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      激光光強(qiáng)衰減方法

      文檔序號:2796837閱讀:2583來源:國知局
      專利名稱:激光光強(qiáng)衰減方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及的是一種光強(qiáng)衰減方法,特別是一種激光光強(qiáng)衰減方法,屬于激光光電子領(lǐng)域。
      背景技術(shù)
      經(jīng)文獻(xiàn)檢索發(fā)現(xiàn)美國專利號為6130984,名稱為小型可調(diào)光強(qiáng)衰減器。它是一種機(jī)械調(diào)諧式光強(qiáng)衰減器,采用機(jī)械調(diào)諧的方法對光強(qiáng)進(jìn)行可控衰減。該專利首先制作一衰減薄膜,其衰減系數(shù)在不同位置是不同而且連續(xù)變化的,利用驅(qū)動馬達(dá)或手工調(diào)節(jié)改變衰減薄膜的位移,使光束通過薄膜的不同位置,從而獲取對光強(qiáng)的不同程度的衰減。這種機(jī)械調(diào)諧式光強(qiáng)衰減器的核心部件是衰減薄膜,其要求是薄膜厚度連續(xù)漸變,一般為了減少光強(qiáng)的損失還需在襯底上鍍減反膜。這種方式存在如下的不足,如薄膜制作工藝復(fù)雜,不易做到大批量生產(chǎn),相應(yīng)地造成成本較高;光強(qiáng)衰減可調(diào)范圍小于20dB;衰減隨波長的變化比較大。

      發(fā)明內(nèi)容
      主要是利用光束入射到一橫截面為等腰梯形、上下底面鍍有介質(zhì)薄膜、折射率為1.90>n>1.64玻璃材料的棱鏡內(nèi)部,在其上、下底面發(fā)生多次反射來實現(xiàn)對激光光強(qiáng)的衰減。本發(fā)明的方法進(jìn)一步描述如下第一步為了減少棱鏡側(cè)面對入射光強(qiáng)的反射,可把棱鏡側(cè)面做成圓柱面形狀,采用蒸鍍的方法把減反膜做在棱鏡的兩側(cè)面上,減反膜可根據(jù)工作波長的范圍選擇合適的材料和厚度,介質(zhì)薄膜折射率范圍為1.28~1.37,具有一定的成膜性,膜厚為0.35~0.5μm,當(dāng)入射光相對于衰減裝置的入射角度發(fā)生改變時,隨著入射角度的改變,入射光強(qiáng)的衰減,另外,通過對參數(shù)的調(diào)整,可以使衰減裝置的最佳適用波長范圍符合實際應(yīng)用的需要;第二步優(yōu)化棱鏡的形狀和尺寸大小,使衰減裝置的可調(diào)衰減范圍更大,棱鏡底角大小為sin-1(1/n)(n為棱鏡的折射率),這樣能減小衰減裝置的插入損耗,棱鏡上、下底面要有平行度要求,棱鏡高和底的比例選擇要保證光線進(jìn)入到棱鏡內(nèi)部后能在上、下底面形成多次反射,反射次數(shù)越多,其衰減可調(diào)范圍越大;第三步衰減工作狀態(tài)的預(yù)置和工作范圍的確定,讓入射光垂直于棱鏡側(cè)面入射,這時所處的工作狀態(tài)為反射光強(qiáng)最大處,減小入射光相對于衰減裝置的入射角,實現(xiàn)對光強(qiáng)的衰減,衰減裝置的工作范圍為衰減曲線的光強(qiáng)最大處到光強(qiáng)最小處,入射角在這個范圍調(diào)節(jié)就可實現(xiàn)對入射光強(qiáng)的連續(xù)可調(diào)。
      本發(fā)明能實現(xiàn)對光強(qiáng)的連續(xù)可調(diào),并且其衰減曲線偏振靈敏度很小,隨波長的變化小,并且在不改變衰減裝置的基本結(jié)構(gòu)和參數(shù)的情況下,通過增加光束在棱鏡底面的反射次數(shù)就得到更大的光強(qiáng)衰減。
      本發(fā)明具有實質(zhì)性的特點和顯著的進(jìn)步性,本發(fā)明可用于光通訊和光信息處理等需要光強(qiáng)衰減的場合,也可用于精密測距、全息信息處理等需要對光束參數(shù)進(jìn)行嚴(yán)格控制的情況。本發(fā)明同現(xiàn)有的常規(guī)技術(shù)相比較具有如下優(yōu)點1.工藝簡單、價格低廉。2.消光比大。3.工作波長范圍大。4.偏振靈敏度小。5.插入損耗小。
      具體實施例方式本發(fā)明的實施例具體為實施例一第一步棱鏡的折射率為1.74(波長1.55μm),形狀是橫截面為等腰梯形的柱狀體。采用蒸鍍的方法把減反膜做在棱鏡的兩側(cè)面上,減反膜效果主要是使入射光能全部進(jìn)入到棱鏡內(nèi)部。介質(zhì)薄膜是折射率為1.32(波長1.55μm)的聚合物,厚度為0.42μm。
      第二步棱鏡底角為35.08度,上底面、下底面的平行度為1′,高為1cm、下底面邊長為4cm,光束在棱鏡上、下底面反射次數(shù)總共為三次。衰減裝置的最大衰減可達(dá)40dB,在0~40dB之間連續(xù)可調(diào)。
      第三步預(yù)置工作狀態(tài)時,讓光束垂直棱鏡側(cè)面入射,當(dāng)衰減裝置朝入射角小的方向轉(zhuǎn)動時,就得到對光強(qiáng)不同程度的衰減。詳見下表所示。


      實施例二第一步棱鏡的折射率為1.75(波長1.3μm),形狀是橫截面為等腰梯形的柱狀體,采用蒸鍍的方法把減反膜做在棱鏡的兩側(cè)面上,減反膜效果主要是使入射光能全部進(jìn)入到棱鏡內(nèi)部。介質(zhì)薄膜是折射率為1.324(波長1.3μm)的聚合物,厚度為0.35μm。
      第二步棱鏡底角為34.85度,上底面、下底面的平行度為1′,高為1cm、下底面邊長為4cm,光束在棱鏡上、下底面反射次數(shù)總共為三次。衰減裝置的最大衰減可達(dá)38dB,在0~38dB之間連續(xù)可調(diào)。
      第三步預(yù)置工作狀態(tài)時,讓光束垂直棱鏡側(cè)面入射,當(dāng)衰減裝置朝入射角小的方向轉(zhuǎn)動時,就得到對光強(qiáng)不同程度的衰減。
      工作范圍內(nèi)的衰減系數(shù)和PDL的大小如下表所示。

      實施例三第一步棱鏡的折射率為1.64(波長1.55μm),形狀是橫截面為等腰梯形的柱狀體,采用蒸鍍的方法把減反膜做在棱鏡的兩側(cè)面上,減反膜效果主要是使入射光能全部進(jìn)入到棱鏡內(nèi)部。介質(zhì)薄膜是折射率為1.28(波長1.55μm)的聚合物,厚度為0.47μm。
      第二步棱鏡底角為37.57度,上底面、下底面的平行度為1′,高為0.5cm、下底面邊長為4cm,光束在棱鏡上、下底面反射次數(shù)總共為五次。衰減裝置的最大衰減可達(dá)60dB,在0~60dB之間連續(xù)可調(diào)。
      第三步預(yù)置工作狀態(tài)時,讓光束垂直棱鏡側(cè)面入射,當(dāng)衰減裝置朝入射角小的方向轉(zhuǎn)動時,就得到對光強(qiáng)不同程度的衰減。
      工作范圍內(nèi)的衰減系數(shù)和PDL的大小如下表所示。

      權(quán)利要求
      1.一種激光光強(qiáng)衰減方法,其特征在于主要是利用光束入射到一橫截面為等腰梯形、上下底面鍍有介質(zhì)薄膜、折射率為1.90>n>1.64玻璃材料的棱鏡內(nèi)部,在其上、下底面發(fā)生多次反射來實現(xiàn)對激光光強(qiáng)的衰減。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的這種激光光強(qiáng)衰減方法,其特征還在于對本方法進(jìn)一步限定如下第一步為了減少棱鏡側(cè)面對入射光強(qiáng)的反射,可把棱鏡側(cè)面做成圓柱面,采用蒸鍍的方法把減反膜做在棱鏡的兩側(cè)面上,減反膜可根據(jù)工作波長的范圍選擇合適的材料和厚度,介質(zhì)薄膜折射率范圍為1.28~1.37,具有一定的成膜性,膜厚為3500~5000埃,隨著入射角度的改變,實現(xiàn)對光強(qiáng)的衰減;第二步優(yōu)化棱鏡的形狀和尺寸大小,棱鏡底角大小為sin-1(1/n)(n為棱鏡的折射率),棱鏡上、下底面有平行度要求,棱鏡高和底的比例選擇要保證光線進(jìn)入到棱鏡內(nèi)部后能在上、下底面形成多次反射,反射次數(shù)越多,其衰減可調(diào)范圍越大;第三步衰減工作狀態(tài)的預(yù)置和工作范圍的確定,讓入射光垂直于棱鏡側(cè)面入射,這時所處的工作狀態(tài)為反射光強(qiáng)最大處,減小入射光相對于衰減裝置的入射角,實現(xiàn)對光強(qiáng)的衰減,入射角的調(diào)節(jié)范圍為反射光強(qiáng)最大處到反射光強(qiáng)最小處。
      全文摘要
      激光光強(qiáng)衰減方法主要是利用光束入射到一橫截面為等腰梯形、上下底面鍍有介質(zhì)薄膜、折射率為:1.90>n>1.64玻璃材料的棱鏡內(nèi)部,在其上、下底面發(fā)生多次反射來實現(xiàn)對激光光強(qiáng)的衰減。本發(fā)明能實現(xiàn)對光強(qiáng)的連續(xù)可調(diào),并且其衰減的偏振靈敏度很小,隨波長的變化小,并且在不改變衰減裝置的基本結(jié)構(gòu)和參數(shù)的情況下,通過增加光束在棱鏡底面的反射次數(shù)就得到更大的光強(qiáng)衰減。
      文檔編號G02B6/34GK1335519SQ0112637
      公開日2002年2月13日 申請日期2001年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年7月31日
      發(fā)明者曹莊琪, 袁波, 方為軍, 陳開盛, 竇曉鳴 申請人:上海交通大學(xué)
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