一種數(shù)控雕刻的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種數(shù)控雕刻機(jī)，包括底臺(tái)和設(shè)置于底臺(tái)上方的移動(dòng)工作平臺(tái),其特征在于，底臺(tái)上端面設(shè)有滑軌，移動(dòng)工作平臺(tái)兩側(cè)框架下端設(shè)有與底臺(tái)滑軌相配合的的滑槽，移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有防護(hù)板，底臺(tái)上設(shè)有驅(qū)動(dòng)移動(dòng)工作平臺(tái)沿滑軌方向移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型移動(dòng)工作平臺(tái)下端的滑軌設(shè)置于操作平臺(tái)兩側(cè)的邊框下方，受力平穩(wěn)；操作平臺(tái)的框架內(nèi)設(shè)置了防護(hù)板，即可有效防止人員操作時(shí)跌落造成事故也方便清掃工作平臺(tái)；雕刻機(jī)的光軸設(shè)有防護(hù)罩，可大大減少加工時(shí)石粉、灰塵或切割飛濺的硬物損壞光軸和滑塊，從而提高雕刻機(jī)的使用壽命，保存產(chǎn)品加工精度，減少維修成本，提高工作效率。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種數(shù)控雕刻機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種數(shù)控雕刻機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有市場(chǎng)上的數(shù)控臥式雕刻機(jī)一般包括底臺(tái)和設(shè)置在底臺(tái)上方的移動(dòng)工作平臺(tái)時(shí)，設(shè)置于底臺(tái)上方的移動(dòng)工作平臺(tái)一般與底臺(tái)利用滑軌與滑槽配合實(shí)現(xiàn)移動(dòng)，但現(xiàn)設(shè)置于底臺(tái)上的滑軌設(shè)置于移動(dòng)工作平臺(tái)的中部下方，這樣當(dāng)操作工人站在平臺(tái)上工作安裝工件時(shí)，臺(tái)面兩側(cè)邊的受力不均勻，容易造成平臺(tái)變形，操作工人操作時(shí)站在平臺(tái)框架上容易發(fā)生跌落造成事故。另外現(xiàn)有雕刻機(jī)光軸部分未設(shè)置防水防塵裝置，容易手打水、塵物、硬物的腐蝕或沖擊而影響使用壽命，大大增大了雕刻機(jī)的維護(hù)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型對(duì)上述問(wèn)題進(jìn)行了改進(jìn)，即本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是設(shè)計(jì)一種具有人員安全保護(hù)結(jié)構(gòu)，可有效延長(zhǎng)雕刻機(jī)使用壽命，降低維護(hù)成本的雕刻機(jī)。
[0004]本實(shí)用新型的具體實(shí)施方案是:一種數(shù)控雕刻機(jī)，包括底臺(tái)和設(shè)置于底臺(tái)上方的移動(dòng)工作平臺(tái)，所述底臺(tái)上端面兩側(cè)設(shè)有滑軌，所述移動(dòng)工作平臺(tái)兩側(cè)框架下端設(shè)有與底臺(tái)滑軌相配合的的滑槽，所述移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有防護(hù)板，所述底臺(tái)上設(shè)有驅(qū)動(dòng)移動(dòng)工作平臺(tái)沿滑軌方向移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0005]進(jìn)一步的，所述底臺(tái)四周下方設(shè)有支撐腳，底臺(tái)前端兩側(cè)的支撐腳向上延伸形成立柱，立柱之間設(shè)有垂直于立柱的主軸梁，所述主軸梁上設(shè)有刀架。
[0006]進(jìn)一步的，所述移動(dòng)工作平臺(tái)上方設(shè)有橫置的頂針橫梁，頂針橫梁兩側(cè)經(jīng)橫梁底部的支座與移動(dòng)工作平臺(tái)相連接。
[0007]進(jìn)一步的，所述移動(dòng)工作平臺(tái)前側(cè)端設(shè)有減速箱，移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有平行于滑軌的光軸，光軸上設(shè)有可沿光軸往復(fù)運(yùn)動(dòng)的滑塊，所述光軸與滑塊外套設(shè)有保護(hù)結(jié)構(gòu)。
[0008]進(jìn)一步的，所述保護(hù)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置于滑塊與光軸外周的槽狀護(hù)罩，所述槽狀護(hù)罩開(kāi)口向下，槽狀護(hù)罩軸向兩端與移動(dòng)工作平臺(tái)前后兩側(cè)框架固定連接，槽狀護(hù)罩外周套有滑塊護(hù)罩，所述滑塊護(hù)罩底部與滑塊底部固定連接。
[0009]進(jìn)一步的，所述槽狀護(hù)罩開(kāi)口處高于滑塊底部。
[0010]進(jìn)一步的，所述刀架上設(shè)有刀具，所述刀架上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)刀具沿雕刻機(jī)高度方向和水平面橫向運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:(1)移動(dòng)工作平臺(tái)下端的滑軌設(shè)置于操作平臺(tái)兩側(cè)的邊框下方，受力平穩(wěn)；(2)本實(shí)用新型中在操作平臺(tái)的框架內(nèi)設(shè)置了防護(hù)板，即可有效防止人員操作時(shí)跌落造成事故也方便清掃工作平臺(tái)；(3)該實(shí)用新型中雕刻機(jī)的光軸設(shè)有防護(hù)罩，可大大減少加工時(shí)石粉、灰塵或切割飛濺的硬物損壞光軸和滑塊以及在雕刻石材時(shí)的用水引起光軸和滑塊內(nèi)鋼珠遇水生銹等問(wèn)題，從而提高雕刻機(jī)的使用壽命，保存產(chǎn)品加工精度，減少維修成本，提高工作效率。(4)本實(shí)用新型中立柱與底臺(tái)的支撐腳形成一體，更增加雕刻機(jī)的穩(wěn)定性。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型底臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2為本實(shí)用新型移動(dòng)工作平臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖3為具有光軸的移動(dòng)工作平臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖4為具有頂針橫梁的移動(dòng)工作平臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖5為本實(shí)用新型雕刻機(jī)整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖6為本實(shí)用新型光軸結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖7為本實(shí)用新型光軸保護(hù)結(jié)構(gòu)帶有滑塊護(hù)罩示意圖。
[0019]圖8為本實(shí)用新型光軸保護(hù)結(jié)構(gòu)帶有滑塊護(hù)罩及槽狀護(hù)罩的示意圖。
[0020]圖中:10_底臺(tái)，20-移動(dòng)工作平臺(tái)，30-刀架，40-頂針橫梁，50-減速箱，60-光軸，70-滑塊，110-滑軌，120-支撐腳，130-立柱，140-主軸梁，210-防護(hù)板，410-支座，610-槽狀護(hù)罩，710-滑塊護(hù)罩。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0022]如圖1?5所示，一種數(shù)控雕刻機(jī)，包括底臺(tái)10和設(shè)置于底臺(tái)10上方的移動(dòng)工作平臺(tái)20，其特征在于，所述底臺(tái)10上端面兩側(cè)設(shè)有滑軌110，所述移動(dòng)工作平臺(tái)20兩側(cè)框架下端設(shè)有與底臺(tái)滑軌110相配合的的滑槽，所述移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有防護(hù)板210，所述底臺(tái)10上設(shè)有驅(qū)動(dòng)移動(dòng)工作平臺(tái)20沿滑軌110方向移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。該第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以是為圖示的絲桿結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)移動(dòng)工作平臺(tái)20的移動(dòng)，移動(dòng)工作平臺(tái)20下端的滑軌110設(shè)置于操作平臺(tái)兩側(cè)的邊框下方，保證了受力的平穩(wěn)；
[0023]底臺(tái)10四周下方設(shè)有支撐腳120，底臺(tái)10前端兩側(cè)的支撐腳120向上延伸形成立柱130，立柱130之間設(shè)有垂直于立柱130的主軸梁140，所述主軸梁140上設(shè)有刀架30。刀架30上設(shè)有刀具，所述刀架30上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)刀具沿雕刻機(jī)高度方向和水平面橫向運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。該機(jī)構(gòu)可以是相互垂直的絲桿機(jī)構(gòu)，絲桿有電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
[0024]移動(dòng)工作平臺(tái)20的上方還設(shè)有橫置的頂針橫梁40，頂針橫梁40兩側(cè)經(jīng)底部的支座410與移動(dòng)工作平臺(tái)20相連接。頂針橫梁40的兩端設(shè)有定位孔，支座410設(shè)有可與定位孔配合的通孔，通孔具有一定的間距，頂針橫梁40通過(guò)銷(xiāo)釘固定在支座410上，加工時(shí)，頂針橫梁固定于支座410上以保證加工的正常進(jìn)行。
[0025]所述移動(dòng)工作平臺(tái)20前側(cè)端設(shè)有減速箱50，移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有平行于滑軌Iio的光軸60，光軸60上設(shè)有可沿光軸60往復(fù)運(yùn)動(dòng)的滑塊70，所述光軸60與滑塊70外套設(shè)有保護(hù)結(jié)構(gòu)。
[0026]如圖6?8所示，所述保護(hù)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置于滑塊70與光軸60外周的槽狀護(hù)罩610，所述槽狀護(hù)罩610開(kāi)口向下，槽狀護(hù)罩710軸向兩端與移動(dòng)工作平臺(tái)20前后兩側(cè)框架固定連接，槽狀護(hù)罩610外周套有滑塊護(hù)罩710，滑塊護(hù)罩710底部與滑塊70底部固定連接。槽狀護(hù)罩610開(kāi)口處高于滑塊70底部。該實(shí)用新型中雕刻機(jī)的光軸設(shè)有防護(hù)罩，可大大減少加工時(shí)石粉、灰塵或切割飛濺的硬物損壞光軸和滑塊以及在雕刻石材時(shí)的用水引起光軸和滑塊內(nèi)鋼珠遇水生銹等問(wèn)題，從而提高雕刻機(jī)的使用壽命，保存產(chǎn)品加工精度，減少維修成本，提高工作效率。
[0027]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型的涵蓋范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種數(shù)控雕刻機(jī)，包括底臺(tái)和設(shè)置于底臺(tái)上方的移動(dòng)工作平臺(tái)，其特征在于，所述底臺(tái)上端面兩側(cè)設(shè)有滑軌，所述移動(dòng)工作平臺(tái)兩側(cè)框架下端設(shè)有與底臺(tái)滑軌相配合的的滑槽，所述移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有防護(hù)板，所述底臺(tái)上設(shè)有驅(qū)動(dòng)移動(dòng)工作平臺(tái)沿滑軌方向移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種數(shù)控雕刻機(jī)，其特征在于，所述底臺(tái)四周下方設(shè)有支撐腳，底臺(tái)前端兩側(cè)的支撐腳向上延伸形成立柱，立柱之間設(shè)有垂直于立柱的主軸梁，所述主軸梁上設(shè)有刀架。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種數(shù)控雕刻機(jī)，其特征在于，所述移動(dòng)工作平臺(tái)上方設(shè)有橫置的頂針橫梁，頂針橫梁兩側(cè)經(jīng)橫梁底部的支座與移動(dòng)工作平臺(tái)相連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種數(shù)控雕刻機(jī)，其特征在于，所述移動(dòng)工作平臺(tái)前側(cè)端設(shè)有減速箱，移動(dòng)工作平臺(tái)框架內(nèi)設(shè)有平行于滑軌的光軸，光軸上設(shè)有可沿光軸往復(fù)運(yùn)動(dòng)的滑塊，所述光軸與滑塊外套設(shè)有保護(hù)結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種數(shù)控雕刻機(jī)，其特征在于，所述保護(hù)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置于滑塊與光軸外周的槽狀護(hù)罩，所述槽狀護(hù)罩開(kāi)口向下，槽狀護(hù)罩軸向兩端與移動(dòng)工作平臺(tái)前后兩側(cè)框架固定連接，槽狀護(hù)罩外周套有滑塊護(hù)罩，所述滑塊護(hù)罩底部與滑塊底部固定連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種數(shù)控雕刻機(jī)，其特征在于，所述槽狀護(hù)罩開(kāi)口處高于滑塊底部。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種數(shù)控雕刻機(jī)，其特征在于，所述刀架上設(shè)有刀具，所述刀架上還設(shè)有驅(qū)動(dòng)刀具沿雕刻機(jī)高度方向和水平面橫向運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】B44B1/06GK203511105SQ201320706136
【公開(kāi)日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年11月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月11日
【發(fā)明者】陳元培 申請(qǐng)人:陳元培