專利名稱：可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃，具體是一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
隨著國產(chǎn)設(shè)備性能的提升及鍍膜玻璃產(chǎn)品的大批量投入使用，目前市場上的普通低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品市場競爭激烈。傳統(tǒng)低輻射鍍膜玻璃在玻璃完成鍍膜后必須要在短時間內(nèi)完成中空玻璃，因此玻璃不能長途運輸?shù)疆惖睾铣芍锌眨@為玻璃大規(guī)模推廣及加工帶來了限制。某些玻璃深加工企業(yè)為了保持自身在競爭中優(yōu)勢，利用自身國外設(shè)備性能的優(yōu)勢，來提高生產(chǎn)效率，降低成本以提升產(chǎn)品的競爭力，而可異地加工的低輻射鍍膜玻璃便由此而來，然而目前市場上的可異地加工的低輻射鍍膜玻璃經(jīng)常由于膜層硬度不夠，在預(yù)處理過程中容易造成劃傷、擦傷，并且抗氧化能力較差，儲存時間稍長便會出現(xiàn)氧化現(xiàn)象，

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)目是解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，提供一種耐磨性高、抗氧化性能好的可鋼化低輻射鍍膜玻璃本發(fā)明的技術(shù)方案是一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍在玻璃基板上的鍍膜，其特征在于所述鍍膜自玻璃基板向外依次包括第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、紅外線阻隔層、第二保護(hù)層和第二電介質(zhì)層。所述紅外線阻隔層為銀合金材料。作為優(yōu)選，所述銀合金材料可選用現(xiàn)有的Ag-Cu 合金、Ag-Zn合金、Ag-Ni合金或Ag-Ti合金。所述的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層的膜層材料為Si3N4、Si0xNy、Si02中的一種或幾種，即其膜層材料可以是一種材料構(gòu)成的單層，或是幾種材料混合的膜層，或者是幾種材料各自的單層疊加的組合層構(gòu)成。所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層為的膜層材料為NiCr、NiCrOx、CrNx, ZrO, AZO、 NiCrNx中的一種或幾種。上述各膜層的鍍制工藝為第一電介質(zhì)層和第二電介質(zhì)層，通過旋轉(zhuǎn)交流陰極的硅鋁靶在氮氬氛圍中濺射， 其中質(zhì)量比Si Al = 92 8;第一電介質(zhì)層的膜層作用是a、阻止玻璃中的Na+向膜層中滲透；b、提供膜層的吸附力；C、保護(hù)整個膜層結(jié)構(gòu)，減少氧化，提高產(chǎn)品物理和化學(xué)性能； d、控制膜系的光學(xué)性能和顏色；第二電介質(zhì)層的膜層作用是a、提高玻璃的機(jī)械性能，b、 保護(hù)整個膜層，阻擋空氣中的化學(xué)物質(zhì)或氧氣侵蝕紅外阻隔層，C、調(diào)整玻璃顏色。紅外線阻隔層，通過直流平面陰極的合金銀靶在氬氣氛圍中濺射；該膜層是主要功能層，用于降低輻射率，以起到隔熱、保溫的效果；第一保護(hù)層和第二保護(hù)層，通過直流平面陰極在純氬或氬氧、氬氮氛圍中濺射，靶材可以是NiCr、Cr、ΑΖ0、&靶中的一種或幾種，其中質(zhì)量百分比Ni Cr = 80 20 ；該膜層的作用是a、保護(hù)銀層不被氧化；b、增加銀層同其它膜層的結(jié)合力。本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，相較于現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃，其耐磨性及抗氧化性能均得到了很大的提升，有效避免了現(xiàn)有產(chǎn)品中存在的問題。


圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明的鍍制流程示意圖。
具體實施例方式為了闡明本發(fā)明的技術(shù)方案及技術(shù)目的，下面結(jié)合附圖及具體實施方式

對本發(fā)明做進(jìn)一步的介紹。如圖所示，一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍在玻璃基板上的鍍膜， 所述鍍層自玻璃基板向外依次包括第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、紅外線阻隔層、第二保護(hù)層和第二電介質(zhì)層。所述的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層的膜層為Si3N4、SiOxNy, SiO2中的一種或幾種。所述紅外線阻隔層為銀合金材料，所述銀合金材料在現(xiàn)有材料中優(yōu)選Ag-Cu合金、Ag-Si合金、Ag-Ni合金或Ag-Ti合金中的一種。所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層為NiCr、NiCrOx、CrNx、ZrO、AZO、NiCrNx材料中的一種或幾種構(gòu)成。本發(fā)明采用磁控濺射鍍膜機(jī)，采用下表列出工藝參數(shù)，使用4個交流旋轉(zhuǎn)雙陰極， 3個直流平面陰極，制出本發(fā)明可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中1#、姊鍍制第一電介質(zhì)層，3# 鍍制第一保護(hù)層，4#鍍制紅外線阻隔層，5#鍍制第二保護(hù)層，6#、7#鍍制第二電介質(zhì)層。其工藝參數(shù)和靶的位置列表如下
靶位序號陰極類型靶材料(質(zhì)量比)濺射工藝氣壓(mbar )工藝氣體成分 (體積比)膜層厚度(nm)1#交流旋轉(zhuǎn)雙靶硅鋁(92: 8)4. 5E-3氮氬氧=4: 3: 143. 32#交流旋轉(zhuǎn)雙靶硅鋁(92: 8)4. 3E-3氮氬=4:權(quán)利要求
1.一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍在玻璃基板上的鍍膜，其特征在于 所述鍍膜自玻璃基板向外依次包括第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、紅外線阻隔層、第二保護(hù)層和第二電介質(zhì)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于 所述紅外線阻隔層為銀合金材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于 所述銀合金材料為Ag-Cu合金、Ag-Zn合金、Ag-Ni合金或Ag-Ti合金。
4.如權(quán)利要求1-3中任一權(quán)利要求所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于 所述的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層的膜層材料為Si3N4、SiOXNy、Si&中的一種或幾種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一權(quán)利要求所述的一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于第一保護(hù)層、第二保護(hù)層的膜層材料為NiCr、NiCrOx、CrNx、ZrO、AZO、NiCrNx中的一種或幾種。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍在玻璃基板上的鍍膜，其特征在于所述鍍膜自玻璃基板向外依次包括第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、紅外線阻隔層、第二保護(hù)層和第二電介質(zhì)層。本發(fā)明通過在紅外線阻隔層外加設(shè)金屬保護(hù)層，提高其耐磨性和抗氧化性，使鍍膜玻璃能夠承受長途運輸、加工預(yù)處理，甚至高溫處理，而產(chǎn)品外觀和性能均不會受到影響。
文檔編號B32B17/00GK102501452SQ201110381760
公開日2012年6月20日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
發(fā)明者林嘉宏 申請人:林嘉宏