專利名稱:一種書(shū)寫(xiě)模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型具體涉及一種書(shū)寫(xiě)模板,尤其涉及一種帶筆畫(huà)槽的書(shū)寫(xiě)模板,屬于文
化用品制作的技術(shù)領(lǐng)域,特別適應(yīng)少兒幼兒練習(xí)書(shū)寫(xiě)應(yīng)用。
技術(shù)背景 就發(fā)明人所知,目前,現(xiàn)有少兒幼兒使用的書(shū)寫(xiě)模仿,大都是采用平面仿引方框約束筆畫(huà)的方式練習(xí),采用這種方式雖然能使書(shū)寫(xiě)達(dá)到規(guī)范字體規(guī)格,提高寫(xiě)字水平的目的,但是也存在仿引工序復(fù)雜,少兒幼兒掌控困難,筆畫(huà)印記清晰度不足,筆畫(huà)輕重難以掌控的缺陷。
發(fā)明內(nèi)容; 本實(shí)用新型的目的就是為彌補(bǔ)以上不足,提供的一種工序簡(jiǎn)單靈活,筆畫(huà)印記直觀,字體、筆畫(huà)規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范,不易損壞的一種書(shū)寫(xiě)模板。 本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的,所述的一種書(shū)寫(xiě)模板,其特征在于設(shè)置一塊平面(200X270)mm的長(zhǎng)方型模板(l),在長(zhǎng)方型模板(1)的面上以橫8mm,豎10mm等份成長(zhǎng)方形塊(2),并在長(zhǎng)方型模板(1)上留天,下留地,在長(zhǎng)方形塊(2)內(nèi)刻制有標(biāo)準(zhǔn)的文字或筆畫(huà)槽(3)。少兒幼兒在練習(xí)寫(xiě)字時(shí),無(wú)需任何程序,只要手握筆桿(什么筆均可),順槽練習(xí)即可完成。 本實(shí)用新型的一種書(shū)寫(xiě)模板,具有結(jié)構(gòu)合理簡(jiǎn)單,面潔大方,觸覺(jué)明顯,工序簡(jiǎn)單靈活,筆畫(huà)印記直觀,字體、筆畫(huà)規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范,不易損壞,投資少,費(fèi)用低、美觀大方,易操
作、效果明顯的優(yōu)點(diǎn)。
附圖為一種書(shū)寫(xiě)模板 圖中1.長(zhǎng)方型模板,2.長(zhǎng)方形塊,3.筆畫(huà)槽,具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明,如附圖所示一種書(shū)寫(xiě)模板,是設(shè)置一塊平面(200X270)mm的長(zhǎng)方型模板(l),在長(zhǎng)方型模板(1)的面上以橫8mm,豎10mm等份成長(zhǎng)方形塊(2),在長(zhǎng)方形塊(2)內(nèi)刻制有標(biāo)準(zhǔn)的文字或筆畫(huà)槽(3),并在長(zhǎng)方型模板(1)上留天,下留地。特別適應(yīng)于相關(guān)制造企業(yè)制造生產(chǎn)。
權(quán)利要求一種書(shū)寫(xiě)模板,其特征在于設(shè)置一塊平面(200×270)mm的長(zhǎng)方型模板(1),在長(zhǎng)方型模板(1)的面上以橫8mm,豎10mm等份成長(zhǎng)方形塊(2),在長(zhǎng)方形塊(2)內(nèi)刻制有標(biāo)準(zhǔn)的文字或筆畫(huà)槽(3),并在長(zhǎng)方型模板(1)上留天,下留地。
專利摘要一種書(shū)寫(xiě)模板,解決了現(xiàn)有書(shū)寫(xiě)模仿,印記清晰度不足,筆畫(huà)輕重難以掌控,工序復(fù)雜的問(wèn)題,特點(diǎn)是設(shè)置一塊(200×270)mm的長(zhǎng)方型模板(1),在長(zhǎng)方型模板(1)的面上以橫8mm,豎10mm等份成長(zhǎng)方形塊(2),在長(zhǎng)方形塊(2)內(nèi)刻制有標(biāo)準(zhǔn)的文字或筆畫(huà)槽(3),并在長(zhǎng)方型模板(1)上留天,下留地,本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)合理簡(jiǎn)單,工序簡(jiǎn)單靈活,筆畫(huà)印記直觀,字體、筆畫(huà)規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范,不易損壞,美觀大方,易操作、效果明顯的優(yōu)點(diǎn),特別適應(yīng)于少兒幼兒練習(xí)書(shū)寫(xiě)應(yīng)用。
文檔編號(hào)G09B11/00GK201477761SQ20092016208
公開(kāi)日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月7日
發(fā)明者張澎珍 申請(qǐng)人:張澎珍