專利名稱：背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板的制作方法
技術(shù)領域：
背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板屬于硬筆書法技術(shù)領域。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的用于矯正握筆姿勢的墊手板存在以下缺陷:在練習硬筆書法時，墊手板是要沿紙面向下移動的，當斜坡的下部分的板面向下移出紙面時由于這部分板面的自重，會使斜坡以上部分的板面前端連接的禁寫框一起上翹，會在書寫鋼筆字時產(chǎn)生不良影響，其次，在書法過程中，當墊手板向下移動一行時由于上一行的墨跡未干，墊手板背面以上部分禁寫框的板面擦過未干的墨跡時會污損已經(jīng)書寫的鋼筆字的所在的紙面。

實用新型內(nèi)容為了解決以上兩個具體技術(shù)問題，本申請?zhí)岢隽艘环N背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板。本實用新型的特征在于:在所述墊手板的背面，對應于所述斜坡方向的后端板面上沿水平方向有一個槽。所述沿水平方向淺槽的下端水平方向槽壁的高度高于所述墊手板背面上所述斜坡的高度。在所述墊手板上，在所述禁寫框所在的板面的背面，在左、右兩側(cè)和前端的邊緣上有用于使所述墊手板在這一部分的所述背面向上偏高紙面的“ Γ1 ”字形肋條。在所述墊手板上所述靠近所述斜坡處的左、右兩側(cè)開有用于使所述墊手板在紙面上便于上、下移動的手握式 凹槽。當所述墊手板斜坡的下部分的板面向下移出紙面時減輕了墊手板及相連的禁寫框上翹的程度，同時在向下移動時由于抬高了禁寫框所在的板面，也不會發(fā)生書寫一行字，污損一行字現(xiàn)象。

圖1、本申請所述墊手板的俯視圖。圖2、為圖1的縱向A---A首I]視圖。1、禁寫框，2、墊手板，其中:11、是寫字窗口，12、是水平方向斜坡，13、是手握式凹槽，14、是淺槽，15、是
“ Π ”字形肋條。
具體實施方式
開在墊手板I背面的水平方向斜坡12下端的淺槽減輕了這部分板面的自重，形成了一種薄殼結(jié)構(gòu)，當手紙在書寫鋼筆字時，便于按住禁寫框周邊的板面，便于略為產(chǎn)生一些變形，使這一部分板面易于下壓，貼住紙面，從而，部分克服了板面前端上翹是所帶來的不利影響。所述“門”字形肋條15使禁寫框所在的板面偏高紙面，從而克服了由于墨跡未干帶來污損紙面的不利影響。手握式凹槽13便于使用者上、下移動所述墊手板I在紙面上的位置。由于使所述淺槽14下端的槽壁略高于所述斜坡12的高度，在斜坡14下方的板面向下移出紙面時會使斜坡14前方的板面略為下壓，以便克服這部分板面上翹的不利影響。
權(quán)利要求1.背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板，含有一個在前端沿水平方向斜坡下的板面上開有一個平行于所述斜坡的方向的禁寫框的墊手板，其特征在于，在所述墊手板的背面，對應于所述斜坡方向的后端板面上沿水平方向有一個淺槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板，其特征在于，所述沿水平方向淺槽的下端水平方向槽壁的高度高于所述墊手板背面上所述斜坡的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板，其特征在于，在所述墊手板上，在所述禁寫框所在的板面的背面，在左、右兩側(cè)和前端的邊緣上有用于使所述墊手板向上偏離紙面的“門”字形肋條。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板，其特征在于，在所述墊手板上所述靠近所述斜坡處的左、右兩側(cè)開有用于使所述墊手板在紙面上便于上、下移動的手握式凹槽。
專利摘要背面開槽的矯正握筆姿勢的墊手板屬于硬筆書法技術(shù)領域，其特征在于，在前端水平方向斜坡下的板面上，開有平行于斜坡的淺槽，而且淺槽下邊緣的槽壁高于斜坡的高度以便克服在墊手板向下一旦移出紙面會產(chǎn)生的禁寫框所在的板面前端向上翹的現(xiàn)象，在墊手板的斜坡以上板面的背面邊緣處的字形肋條便使墊手板下移時禁寫框所在板面向上偏離紙面，克服了書寫一行污染一行的現(xiàn)象。位于斜坡下方板面左、右兩側(cè)的握筆槽便于使用者手握墊手板在紙面上移動，方便書寫時換行。由此，便克服了當前墊手板所存在的一系列缺陷。
文檔編號B43L3/00GK203004771SQ20122073432
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月28日
發(fā)明者孟凡剛 申請人:孟凡剛