盤片基板的記錄面上，形成溝深175nm、溝寬500nm、軌距(trackpitch)1600nm的導(dǎo)引溝。此外，在記錄面上，以DC磁濺鍍機，形成厚度80nm的鋁膜，做為光反射層之用。另一方面，片板使用厚度62μm的聚對苯二甲酸乙酯(polyethyleneterephthalate，PET)的透明薄膜，并將其加工成與盤片基板的形狀相同。此外，在本實驗例的盤片基板中，環(huán)狀的溝槽(以下稱為內(nèi)周環(huán)狀溝)形成在記錄面的記錄層的內(nèi)周側(cè)。此內(nèi)周環(huán)狀溝相當(dāng)于圖1至圖5所示的光盤片10的溝槽30。將上述的盤片基板載置到旋涂機的轉(zhuǎn)盤上，此轉(zhuǎn)盤以60rpm的低速旋轉(zhuǎn)，并且將紫外線硬化黏著劑滴在盤片基板的記錄面上，使紫外線硬化黏著劑環(huán)狀地附著于記錄面上的記錄層的內(nèi)周側(cè)。透過此紫外線硬化黏著劑，將片板載置到盤片基板上。接著，利用此片板，將紫外線硬化黏著劑押壓使其延伸到內(nèi)周環(huán)狀溝，然后將轉(zhuǎn)盤以4400rpm的高速旋轉(zhuǎn)。由離心力，盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑便向外周側(cè)延伸。剩余的紫外線硬化黏著劑便向光盤片積層體的外周側(cè)飛散。旋轉(zhuǎn)涂布后，將搬運裝置的光盤片連接裝置連接到光盤片積層體的盤片基板，并將此光盤片積層體從旋涂機的轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置的轉(zhuǎn)盤。接著將轉(zhuǎn)盤以低速旋轉(zhuǎn)，照射紫外線燈所發(fā)出的紫外線，使盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑硬化。然后，以切割刀將片板沿著記錄面上的內(nèi)周環(huán)狀溝的內(nèi)周側(cè)切割，以形成圓形的開口，并將片板在內(nèi)周環(huán)狀溝內(nèi)周側(cè)的非黏著部分，從盤片基板上去除。以上述方式所制造的光盤片，片板可以均勻地貼合在盤片基板上，故不會觀察到片板上的局部剝離以及紫外線硬化黏著劑附著到覆蓋層的表面上。比較例1在比較例1中，除了沒有在盤片基板的記錄面內(nèi)周側(cè)上形成內(nèi)周環(huán)狀溝外，其余的部分與實驗例1相同。此外，比較例1所使用的片板與上述實驗例中開口被切斷加工的片板的形狀相同。在比較例1中，將盤片基板載置到轉(zhuǎn)盤上，并將紫外線硬化黏著劑供應(yīng)到盤片基板的記錄面上。此時，紫外線硬化黏著劑的供應(yīng)量與沿著盤片基板的半徑方向的供應(yīng)位置，均與實驗例1相同。透過紫外線硬化黏著劑，將片板載置到盤片基板上，由片板將紫外線硬化黏著劑押壓延伸到內(nèi)周側(cè)，但是紫外線硬化黏著劑在到片板內(nèi)周側(cè)為止的范圍并非均勻涂布。接著，以與實驗例1相同的條件，使旋涂機的轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，并且由離心力使盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑向外周側(cè)延展，剩余的紫外線硬化黏著劑便往光盤片積層體的外周側(cè)飛散。旋轉(zhuǎn)涂布后，將搬運裝置的光盤片連接裝置連接到光盤片積層體的盤片基板，并將此光盤片積層體從旋涂機的轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置的轉(zhuǎn)盤。接著將轉(zhuǎn)盤以低速旋轉(zhuǎn)，照射紫外線燈所發(fā)出的紫外線，使盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑硬化。在比較例1的光盤片上，片板內(nèi)周緣可以用眼睛看到非黏著部分，外觀上的品質(zhì)比實驗例的光盤片還差。此外，比較例1的光盤片若反復(fù)地加載取出于一光盤裝置，便會從片板內(nèi)周緣部產(chǎn)生剝離。比較例2在比較例2中，除了沒有在盤片基板的記錄面內(nèi)周側(cè)上形成內(nèi)周環(huán)狀溝外，其余的部分與實驗例1相同。此外，比較例1所使用的片板與上述實驗例中開口被切斷加工的片板的形狀相同。在比較例2中，將盤片基板載置到轉(zhuǎn)盤上，并將紫外線硬化黏著劑供應(yīng)到盤片基板的記錄面上。此時，紫外線硬化黏著劑的供應(yīng)量與實驗例1相同。但是，紫外線硬化黏著劑的沿著盤片基板半徑方向的供應(yīng)位置則比實驗例更往內(nèi)周側(cè)移動。由載置到盤片基板上的片板，將紫外線硬化黏著劑押壓延伸到內(nèi)周側(cè)，此時剩余的紫外線硬化黏著劑會從盤片基板與片板之間，微量地往內(nèi)周側(cè)溢出。接著，以與實驗例1相同的條件，使旋涂機的轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，并且由離心力使盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑向外周側(cè)延展，剩余的紫外線硬化黏著劑便往光盤片積層體的外周側(cè)飛散。旋轉(zhuǎn)涂布后，將搬運裝置的光盤片連接裝置連接到光盤片積層體的盤片基板，并將此光盤片積層體從旋涂機的轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置的轉(zhuǎn)盤。接著將轉(zhuǎn)盤以低速旋轉(zhuǎn)，照射紫外線燈所發(fā)出的紫外線，使盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑硬化。在比較例2中的光盤片上，當(dāng)進行旋涂時，從盤片基板與片板之間所溢出的紫外線硬化黏著劑將以中心孔為中心，放射狀地附著于光盤片表面。由于紫外線的照射，附著與光盤片表面的紫外線硬化黏著劑便成為放射狀污斑。因此，比較例2中的光盤片的外觀品質(zhì)比實驗例的光盤片還差。此外，因紫外線硬化黏著劑所形成的放射狀污斑，便成為產(chǎn)生激光擴散、衰減，以及對光盤片的記錄再生誤差的原因。比較例3在比較例3中，盤片基板與片板使用與實驗例1相同物。在比較例3中，將盤片基板載置到轉(zhuǎn)盤上，并將紫外線硬化黏著劑供應(yīng)到盤片基板的記錄面上。此時，紫外線硬化黏著劑的供應(yīng)量與沿著盤片基板半徑方向的供應(yīng)位置，均與實驗例1相同。透過紫外線硬化黏著劑，將片板載置到盤片基板上，由片板將紫外線硬化黏著劑押壓延伸到內(nèi)周側(cè)。接著，以與實驗例1相同的條件，使旋涂機的轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，并且由離心力使盤片基板與片板之間的紫外線硬化黏著劑向外周側(cè)延展，剩余的紫外線硬化黏著劑便往光盤片積層體的外周側(cè)飛散。旋轉(zhuǎn)涂布后，將搬運裝置的吸盤狀吸著裝置壓到光盤片積層體的片板上，并提供負壓至吸著裝置內(nèi)，以吸著并舉起光盤片積層體，然后在將此光盤片積層體搬運到紫外線照射裝置的轉(zhuǎn)盤，再以與實驗例相同的條件，使紫外線硬化黏著劑硬化。然后，以切割刀將片板沿著記錄面上的內(nèi)周環(huán)狀溝的內(nèi)周側(cè)切割，以形成圓形的開口，并將片板在內(nèi)周環(huán)狀溝內(nèi)周側(cè)的非黏著部分，從盤片基板上去除。以上述方式所制造的光盤片中，雖然并未觀察到紫外線硬化黏著劑附著到覆蓋層的表面，但片板在被吸著裝置所吸住的附近部分會產(chǎn)生剝離。在此剝離部分會觀察到空氣侵入片板與盤片基板。如上所說明的光盤片制造方法，片板的從內(nèi)周緣到外周緣部分均可以利用紫外線硬化黏著劑均勻地黏著于盤片基板上，并且可以防止在貼合時，剩余的黏著劑附著到盤片表面上。此外，依據(jù)本發(fā)明的光盤片積層體搬運方法，在片板上不會產(chǎn)生縐折與剝離，而在盤片基板與片板之間的黏著劑硬化前，光盤片積層體可以被舉起搬運。綜上所述，雖然本發(fā)明已以實施例說明如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當(dāng)以權(quán)利要求書為準(zhǔn)。權(quán)利要求1.一種光盤片積層體的搬運方法，適用于在將一信息記錄層形成于一盤片基板與比該盤片基板薄的透明覆蓋層之間，而該覆蓋層以一黏著劑將一透明片板黏著到該盤片基板上，以形成該光盤片的過程中，其特征為該光盤片積層體的搬運方法包括在該片板與該盤片基板之間的紫外線硬化黏著劑硬化前，利用用來搬運該光盤片積層體的一搬運裝置，將利用該黏著劑使該片板載置于該盤片基板的該光盤片積層體舉起搬運時，將該搬運裝置連接到該光盤片積層體的該盤片基板，經(jīng)由該盤片基板，以該搬運裝置來支撐來自該光盤片積層體的載重，并且利用該搬運裝置將該光盤片積層體舉起搬運，其中該搬運裝置包括回轉(zhuǎn)臺，旋轉(zhuǎn)地支撐在該回轉(zhuǎn)臺上的支撐基臺，與支撐基臺連接并用以盤片基板的搬運搬運臂，以及架構(gòu)在該搬運搬運臂的末端且連接到該盤片基板的盤片連接部。2.如權(quán)利要求1所述的光盤片積層體的搬運方法，其特征為該搬運裝置在搬運該光盤片積層體時，將復(fù)數(shù)個固定具插入貫穿該盤片基板的一中心孔內(nèi)，由該些固定具固定住該中心孔的周緣，以連接到該盤片基板。3.如權(quán)利要求1或2所述的光盤片積層體的搬運方法，其特征為在該片板與該盤片基板之間所充填的是紫外線硬化黏著劑，該搬運裝置將該光盤片積層體從旋涂機的轉(zhuǎn)盤搬運到紫外線照射裝置。全文摘要光盤片的制造方法及光盤片積層體的搬運方法，利用黏著劑將片板的內(nèi)周緣到外周緣貼合到盤片基板，并且在貼合時可以防止剩余的黏著劑附著到光盤片表面。當(dāng)進行片板(22)與盤片基板(12)的貼合時將紫外線硬化黏著劑供給到盤片基板(12)上的溝槽(30)外周側(cè)后，片板(22)載置到盤片基板(12)上，將紫外線硬化黏著劑(24)加壓使得延展至溝槽(30)。因為剩余的紫外線硬化黏著劑(24)會流入溝槽(30)而被阻隔，故剩余的紫外線硬化黏著劑(24)將很難流到溝槽(30)的內(nèi)周側(cè)。即使紫外線硬化黏著劑(24)溢出到溝槽(30)的內(nèi)周側(cè)，因為紫外線硬化黏著劑(24)會被保持在片板(22)的非黏著部分(23)與盤片基板(12)之間，可防止其移動到光盤片表面。文檔編號B32B37/12GK1641767SQ20041008898公開日2005年7月20日申請日期2002年6月6日優(yōu)先權(quán)日2001年6月7日發(fā)明者片山和俊,宇佐美由久申請人:富士寫真軟片株式會社