專利名稱:變占空比的取樣光纖光柵及其切趾方法
技術(shù)領(lǐng)域:
變占空比的取樣光纖光柵及其切趾方法屬于光纖光柵,尤其是取樣光纖光柵領(lǐng)域。
因此,本發(fā)明提出的變占空比的取樣光纖光柵既有其必要性也是可行的。
本發(fā)明提出的變占空比的取樣光纖光柵,其特征在于它是一種占空比是變化的而且其變化與切趾函數(shù)相同的取樣光纖光柵。它也可以是一種定光柵強(qiáng)度、變占空比的取樣光纖光柵。它也可以是一種定光柵強(qiáng)度但光柵兩端是變占空比而中間是等占空比的取樣光纖光柵。它更可以是一種變?nèi)又芷谇易冋伎毡鹊娜庸饫w光柵。
本發(fā)明提出的變占空比的取樣光纖光柵的切趾方法,其特征在于它是使取樣模板上占空比的變化與切趾函數(shù)相同以制作變占空比的取樣光纖光柵的一種方法,其依次含有以下步驟(1)在線切割最小線寬為0.1mm的條件下用高精度線切割機(jī)以慢走絲線切割的方式制作占空比漸變方式服從規(guī)定的切趾函數(shù)的金屬取樣模板;(2)使紫外光經(jīng)平移臺(tái)上的反射鏡后依次入射到取樣模板、相位模板和光纖上,調(diào)整相位模板和光纖間的距離,使光柵兩端的取樣率接近于零;(3)使平移臺(tái)帶動(dòng)反射鏡勻速移動(dòng),光束便勻速地掃過取樣模板和相位模板,在狹縫處,紫外光入射到光纖上曝光,從而形成光柵的取樣結(jié)構(gòu);(4)重復(fù)多次步驟(3)的掃描動(dòng)作,以獲得足夠的折射率調(diào)制深度。
本發(fā)明提出的變占空比的取樣光纖光柵的切趾方法,其特征在于,其依次含有以下步驟(1)調(diào)整光闌的寬度,使光闌只透過光束中相干性好的部分;(2)調(diào)整光路,使紫外光經(jīng)過由計(jì)算機(jī)控制的快門、反射鏡反射后依次正面入射到由計(jì)算機(jī)控制的光闌、相位模板和光纖上,調(diào)整相位模板和光纖間的距離,使光柵兩端的取樣率接近于零;(3)驅(qū)動(dòng)計(jì)算機(jī)程序,使平移臺(tái)帶著反射鏡作勻速運(yùn)動(dòng);(4)計(jì)算機(jī)計(jì)算某個(gè)位置的曝光時(shí)間,一旦平移臺(tái)上的反射鏡到達(dá)需曝光的該位置,計(jì)算機(jī)便調(diào)整光闌寬度及角度,然后打開快門,使紫外光在設(shè)定的曝光時(shí)間內(nèi)透過光闌狹縫,入射到光纖上,曝光形成光纖光柵;曝光結(jié)束,在其它位置關(guān)閉快門;(5)計(jì)算機(jī)計(jì)算下一個(gè)取樣周期開始的時(shí)間,開始延時(shí),平移臺(tái)繼續(xù)移動(dòng),一直到下一個(gè)需要曝光的位置,根據(jù)計(jì)算出的下一個(gè)位置的曝光時(shí)間,重復(fù)以上步驟;
(6)當(dāng)取樣計(jì)數(shù)到規(guī)定的次數(shù)便結(jié)束。
使用證明它可以實(shí)現(xiàn)預(yù)期目的。
圖2.本發(fā)明提出的定強(qiáng)度、變占空比的取樣光纖光柵。
圖3.其它方法獲得的定占空比、變強(qiáng)度的取樣光纖光柵。
圖4.本發(fā)明提出的用金屬取樣模板制作變占空比取樣光纖光柵的實(shí)驗(yàn)裝置。
圖5.由相位模板與光纖間的間距來改變占空比的原理圖。
圖6.本發(fā)明提出的用快門制作變占空比取樣光纖光柵的實(shí)驗(yàn)裝置。
圖7.用計(jì)算機(jī)控制快門曝光的電路原理框圖。
圖8.用計(jì)算機(jī)控制光闌寬度與角度的電路原理框圖。
圖9.用計(jì)算機(jī)控制光闌動(dòng)作與快門曝光的程序流程圖。
圖10.本發(fā)明得到的取樣光纖光柵的反射譜和時(shí)延譜的時(shí)延曲線圖。
圖11.計(jì)算機(jī)仿真得到的用其它切趾方法制作的取樣光纖光柵的反射譜和時(shí)延譜。
2,用圖4的實(shí)驗(yàn)裝置,使紫外光經(jīng)反射鏡反射后依次入射到取樣模板、相位模板和光纖上。其中1是紫外反射鏡,由計(jì)算機(jī)控制的平移臺(tái)驅(qū)動(dòng)。2是紫外光束。3是相干區(qū)域。4是光纖。6是相位模板。7是取樣模板。51是可以寫入光柵的位置。52是不寫入光柵的位置。光纖4在相干區(qū)域3的三角形區(qū)域內(nèi)曝光可以寫入光柵,在其它區(qū)域只引起平均折射率的提高,而不寫入光柵。反射鏡1放在平移臺(tái)上,由計(jì)算機(jī)驅(qū)動(dòng)。調(diào)整光路,使光束正好入射到取樣模板7、相位模板6上。用手柄搖動(dòng)去驅(qū)動(dòng)精度為10微米的平移臺(tái),調(diào)整相位模板6和光纖4之間的距離,用位置51和52表示,觀察其反射譜,觀察其光柵兩端的取樣率是否接近于零,由實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)得出對(duì)于0.15mm的最小狹縫寬度,這個(gè)距離為0.33mm。用相位模板6和光纖4的間距來改變占空比的原理圖如圖5所示。8是光束寬度DB,9為衍射角θ,10為光纖寫入位置Hc,11是-1級(jí)衍射光,12是+1級(jí)衍射光。其中HC=DB/2tgθ,這是寫入光柵的最遠(yuǎn)位置。對(duì)本發(fā)明使用的氬離子倍頻激光器,λ=244nm,θ=13.15°,設(shè)DB≈0.15mm,則HC=0.33mm。
3,啟動(dòng)計(jì)算機(jī)程序,使平移臺(tái)帶動(dòng)反射鏡1勻速移動(dòng),光束便勻速地掃過取樣模板7和相位模板6。在狹縫處,紫外光入射到光纖4上,曝光形成光柵;在其它位置,紫外被相位模板擋住,不能形成光柵,因此形成取樣結(jié)構(gòu)。通常需要反復(fù)掃描才能獲得足夠的折射率調(diào)制深度,在本實(shí)驗(yàn)中共掃描13次。實(shí)驗(yàn)得到的反射譜和時(shí)延譜見圖9。作為對(duì)比,計(jì)算機(jī)仿真獲得的等強(qiáng)度、等占空比取樣光柵的反射譜和時(shí)延譜示于圖10。仿真所用方法為耦合波理論-傳輸矩陣法。對(duì)應(yīng)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果見已經(jīng)公開的文獻(xiàn)。所有反射譜和時(shí)延譜的橫坐標(biāo)是波長(zhǎng),單位是nm,反射譜和時(shí)延譜的縱坐標(biāo)分別是dB和ps。
實(shí)施例2用光闌代替取樣模板來制作實(shí)施例1所述的取樣光纖光柵?,F(xiàn)結(jié)合附圖對(duì)其步驟予以說明(1)調(diào)整光闌14的寬度,使光闌14只透過光束中相干性好的部分。
(2)調(diào)整圖6所示的光路,使紫外光2經(jīng)光闌14、快門13、反射鏡1反射后依次入射到相位模板6和光纖4上。反射鏡放置在平移臺(tái)15上,平移臺(tái)15由計(jì)算機(jī)16驅(qū)動(dòng)。計(jì)算機(jī)控制快門的實(shí)驗(yàn)裝置如圖7所示,計(jì)算機(jī)通過數(shù)模轉(zhuǎn)換卡17、光電開關(guān)18、電磁鐵19、鋼片20來打開和關(guān)閉快門13。光電開關(guān)18與驅(qū)動(dòng)電源21相連。計(jì)算機(jī)控制光闌寬度與角度的實(shí)驗(yàn)裝置如圖8所示,計(jì)算機(jī)通過數(shù)模轉(zhuǎn)換卡17發(fā)出兩路信號(hào)分別控制平移控制馬達(dá)23和旋轉(zhuǎn)控制馬達(dá)24。平移控制馬達(dá)23控制光闌平移臺(tái)25,調(diào)整光闌鋼片22所組成狹縫的寬度。旋轉(zhuǎn)控制馬達(dá)24控制光闌旋轉(zhuǎn)臺(tái)26,調(diào)整光闌鋼片22與入射光束之間的角度,該裝置是市售的。27是光闌寬度Ds,也可由前級(jí)光闌14手動(dòng)控制。28為光闌傾斜角度θs,則透過光束的寬度為DT=Dscos(θs),通過計(jì)算機(jī)控制Ds與θs可以控制最終的透過光束寬度DT。調(diào)整光路,使光束正向入射到相位模板6上。設(shè)置相位模板6和光纖4之間的距離,使光柵連段的取樣率接近于零,對(duì)于0.15mm的最小狹縫寬度,這個(gè)距離為0.33mm。
(3)按圖8所示程序啟動(dòng)計(jì)算機(jī)16,使平移臺(tái)15帶動(dòng)反射鏡1勻速移動(dòng),反射鏡1的移動(dòng)引起光束2的移動(dòng),光束2勻速地掃過相位模板6、光闌22,入射到光纖4上,曝光形成光柵。形成取樣結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵是快門13的打開與關(guān)閉時(shí)光束2照射到光纖4上的位置。在需要曝光的位置打開快門,曝光形成光柵;在其它位置關(guān)閉快門,不曝光,以此來形成周期性曝光的取樣結(jié)構(gòu)。如果最終透過光闌22的光束寬度為0.15mm,設(shè)定平移臺(tái)的速度為0.25mm/s,如果在某一位置打開快門13,曝光0.2s后關(guān)閉快門,則在一個(gè)周期內(nèi)產(chǎn)生的光柵段長(zhǎng)度為0.15+0.25*0.2=0.2mm。再過3.92s后再次打開快門13,進(jìn)行下一個(gè)周期的曝光。這時(shí)取樣光柵的周期為1.03mm,則對(duì)應(yīng)曝光0.2s的占空比為0.2mm/1.03mm=0.194。改變兩次曝光的間隔,可以改變?nèi)又芷?,這可以由計(jì)算機(jī)16來實(shí)現(xiàn)。本例中兩次曝光的時(shí)間間隔是0.2+3.92=4.12s,對(duì)應(yīng)的取樣周期是1.03mm,如果兩次曝光的時(shí)間間隔是0.2+3.96=4.16s,則對(duì)應(yīng)的取樣周期是1.04mm。利用這個(gè)技術(shù),還可以制作變?nèi)又芷诘墓饫w光柵。固定光闌22的寬度與角度,改變每次曝光的時(shí)間,可以改變?cè)撝芷诘恼伎毡?。本例中固定光闌22的寬度與角度分別為0.16mm和20°,則透過的光束寬度為0.15mm。曝光時(shí)間是0.2s,占空比是0.194;如果曝光時(shí)間是0.21s,則占空比是(0.15+0.25*0.21)/1.03=0.197。占空比的改變采用切趾函數(shù)的形式,本例需要用ms量級(jí)響應(yīng)精度的快門控制。固定每次曝光的時(shí)間,改變每次曝光時(shí)光闌22的寬度與角度,可以改變光束的寬度,并改變占空比。本例中曝光時(shí)間是0.2s,當(dāng)光闌22的寬度與角度分別為0.16mm和20°時(shí),占空比是0.194;如果光闌22的寬度與角度調(diào)整為0.17mm和20°時(shí),占空比是0.203;如果光闌22的寬度與角度調(diào)整為0.16mm和21°時(shí),占空比是0.193。調(diào)整光闌22的寬度,可以得到大的占空比變化范圍,而調(diào)整光闌22的角度,可以得到高的占空比調(diào)整精度。占空比的改變采用切趾函數(shù)的形式,本例需要用10微米和1°量級(jí)精度的光闌寬度和角度的控制。同時(shí)控制快門的曝光時(shí)間與光闌的寬度和角度可以得到更好的靈活性。通常需要反復(fù)掃描才能獲得足夠的折射率調(diào)制深度,本例中共掃描13次。
在圖9中,初始化平移臺(tái)部分包括初始化和設(shè)定平移臺(tái)初始位置。光路設(shè)置完畢,激光器打開后,以0.25mm/s速度驅(qū)動(dòng)平移臺(tái),開始掃描,可調(diào)光闌14狹縫寬度設(shè)為0.5mm,電控光闌22的寬度與角度分別為0.16mm和20°,一次掃描長(zhǎng)度108mm,相位模板與光纖間距離設(shè)定為0.33mm。曝光位置間隔1.03mm,則取樣周期也是1.03mm。每個(gè)取樣內(nèi)的曝光時(shí)間符合升余弦切趾函數(shù)的形式。從兩邊的0.2s過渡到中間的0.4s。注意程序中兩次曝光的時(shí)間間隔是固定的,為4.12s,以保證取樣周期的不變。改變曝光間隔,可以用于變?nèi)又芷谇兄汗饫w光柵的制作??扉T13的打開與關(guān)閉是靠計(jì)算機(jī)16驅(qū)動(dòng)數(shù)模轉(zhuǎn)換卡17,給出5V驅(qū)動(dòng)信號(hào),使驅(qū)動(dòng)器中的光電開關(guān)處于開的狀態(tài),則電流導(dǎo)通,在電磁鐵19的作用下,吸引鋼片20,使快門13處于打開狀態(tài)。反之,當(dāng)計(jì)算機(jī)16發(fā)出OV驅(qū)動(dòng)信號(hào)時(shí),快門13處于關(guān)閉狀態(tài)。
由此可見,變占空比的取樣光纖光柵同樣可有效抑制時(shí)延曲線的波紋,而且制作簡(jiǎn)單,運(yùn)行可靠,對(duì)環(huán)境要求也低。
權(quán)利要求
1.變占空比的取樣光纖光柵,其特征在于它是一種占空比是變化的,而且其變化與切趾函數(shù)相同的變占空比的取樣光纖光柵。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的變占空比的取樣光纖光柵,其特征在于它是一種定光柵強(qiáng)度、變占空比的取樣光纖光柵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1、2所述的變占空比的取樣光纖光柵,其特征在于它是一種定光柵強(qiáng)度、但光柵兩端滿足變占空比而中間是等占空比的取樣光纖光柵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的變占空比的取樣光纖光柵,其特征在于它是一種變?nèi)又芷谇易冋伎毡鹊娜庸饫w光柵。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的變占空比的取樣光纖光柵,其特征在于所述的切趾函數(shù)是升余弦函數(shù),其一端滿足的形式是(e0+e1*(1-cos(pi*(i-1)/n1))/2)*p,另一端與之對(duì)稱,其中pi為圓周率,p為取樣周期,e0為模板兩端的占空比,e1為占空比的變化范圍,ni為切趾范圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的變占空比的取樣光纖光柵而設(shè)計(jì)的切趾方法,含有使紫外光依次入射到取樣模板、相位模板和光纖上形成干涉區(qū)的步驟,其特征在于它是使取樣模板上占空;比的變化與切趾函數(shù)相同以制作變占空比的取樣光纖光柵的一種方法,其依次含有以下步驟(1)在線切割最小線寬為0.1mm的條件下用高精度線切割機(jī)以慢走絲線切割的方式制作占空比漸變方式服從規(guī)定的切趾函數(shù)的金屬取樣模板;(2)使紫外光經(jīng)平移臺(tái)上的反射鏡后依次入射到取樣模板、相位模板和光纖上,調(diào)整相位模板和光纖間的距離,使光柵兩端的取樣率接近于零;(3)使平移臺(tái)帶動(dòng)反射鏡勻速移動(dòng),光束便勻速地掃過取樣模板和相位模板,在狹縫處,紫外光入射到光纖上曝光,從而形成光柵的取樣結(jié)構(gòu);(4)重復(fù)多次步驟(3)的掃描動(dòng)作,以獲得足夠的折射率調(diào)制深度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的變占空比的取樣光纖光柵而設(shè)計(jì)的切趾方法,含有使紫外光依次入射到光闌、快門、電控光闌、相位模板、光纖上形成干涉區(qū)的步驟,其特征在于,其依次含有以下步驟(1)調(diào)整光闌的寬度,使光闌只透過光束中相干性好的部分;(2)調(diào)整光路,使紫外光經(jīng)過由計(jì)算機(jī)控制的快門、反射鏡反射后依次正面入射到由計(jì)算機(jī)控制的光闌、相位模板和光纖上,調(diào)整相位模板和光纖間的距離,使光柵兩端的取樣率接近于零;(3)驅(qū)動(dòng)計(jì)算機(jī)程序,使平移臺(tái)帶著反射鏡作勻速運(yùn)動(dòng);(4)計(jì)算機(jī)計(jì)算某個(gè)位置的曝光時(shí)間,一旦平移臺(tái)上的反射鏡到達(dá)需曝光的該位置,計(jì)算機(jī)便調(diào)整光闌寬度及角度,然后打開快門,使紫外光在設(shè)定的曝光時(shí)間內(nèi)透過光闌狹縫,入射到光纖上,曝光形成光纖光柵;曝光結(jié)束,在其它位置關(guān)閉快門;(5)計(jì)算機(jī)計(jì)算下一個(gè)取樣周期開始的時(shí)間,開始延時(shí),平移臺(tái)繼續(xù)移動(dòng),一直到下一個(gè)需要曝光的位置,根據(jù)計(jì)算出的下一個(gè)位置的曝光時(shí)間,重復(fù)以上步驟;(6)當(dāng)取樣計(jì)數(shù)到規(guī)定的次數(shù)便結(jié)束。
8.根據(jù)權(quán)利要求6的取樣光纖光柵的切趾方法,其特征在于所述的設(shè)置相位模板和光纖間距離,使光柵兩端的取樣率接近于零,對(duì)于0.15mm的光闌狹縫寬度,這個(gè)距離設(shè)置為0.33mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7的取樣光纖光柵的切趾方法,其特征在于所述的設(shè)置相位模板和光纖間距離,使光柵兩端的取樣率為零,對(duì)于0.15mm的光闌狹縫寬度,這個(gè)距離設(shè)置為0.33mm。
全文摘要
變占空比的取樣光纖光柵及其切趾方法屬于光纖光柵,尤其是取樣光纖光柵領(lǐng)域。其特征在于它是一種占空比是變化的,而且其變化與切趾函數(shù)相同的變占空比的取樣光纖光柵。它是使紫外光依次入射到取樣模板、相位模板和光纖上,或依次入射到光闌、快門、相位模板和光纖上。調(diào)整相位模板和光纖間的距離,使光柵兩端的取樣率接近于零;再使光束勻速掃過取樣模板或光闌、快門而入射到光纖上曝光形成光柵的周期性取樣結(jié)構(gòu)。當(dāng)用光闌代替取樣模板時(shí),紫外光是通過由計(jì)算機(jī)控制的快門的打開與關(guān)閉來控制曝光的時(shí)間的??刂屏藘纱纹毓獾臅r(shí)間間隔,便可以控制取樣周期;控制了曝光時(shí)間,便可以實(shí)現(xiàn)變占空比。因此,可以作出周期可變或周期固定的變占空比取樣光纖光柵。與已知結(jié)構(gòu)及已知方法相比,它同樣可以消除時(shí)延譜的波紋,而且制作簡(jiǎn)易,工作可靠。
文檔編號(hào)G02B6/124GK1458539SQ02117328
公開日2003年11月26日 申請(qǐng)日期2002年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月17日
發(fā)明者陳向飛, 殷玉喆, 李栩輝, 王國(guó)忠, 謝世鐘 申請(qǐng)人:清華大學(xué), 元成科技有限公司