專(zhuān)利名稱(chēng)：用于處理已成像的印版的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于處理已成像的印版的方法。此外，本發(fā)明涉及可 重復(fù)成像的印版及用于處理已成像的印版的裝置。
背景技術(shù)：
所述類(lèi)型的方法、印版及裝置在對(duì)己成像/重復(fù)成像的印版進(jìn)行成 像/重復(fù)成像及處理的領(lǐng)域內(nèi)、尤其是在處理承印物頁(yè)張的機(jī)器例如處 理紙張或硬紙板頁(yè)張的平版膠印機(jī)的印刷裝置中使用。由現(xiàn)有技術(shù)、例如由DE 102 27 054 Al公知了用兩親分子納米級(jí) 地覆蓋的平印版，這種平印版在循環(huán)過(guò)程中可多次成像，由此可重復(fù) 使用。公開(kāi)了一種具有親水印刷面的印版，它例如用自然氧化的鈦制 成，其中，印刷面覆蓋有強(qiáng)地連接在該表面上的兩親化合物?？稍谑?用紅外激光器的情況下使印版逐點(diǎn)成像。為此，在使用激光輻射的情 況下將非圖像區(qū)域中的對(duì)外起疏水作用的覆蓋層去除或解吸，在此情 況下產(chǎn)生親水的表面區(qū)域。還公知了給以這種方式成像的印版在成像 之后通過(guò)涂覆上膠物質(zhì)層來(lái)上膠。在印刷之后并且在重新覆蓋和重新 成像之前必須凈化該表面，必要時(shí)進(jìn)行初始化，因?yàn)樯夏z物質(zhì)層的殘 余可使得用兩親化合物重新覆蓋變難。DE 103 45 388 Al描述了一種用于給平版印刷的平印版上膠的方 法及組合物。為了在成像時(shí)保護(hù)以圖像形式暴露的載體、例如鋁載體 以避免氧化、指紋等，使平印版經(jīng)受上膠處理。例如用擠壓輥并且在 成像之后緊接著涂覆在平印版上的所述上膠物質(zhì)在存放及印刷機(jī)長(zhǎng)時(shí)間停機(jī)時(shí)保護(hù)平印版，而在印刷時(shí)不出現(xiàn)油墨接收問(wèn)題和/或差的空轉(zhuǎn)特性。上膠溶液的pH值取值大于7，上膠厚度通常取值3pm。這種上膠物質(zhì)的制造商例如Eggen Chemie對(duì)于上膠物質(zhì)Agum Z 規(guī)定使所涂覆的上膠物質(zhì)在涂覆之后緊接著干燥，例如在使用熱空 氣鼓風(fēng)機(jī)的情況下干燥。這種干燥例如在Kodak的印版顯影器 Polychrom 85中進(jìn)行。在印版印刷之前再將已干燥的上膠物質(zhì)層去除。 DE40 13464A1描述了印刷機(jī)的印版的自動(dòng)上膠，其中，借助于 一個(gè)上膠裝置通過(guò)潤(rùn)濕輥、必要時(shí)通過(guò)摩擦滾筒在印版上涂覆上膠液 體。為了自動(dòng)去除上膠物質(zhì)，借助于一個(gè)清洗裝置來(lái)清洗印版并且同 時(shí)清洗潤(rùn)濕輥及摩擦滾筒。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的任務(wù)在于，提供一種相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)改進(jìn)的方法，該方 法克服現(xiàn)有技術(shù)的所述這些缺點(diǎn)中的至少一個(gè)。本發(fā)明的另一個(gè)或替換的任務(wù)在于，提供一種相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)改 進(jìn)的用于處理已成像的印版的方法，根據(jù)該方法，上膠物質(zhì)的去除以 這樣的方式進(jìn)行，使得可簡(jiǎn)單且多次地重復(fù)使用印版。本發(fā)明的另一個(gè)或替換的任務(wù)在于，提供一種相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)改 進(jìn)的用于處理已成像的印版的方法，根據(jù)該方法，上膠物質(zhì)的去除以 這樣的方式進(jìn)行，使得可通過(guò)重復(fù)覆蓋及重復(fù)成像簡(jiǎn)單且多次地重復(fù) 使用印版。本發(fā)明的另一個(gè)或替換的任務(wù)在于，提供一種相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)改 進(jìn)的用于處理已成像的印版的方法，根據(jù)該方法，上膠物質(zhì)的去除以 這樣的方式進(jìn)行，使得印版可以以很少的開(kāi)機(jī)廢頁(yè)進(jìn)行印刷。本發(fā)明的另一個(gè)或替換的任務(wù)在于，提供一種相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)改 進(jìn)的可重復(fù)成像的印版，該印版可用簡(jiǎn)單的方式且多次地重復(fù)使用、尤其是重復(fù)覆蓋及重復(fù)成像。本發(fā)明的另一個(gè)或替換的任務(wù)在于，提供一種相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)改 進(jìn)的用于處理己成像的印版的裝置，該裝置可用簡(jiǎn)單的方式給印版上 膠以產(chǎn)生一個(gè)上膠物質(zhì)覆蓋層。根據(jù)本發(fā)明，這些任務(wù)各自通過(guò)開(kāi)頭所述類(lèi)型的用于處理已成像 的印版的方法、通過(guò)開(kāi)頭所述類(lèi)型的可重復(fù)成像的印版以及通過(guò)開(kāi)頭 所述類(lèi)型的用于處理已成像的印版的裝置來(lái)解決。從下述技術(shù)方案、說(shuō)明和附圖中得到本發(fā)明的有利的進(jìn)一步構(gòu)型。根據(jù)本發(fā)明的一種用于處理已成像的印版的方法，其中，在印版 的表面上涂覆液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于在一個(gè)與直到平版 印刷的液體涂覆到表面上的時(shí)間段相比短的時(shí)間段之后使上膠物質(zhì) 去除或減少，直到留下一個(gè)覆蓋層。根據(jù)本發(fā)明，按照第一方案，將上膠物質(zhì)在涂覆之后不久再去除 或減少，其中，雖然去除所涂覆的上膠物質(zhì)層但不去除一個(gè)保留的納 米級(jí)的上膠物質(zhì)覆蓋層。但保留的覆蓋層以有利的方式足夠用于印版 的繼續(xù)處理該保留的覆蓋層充分地保護(hù)印版的已成像的表面以免污 染并且充分地改善已成像的區(qū)域與未成像的區(qū)域之間的對(duì)比度。通過(guò) 減少覆蓋層上的上膠物質(zhì)使開(kāi)機(jī)廢頁(yè)顯著地降低并且由于可用兩親 分子重復(fù)覆蓋得到改善而使可重復(fù)使用性也得到改善。根據(jù)本發(fā)明的一種用于處理己成像的印版的方法，其中，在印版 的表面上涂覆液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于將上膠物質(zhì)在仍為 液體的狀態(tài)下去除或減少，直到留下一個(gè)覆蓋層。根據(jù)本發(fā)明，按照第二方案，將上膠物質(zhì)在仍為液體的狀態(tài)下、 即還在干燥之前去除或減少，直到留下一個(gè)保留的納米級(jí)的上膠物質(zhì) 覆蓋層。這得到與上面針對(duì)第一方案所述的優(yōu)點(diǎn)相同的優(yōu)點(diǎn)。根據(jù)本發(fā)明的方法的在減少開(kāi)機(jī)廢頁(yè)及可用兩親分子重復(fù)覆蓋 方面有利并且由此優(yōu)選的進(jìn)一步構(gòu)型的特征可在于將上膠物質(zhì)直接 在涂覆之后去除或減少。在此意義下"直接"可意味著涂覆與去除 /減少之間的時(shí)間段相對(duì)于為新印刷任務(wù)準(zhǔn)備可重復(fù)使用的印版的總 時(shí)間段可忽略并且例如在計(jì)算裝調(diào)時(shí)間時(shí)無(wú)需考慮。根據(jù)本發(fā)明的方法的在簡(jiǎn)單地并且化學(xué)上無(wú)問(wèn)題地去除上膠物 質(zhì)方面有利并且由此優(yōu)選的另一個(gè)進(jìn)一步構(gòu)型的特征可在于將上膠 物質(zhì)通過(guò)用VE水沖洗去除。根據(jù)本發(fā)明的方法的在所使用的裝置方面簡(jiǎn)單并且因此有利且 優(yōu)選的另一個(gè)進(jìn)一步構(gòu)型的特征可在于在使用一個(gè)合壓在印版的表 面上的涂覆輥的情況下來(lái)涂覆上膠物質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的方法的在用所使用的少量裝置進(jìn)行簡(jiǎn)單干燥方面 有利并且由此優(yōu)選的另一個(gè)進(jìn)一步構(gòu)型的特征可在于通過(guò)在使用涂 覆輥的情況下滾壓來(lái)干燥上膠物質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的一種可重復(fù)成像的印版，具有一個(gè)通過(guò)成像結(jié)構(gòu)化 的表面及一個(gè)在圖像區(qū)域中的具有兩親分子或具有聚合物、尤其是糖 類(lèi)的使表面化學(xué)官能化的納米級(jí)的覆蓋層，其特征在于設(shè)置有一個(gè) 在非圖像區(qū)域中的具有上膠物質(zhì)的納米級(jí)的覆蓋層。與現(xiàn)有技術(shù)的印版不同，根據(jù)本發(fā)明的印版不具有微米級(jí)厚度的 上膠物質(zhì)層，而僅具有一個(gè)納米級(jí)厚度的上膠物質(zhì)覆蓋層，但該納米 級(jí)厚度的上膠物質(zhì)覆蓋層可充分保護(hù)印版并且以有利的方式使得開(kāi) 機(jī)廢頁(yè)很少并且使得可用兩親分子重復(fù)覆蓋得到改善。根據(jù)本發(fā)明的印版的在覆蓋層的小厚度(或小層厚)方面有利并 且由此優(yōu)選的一個(gè)進(jìn)一步構(gòu)型的特征可在于設(shè)置有一個(gè)厚度小于約 100nm、尤其是小于約10nm的具有上膠物質(zhì)的覆蓋層。根據(jù)本發(fā)明的一種用于處理已成像的印版的裝置，該裝置具有一個(gè)輥，該輥以涂覆輥的功能將液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)涂覆在印版的表面 上，其特征在于該輥以清潔輥的功能在一個(gè)與直到平版印刷的液體 涂覆到表面上的時(shí)間段相比短的時(shí)間段之后去除或減少上膠物質(zhì)，直 到留下一個(gè)覆蓋層。根據(jù)本發(fā)明的裝置包括一個(gè)可多功能地使用并且被多功能地使 用的輥，該輥不僅用于涂覆上膠物質(zhì)而且用于去除或減少上膠物質(zhì)。 該裝置可包括一個(gè)控制裝置，該控制裝置在涂覆充分之后關(guān)斷上膠物 質(zhì)的輸入并且保持所述輥繼續(xù)合壓在印版上一個(gè)預(yù)定的時(shí)間段，由此 通過(guò)該輥進(jìn)行上膠物質(zhì)的去除/減少。在使用根據(jù)本發(fā)明的裝置時(shí)得到與上面針對(duì)本發(fā)明的方法己經(jīng) 描述的優(yōu)點(diǎn)相同的優(yōu)點(diǎn)。在本發(fā)明的范圍內(nèi)還可提出一種處理承印物的機(jī)器、尤其是用于 平版膠印的印刷機(jī)或處理頁(yè)張的輪轉(zhuǎn)印刷機(jī)，其特征在于設(shè)置有至 少一個(gè)如上針對(duì)本發(fā)明所描述的裝置。所述處理承印物的機(jī)器優(yōu)選涉及用于平版膠印、尤其是濕式膠印 的處理頁(yè)張的輪轉(zhuǎn)印刷機(jī)。所述承印物可涉及硬紙板、薄膜或優(yōu)選涉 及紙。所述印刷機(jī)可用單面印刷或優(yōu)選用雙面印刷的方式工作。所述 印刷機(jī)可使承印物具有單色的或優(yōu)選多色的印刷圖像。所述印刷機(jī)可 在承印物輸送方向上具有一個(gè)續(xù)紙裝置、 一個(gè)輸紙臺(tái)、多個(gè)印刷裝置、 一個(gè)翻轉(zhuǎn)裝置、另外一些印刷裝置、 一個(gè)上光裝置、 一個(gè)干燥器、一 個(gè)灑粉裝置和/或一個(gè)收紙裝置。所述印刷機(jī)可包括一個(gè)操作臺(tái)及一個(gè) 控制單元。也可規(guī)定，成像及上膠物質(zhì)的涂覆可在分開(kāi)的機(jī)器中實(shí)施。 所描述的本發(fā)明及本發(fā)明的所述有利的進(jìn)一步構(gòu)型也以彼此任 意的組合來(lái)表示本發(fā)明的有利的進(jìn)一步構(gòu)型。 ，


下面參照附圖借助于至少一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明及 本發(fā)明的其它結(jié)構(gòu)上及功能上有利的進(jìn)一步構(gòu)型。附圖表示 圖1根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的流程圖；及 圖2 根據(jù)本發(fā)明的裝置及根據(jù)本發(fā)明的印版的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施 例的示意性視圖。具體實(shí)施方式

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的用于處理已成像的印版的方法的一個(gè)優(yōu) 選實(shí)施形式的流程圖。這種印版例如可包含二氧化鈦或由二氧化鈦構(gòu) 成并且設(shè)置在載體上，例如金屬或塑料。該印版優(yōu)選構(gòu)造成用于平版 膠印的平印版。根據(jù)本發(fā)明的方法不僅可在處理承印物的機(jī)器中尤其 是在印刷機(jī)中使用，而且可至少部分地即至少有幾個(gè)方法步驟例如初 始化、覆蓋、成像、上膠和/或去除在這樣的機(jī)器外部實(shí)施。在方法步驟100 (初始化)中，在用分子重新覆蓋110之前將粗 凈化或選擇性細(xì)凈化(參見(jiàn)下面的方法步驟170)的表面初始化，其 方式是通過(guò)涂覆一種初始化液體尤其是水、VE水或含水的初始化溶 液來(lái)進(jìn)行表面的處理——優(yōu)選擦抹。優(yōu)選用具有明礬結(jié)構(gòu)的復(fù)鹽的水 溶液、特別優(yōu)選用例如0.1克分子的含水的硫酸鋁鉀溶液(明礬溶液， KA1(S04)242H20)進(jìn)行處理。通過(guò)初始化為用分子覆蓋、尤其是為均 質(zhì)疏水化準(zhǔn)備好表面，以便可實(shí)現(xiàn)用分子緊密覆蓋、即高的覆蓋程度。 然后，印版的表面具有用于分子的足夠多的活化的對(duì)接部位。對(duì)于重 新均質(zhì)覆蓋來(lái)說(shuō)顯影劑的充分去除僅通過(guò)粗凈化及細(xì)凈化大多得不 到保證。在方法步驟110 (覆蓋)中，將印版的表面在納米范圍內(nèi)進(jìn)行表 面改性，其方式是通過(guò)用分子處理——優(yōu)選擦抹表面、尤其是通過(guò)用分子覆蓋來(lái)進(jìn)行表面的化學(xué)官能化。優(yōu)選將分子溶解(例如在水中), 將該溶液或者直接地涂覆到表面上或者間接地通過(guò)一塊布涂覆到表 面上，例如噴射。作為用于覆蓋的分子優(yōu)選使用兩親分子，例如水溶 液中的膦酸或異羥肟酸。作為替換方案也可使用聚合物、尤其是糖類(lèi)。覆蓋引起表面的納米級(jí)變化，即在低于100nm或尤其是優(yōu)選低于10nm 的范圍內(nèi)變化。不僅可使用強(qiáng)連接在表面上的分子而且可使用弱連接 在表面上的分子。在使用弱連接的分子時(shí)必須使這些分子優(yōu)選在使用 紅外輻射的情況下固定在表面上。在選擇性的方法步驟115中(沖洗 及干燥)中，對(duì)表面優(yōu)選用VE水沖洗，接著干燥。沖洗液體或者直 接地涂覆在表面上或間接地例如通過(guò)一塊布涂覆在表面上。在方法步驟120 (成像)中，將被覆蓋的表面成像或在圖像區(qū)域 及非圖像區(qū)域中結(jié)構(gòu)化。為此，優(yōu)選用紅外激光器或其輻射來(lái)處理該 表面。在使用強(qiáng)連接的分子的情況下使這些分子通過(guò)激光輻射而在非 圖像區(qū)域(引導(dǎo)潤(rùn)濕劑的區(qū)域)中去除。在使用弱連接的分子的情況 下使這些分子通過(guò)激光輻射而在圖像區(qū)域(引導(dǎo)油墨的區(qū)域)中固定 以及在非圖像區(qū)域(引導(dǎo)潤(rùn)濕劑的區(qū)域)中去除。在選擇性的方法步 驟125 (沖洗及干燥)中按照方法步驟115進(jìn)行沖洗及干燥(參見(jiàn)前 面)。在方法步驟130 (上膠)中，在印版的已成像的表面上全面地涂 覆液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)(Gummierung)、優(yōu)選阿拉伯樹(shù)膠溶液或其它 上膠溶液(Gummierungsl6sung)，或給表面上膠。通過(guò)上膠使圖像區(qū) 域與非圖像區(qū)域之間的對(duì)比度由于非圖像區(qū)域中親水性的增強(qiáng)得到 改善并且同時(shí)使表面得到保護(hù)，例如以防指紋(在本申請(qǐng)中介質(zhì)"上 膠物質(zhì)"也應(yīng)在此意義上理解)。上膠物質(zhì)或者直接地涂覆在表面上 或者間接地例如通過(guò)一塊布涂覆在表面上。 '例如印版通過(guò)一個(gè)在壓力下合壓的涂覆輥一次地或優(yōu)選多次地被設(shè)置未稀釋的上膠溶液(例如Eggen-Chemie的AgumZ)，其中，在 約0.9與1.0g/r^之間涂覆上膠物質(zhì)。緊接著通過(guò)用VE水沖洗進(jìn)行上 膠物質(zhì)的去除，直到留下一個(gè)覆蓋層。保留的上膠物質(zhì)覆蓋層以g/m2 為單位的量與所涂覆的量相比可以忽略。緊接著又在壓力下在不添加 過(guò)程液體的情況下優(yōu)選多次地進(jìn)行表面與涂覆輥的滾壓并且由此進(jìn) 行干燥。在方法步驟140 (去除)中，在一個(gè)與直到平版印刷的液體、例 如潤(rùn)濕劑和/或印刷油墨涂覆到表面上(參見(jiàn)后面的方法步驟150)的 時(shí)間段相比短的時(shí)間段、優(yōu)選幾秒鐘至幾分鐘之后、例如至多2分鐘 之后再去除上膠物質(zhì)，直到留下一個(gè)覆蓋層。這意味著在現(xiàn)有技術(shù) 中在涂覆平版印刷的液體之前不久或在涂覆平版印刷的液體時(shí)、即在 平印版被存放的情況中在上膠后數(shù)小時(shí)才在期間已干燥并且固化的 狀態(tài)中通過(guò)單獨(dú)的清洗裝置或通過(guò)潤(rùn)濕裝置去除，而根據(jù)本發(fā)明，該 去除在上膠之后不久就已經(jīng)進(jìn)行。因此，上膠物質(zhì)的涂覆與去除之間 的時(shí)間段優(yōu)選比平版印刷的液體的去除與涂覆之間的時(shí)間段短。優(yōu)選(或作為替換方案)將上膠物質(zhì)在仍為液體的和/或未干燥的 狀態(tài)下、即還在干燥之前再去除，直到留下一個(gè)覆蓋層。特別優(yōu)選直 接在上膠物質(zhì)涂覆之后再將該上膠物質(zhì)去除，直到留下一個(gè)保留的覆蓋層。在方法步驟140中，使所涂覆的上膠物質(zhì)層的厚度降低或減少， 優(yōu)選到納米級(jí)尺寸上，由此也可將所涂覆并保留在表面上的上膠物質(zhì) 理解為納米級(jí)的覆蓋層。這樣一個(gè)上膠物質(zhì)覆蓋層可作為單層存在。 但在表面上也可存在多個(gè)層。如果將上膠物質(zhì)的涂覆及去除看作是一個(gè)唯一的過(guò)程，則不是涂 覆微米范圍內(nèi)的層，而是產(chǎn)生納米范圍內(nèi)的覆蓋層。但出人意料地'發(fā) 現(xiàn)，上膠物質(zhì)覆蓋層充分地改善了印版的已成像的表面的對(duì)比度并且充分地保護(hù)了已成像的表面。此外還發(fā)現(xiàn)，在具有根據(jù)本發(fā)明的上膠 物質(zhì)覆蓋層的印版中油墨接收及潤(rùn)濕劑引導(dǎo)以有利的方式非?？焖?地、即在兩張至三張承印物頁(yè)張的開(kāi)機(jī)廢頁(yè)之后就穩(wěn)定下來(lái)。具有根 據(jù)本發(fā)明的上膠物質(zhì)覆蓋層的印版的存放能力在此可有利地與傳統(tǒng) 的用上膠物質(zhì)涂層的印版相比擬。因此，根據(jù)本發(fā)明可放棄微米級(jí)厚 度的上膠物質(zhì)層。此外，根據(jù)本發(fā)明的且僅為納米級(jí)厚度的上膠物質(zhì) 覆蓋層在初始化的方法步驟中基本上可無(wú)殘余地去除，因此對(duì)可重復(fù) 覆蓋性無(wú)實(shí)質(zhì)性影響。在方法步驟150 (涂覆)中，在已成像和上膠的表面上涂覆平版 印刷的液體、例如潤(rùn)濕劑和/或印刷油墨。優(yōu)選在該表面上首先涂覆潤(rùn) 濕劑，接著附加地涂覆印刷油墨，即將表面潤(rùn)濕及著墨。如果使用弱 連接的兩親分子，在非圖像區(qū)域中就可通過(guò)涂覆潤(rùn)濕劑來(lái)去除這些兩 親分子。在方法步驟160 (印刷)中，已著墨的印版優(yōu)選重復(fù)地在承印物 上印刷，由此產(chǎn)生至少一個(gè)印刷產(chǎn)品。在方法步驟170 (凈化)中，對(duì)表面進(jìn)行處理，其中，進(jìn)行用于 去除油墨和/或污物的粗凈化(例如在使用微乳液凈化劑或傳統(tǒng)的油墨 凈化劑例如Printclean的情況下)。在選擇性的方法步驟175 (沖洗及 干燥)中，按照方法步驟115 (參見(jiàn)前面)進(jìn)行沖洗及干燥。然后在 使用例如異丙醇或優(yōu)選使用表面活性劑的情況下對(duì)粗凈化的表面進(jìn) 行處理，其中，進(jìn)行用于去除油墨殘余和/或污物殘余及用于去除粗凈 化的可能的化學(xué)試劑殘余的細(xì)凈化。在選擇性的方法步驟175 (沖洗 及干燥)中，按照方法步驟115 (參見(jiàn)前面)進(jìn)行重新的沖洗及干燥。在本發(fā)明的范圍內(nèi)可多次實(shí)施這些涂覆和/或去除介質(zhì)的方/去步 驟，其方式是例如承載有印刷技術(shù)表面的滾筒相應(yīng)頻繁地旋轉(zhuǎn)粗凈 化及細(xì)凈化(例如直接相繼地各進(jìn)行可達(dá)4次)、沖洗/干燥(例如直接相繼地各進(jìn)行可達(dá)4次)、初始化(例如直接相繼地各進(jìn)行可達(dá)4 次)、覆蓋(例如直接相繼地各進(jìn)行可達(dá)6次)及上膠(例如直接相 繼地各進(jìn)行可達(dá)6次)。圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的裝置的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施形式。該圖中示出 了一個(gè)滾筒200以及一個(gè)輥220，該滾筒作為處理承印物的機(jī)器的一 部分，該滾筒具有一個(gè)設(shè)置在其表面上的印版210，該印版已成像(表 示為圖像區(qū)域250)，該輥將儲(chǔ)備在一個(gè)槽230中的上膠物質(zhì)涂覆在印 版210的表面240上(表示為非圖像區(qū)域260)并且在第二模式中將 該上膠物質(zhì)去除/減少，直到留下一個(gè)覆蓋層。在此應(yīng)當(dāng)注意，無(wú)論是 劃線表示的圖像區(qū)域250還是以波型圖表示的非圖像區(qū)域260在真實(shí) 的印版上不能用肉眼直接識(shí)別。作為替換方案也可不使用輥而是使用 布處理裝置、例如通過(guò)兩個(gè)滾子引導(dǎo)的布來(lái)涂覆及去除/減少上膠物 質(zhì)。參考標(biāo)號(hào)清單100初始化110悪生115沖洗/干燥120成像125沖洗/干燥130上膠140去除150涂覆160印刷170凈化175沖洗/干燥200滾筒210印版220輥230槽240印版表面250圖像區(qū)域260非圖像區(qū)域
權(quán)利要求
1.用于處理已成像的印版的方法，其中，在該印版的表面上涂覆(130)液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于在一個(gè)與直到平版印刷的液體涂覆到該表面上的時(shí)間段相比短的時(shí)間段之后使該上膠物質(zhì)減少(140)，直到留下一個(gè)覆蓋層。
2. 尤其是根據(jù)權(quán)利要求1的用于處理已成像的印版的方法，其中， 在該印版的表面上涂覆(130)液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)，其特征在于.-將該上膠物質(zhì)在仍為液體的狀態(tài)下減少(140)，直到留下一個(gè)覆蓋層。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于將該上膠物質(zhì)直接 在該涂覆之后減少(140)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于將該上膠物質(zhì)通過(guò) 用VE水沖洗(140)減少。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于在使用一個(gè)合壓在 該印版的表面上的涂覆輥的情況下來(lái)涂覆(130)該上膠物質(zhì)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其特征在于通過(guò)在使用該涂覆輥的 情況下滾壓來(lái)干燥(140)該上膠物質(zhì)。
7. 可重復(fù)成像的印版，具有一個(gè)通過(guò)成像結(jié)構(gòu)化的表面(240)及 一個(gè)在圖像區(qū)域(250)中的具有兩親分子或具有聚合物、尤其是糖 類(lèi)的使該表面化學(xué)官能化的納米級(jí)的覆蓋層，其特征在于設(shè)置有一 個(gè)在非圖像區(qū)域(260)中的具有上膠物質(zhì)的納米級(jí)的覆蓋層。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7的可重復(fù)成像的印版，其特征在于設(shè)置有一 個(gè)厚度小于約lOOnm、尤其是小于約10nm的具有上膠物質(zhì)的覆蓋層。
9. 用于處理已成像的印版的裝置，該裝置具有一個(gè)輥，該輥以涂 覆輥(220)的功能將液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)涂覆在印版(210)的表面(240)上，其特征在于該輥以清潔輥(220)的功能在一個(gè)與直到平版印刷的液體涂覆到該表面上的時(shí)間段相比短的時(shí)間段之后減少 該上膠物質(zhì)，直到留下一個(gè)覆蓋層。
10.處理承印物的機(jī)器、尤其是用于平版膠印的印刷機(jī)或處理頁(yè)張 的輪轉(zhuǎn)印刷機(jī)，其特征在于設(shè)置有根據(jù)權(quán)利要求9的裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于處理已成像的、尤其是用兩親分子或用聚合物例如糖類(lèi)覆蓋的印版的方法，其中，在該印版的表面上涂覆(130)液體狀態(tài)的上膠物質(zhì)、尤其是顯微上膠物質(zhì)涂層，其特征在于在一個(gè)與直到平版印刷的液體、例如潤(rùn)濕劑或印刷油墨涂覆到該表面上的時(shí)間段相比短的或可忽略的時(shí)間段之后將該上膠物質(zhì)去除(140)或減少，直到留下一個(gè)保留的納米級(jí)的覆蓋層。上膠物質(zhì)的去除或減少優(yōu)選在仍為液體的狀態(tài)下、即在所涂覆的上膠物質(zhì)干燥之前并且優(yōu)選直接在涂覆之后進(jìn)行。保留的上膠物質(zhì)涂層保護(hù)印版免受污染并且提高親水性-疏水性對(duì)比度。
文檔編號(hào)B41N3/08GK101229735SQ2007101598
公開(kāi)日2008年7月30日 申請(qǐng)日期2007年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月20日
發(fā)明者H·格蘭特, M·帕祖赫, M·施勒霍爾茨 申請(qǐng)人:海德堡印刷機(jī)械股份公司