投射式燙畫裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種投射式燙畫裝置包括相互配合的第一基板和第二基板，所述第一基板上設(shè)置有帶有加熱器的導(dǎo)熱板，所述第二基板包括框體圍繞的透明基板和受溫度控制厚度的溫敏膜，所述溫敏膜設(shè)置在所述透明基板上，所述透明基板的下方依次設(shè)置有液晶板、聚光透鏡和光源，本實(shí)用新型利用所述液晶板控制照射在所述溫敏膜上的光線，使所述溫敏膜上形成印花區(qū)域的凸臺(tái)，使所述燙畫裝置只對(duì)織物印花區(qū)域進(jìn)行熱壓。
【專利說明】投射式燙畫裝置
所屬【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及紡織印花機(jī)械領(lǐng)域，特別地，是一種采用光學(xué)投射確定印花區(qū)域的燙畫裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]燙畫技術(shù)在印刷界的運(yùn)用十分廣泛，包括當(dāng)前的服裝燙花和金屬照片都是運(yùn)用燙畫技術(shù)完成的圖案效果。燙畫理論其實(shí)非常容易理解，即將影像輸出在轉(zhuǎn)印紙上，再以適當(dāng)?shù)臏囟扰c壓力轉(zhuǎn)印在不同材質(zhì)上的過程?？此葡喈?dāng)簡(jiǎn)單，但其實(shí)不然！燙畫技術(shù)易學(xué)難精，易因不了解產(chǎn)生誤解，這就造成了很多燙畫店失敗率極高，由于不同的燙畫機(jī)，所擁有的熱轉(zhuǎn)印加熱系統(tǒng)也不一樣，因此，這種大面積燙印對(duì)技術(shù)的要求很高。溫度是否均勻、壓力是否剛好、都將關(guān)系著燙畫的品質(zhì)。在燙印過程中，溫度與壓力都要適中，溫度或壓力太低無法附著，溫度或壓力太高圖案又會(huì)暈花甚至燒焦。
[0003]由于燙畫的圖案不同，燙畫機(jī)均使用同一熱壓板無差別的進(jìn)行熱壓，而不需要進(jìn)行覆蓋的區(qū)域也進(jìn)行了加熱，此區(qū)域的織物材質(zhì)被無端的熱壓，浪費(fèi)熱量的同時(shí)，破壞了織物的原有性能，需要對(duì)燙畫后的織物再次進(jìn)行整燙處理。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]為了解決上述問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種投射式燙畫裝置，該投射式燙畫裝置只對(duì)織物印花區(qū)域進(jìn)行熱壓。
[0005]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
[0006]該投射式燙畫裝置包括相互配合的第一基板和第二基板，所述第一基板上設(shè)置有帶有加熱器的導(dǎo)熱板，所述第二基板包括框體圍繞的透明基板和受溫度控制厚度的溫敏膜，所述溫敏膜設(shè)置在所述透明基板上，所述透明基板的下方依次設(shè)置有液晶板、聚光透鏡和光源。
[0007]作為優(yōu)選，所述溫敏膜由雙層薄膜構(gòu)成，所述雙層薄膜內(nèi)均勻的平鋪有封閉的腔室，封閉的腔室之間設(shè)置有隔熱層，所述腔室內(nèi)充有黑色溶液。
[0008]作為優(yōu)選，所述雙層薄膜的上層為黑色下層為透明，且上層薄膜覆蓋有熱反射膜。
[0009]作為優(yōu)選，所述黑色溶液為水和顏料的混合物。
[0010]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0011]所述聚光透鏡將所述光源發(fā)出的光形成平行光，所述液晶板顯示的圖像修整所述平行光，使平行光的投射面形成與印花輪廓一致的印花區(qū)域，所述平行光投射在所述溫敏膜上，所述溫敏膜受平行光照射的區(qū)域受熱發(fā)生膨脹，所述溫敏膜上形成印花區(qū)域的凸臺(tái)，所述凸臺(tái)與印花輪廓一致，使所述燙畫裝置只對(duì)織物印花區(qū)域進(jìn)行熱壓。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是本投射式燙畫裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。[0013]圖2是本投射式燙畫裝置溫敏膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明:
[0015]在本實(shí)施例中，參閱圖1，該投射式燙畫裝置包括相互配合的第一基板100和第二基板200，所述第一基板100上設(shè)置有帶有加熱器的導(dǎo)熱板110，所述第二基板200包括框體圍繞的透明基板310和受溫度控制厚度的溫敏膜300，所述溫敏膜300設(shè)置在所述透明基板310上，所述透明基板310的下方依次設(shè)置有液晶板400、聚光透鏡500和光源600。
[0016]參閱圖2，所述溫敏膜300由雙層薄膜構(gòu)成，所述雙層薄膜內(nèi)均勻的平鋪有封閉的腔室，封閉的腔室之間設(shè)置有隔熱層330，所述腔室內(nèi)充有黑色溶液，黑色溶液可以很好的吸收來自所述光源600的光和熱輻射。
[0017]上述的投射式燙畫裝置，所述雙層薄膜的上層為黑色下層為透明，且上層薄膜覆蓋有熱反射膜320，使來自光源600的光和熱輻射大部分被所述所述溫敏膜300吸收，同時(shí)所述熱反射膜320使織物不受到來自光源600的光和熱輻射影響。
[0018]上述的投射式燙畫裝置，所述黑色溶液為水和顏料的混合物，使用水有廉價(jià)的制造成本，且水蒸發(fā)后有很高的膨脹系數(shù)。
[0019]上述的投射式燙畫裝置的拉絲原理:
[0020]所述聚光透鏡500將所述光源600發(fā)出的光形成平行光,所述液晶板400顯不的圖像修整所述平行光，使平行光的投射面形成與印花輪廓一致的印花區(qū)域，所述平行光投射在所述溫敏膜300上，所述溫敏膜300受平行光照射的區(qū)域受熱發(fā)生膨脹，所述溫敏膜300上形成印花區(qū)域的凸臺(tái)，所述凸臺(tái)與印花輪廓一致，使所述燙畫裝置只對(duì)織物印花區(qū)域進(jìn)行熱壓。
[0021]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種投射式燙畫裝置，包括相互配合的第一基板(100)和第二基板(200)，所述第一基板(100)上設(shè)置有帶有加熱器的導(dǎo)熱板(110)，其特征在于: 所述第二基板(200)包括框體圍繞的透明基板(310)和受溫度控制厚度的溫敏膜(300)，所述溫敏膜(300)設(shè)置在所述透明基板(310)上，所述透明基板(310)的下方依次設(shè)置有液晶板(400)、聚光透鏡(500)和光源(600)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射式燙畫裝置，其特征在于:所述溫敏膜(300)由雙層薄膜構(gòu)成，所述雙層薄膜內(nèi)均勻的平鋪有封閉的腔室，封閉的腔室之間設(shè)置有隔熱層(330)，所述腔室內(nèi)充有黑色溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投射式燙畫裝置，其特征在于:所述雙層薄膜的上層為黑色下層為透明，且上層薄膜覆蓋有熱反射膜(320)。
【文檔編號(hào)】B41F16/02GK203713228SQ201320881419
【公開日】2014年7月16日 申請(qǐng)日期:2013年12月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月30日
【發(fā)明者】許尤理 申請(qǐng)人:蘇州尤盛紡織有限公司