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      曝光系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:2794458閱讀:700來源:國知局
      專利名稱:曝光系統(tǒng)的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明與曝光系統(tǒng)有關,特別地,關系到一種安裝在曝光系統(tǒng)內部用于制作液晶顯示(LCD)裝置的光源裝置.
      以下結合

      圖1對采用光刻工藝制造LCD的一個曝光系統(tǒng)給予詳細說明。
      如圖1所示,在將要進行曝光處理的暗箱底部安裝一個用于支撐LCD基板15的基座20。在基座20之上設置一個光掩膜25(或者一個分劃板(reticle))并正對LCD基板15。其中,光掩膜25可以包括幾個光阻模25a。
      數個燈光裝置30設置在暗室10外表面的上部。燈光裝置30包括一個光源35,一個包圍光源的機架37,以及一個介于機架37和暗室外表面上部之間的透明窗,將暗室的外壁封閉以密封暗室。其中,一個曝光系統(tǒng)需要安裝多個燈光裝置,以同時對LCD基板15發(fā)射均勻的光線,該基板是大于一個通常的半導體基板。
      然而,由于燈光裝置30所包括的機架37成本昂貴,多個燈光裝置30的設置增大了生產成本。
      本發(fā)明提供了一個曝光系統(tǒng),即使在采用單一燈光裝置的情況下,通過該曝光系統(tǒng),光線也可以均勻地照射在基板上,因而降低了生產成本。
      本發(fā)明的一方面,所提供的曝光系統(tǒng)包括一個暗室,提供進行曝光工藝過程的空間,以及一個燈光裝置,該配件設置在暗室之上,并且以一確定的方向移動,以便發(fā)射光線到暗室內部。
      暗室包括一個用以支撐即將進行曝光處理的基板的基座,以及一個光掩膜,用于使基座的頂部成模。此外,暗室的上部包括一個透明蓋,燈光裝置通過該透明蓋而對暗室內部發(fā)射光線。
      燈光裝置包括一個光源,一個包圍光源的光源機架,一個透明窗,設置于光源機架的底部,以及一個移動單元,使燈光裝置以確定的方向,即垂直于所發(fā)射的光線的方向而往復運動。其中,為便于移動,優(yōu)選地,燈光裝置與暗室間隔以確定的距離。
      相應于本發(fā)明的另一方面,提供一個曝光系統(tǒng),包括一個暗室,該暗室確定了一個對LCD基板進行曝光處理的空間,并且具有一個頂部開口,一個透明蓋,封閉暗室的頂部開口,以密封暗室,以及一個燈光裝置,該裝置與暗室的上部間隔以確定的距離,并且以確定的方向移動以向暗室的內部發(fā)射光線。
      圖1所示為常用曝光裝置的剖面視圖;圖2所示為本發(fā)明的曝光系統(tǒng)的剖面視圖;圖3所示為本發(fā)明的曝光系統(tǒng)的頂部平面視圖。
      首先,如圖2所示,曝光系統(tǒng)200包括一個暗室100。該暗室,具有一個頂部開口,確定一個對LCD基板110進行曝光處理的空間。一個基座120,用以支撐LCD基板110,安裝在暗室100之內。其中,LCD基板110可以采用,例如,一個玻璃基板,并且包括一個成模層(末示)以及一個光阻層(末示),順序安裝于其上。
      在暗室之內正對LCD基板110的位置設置一個光掩膜130,并與LCD基板110間隔一個固定距離。光掩膜130包括大量光阻模130a,用于對光阻層進行曝光。光阻模130a設置于光掩膜130的表面上正對LCD基板110的位置。
      透明蓋140設置于暗室的頂部而使暗室密封。透明蓋140制作成片狀以遮蓋暗室100的頂部開口。其中,透明蓋140可以采用例如右英等透光材料而制作。
      在暗室100上面設置單一的燈光裝置150。燈光裝置150包括一個光源152,一個包圍光源的機架154,以及一個安裝在機架154底部的透明窗156。燈光裝置150進而包括一個移動單元158,通過該移動單元158燈光裝置150可以在確定的方向上而往復移動。其中,盡管燈光裝置150的大小與現有燈光裝置150的大小相等,但是本發(fā)明的燈光裝置150可以由移動單元158而移動。因此,光線可以均勻地照射到整個LCD基板110的表面。并且,由于燈光裝置150與暗室100相隔以確定的距離,所以燈光裝置150可以自由移動。其中,燈光裝置150的底部以及暗室100的頂部,是由透明材料制成的,有助于光線的發(fā)射而不吸收光線。
      以下將對本發(fā)明的曝光系統(tǒng)200的工作過程給予說明。
      燈光裝置150以確定的方向而移動,例如,沿基板長度的方向,并且發(fā)射光線到暗室100內部。其中,移動單元158以恒定速度移動燈光裝置150,從而使燈光裝置150可以均勻地將光線照射到暗室100內的光掩膜130。而且,由于在燈光裝置150的底部設置了一個透明窗156,光線可以照射到光掩膜130上而不被吸收。當光線到達光掩膜130之后,部分光線被光阻模130a而吸收而部分透射出去。因此,光線均勻地傳輸到LCD基板110。
      其中,當燈光裝置150移動并發(fā)射光線時,只采用一個燈光裝置足以進行曝光。因此,由于不需要安裝其他的燈光裝置150而使成本大大降低。
      如上所述,相應于本發(fā)明,一個曝光系統(tǒng)在暗室之上包括一個具有一個移動單元的單一燈光裝置,移動單元允許燈光裝置往復移動。因此,通過移動燈光裝置可以進行曝光處理,并且可以減少燈光裝置的數目。由于不需要設置幾個昂貴的機架,所以可以大大降低曝光系統(tǒng)的生產成本。
      本發(fā)明結合其優(yōu)選實施例給予了具體說明,但是本領域的技術人員應明確,在不違反由以下權利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下,可以對本發(fā)明進行各種形式和細節(jié)的改變。
      權利要求
      1.一個曝光系統(tǒng)包括一個暗室,確定為進行曝光工藝過程的空間,其特征在于,該暗室包括一個基座,用以支撐即將曝光的基板,以及一個光掩膜,用以對基座的上部成模;以及一個燈光裝置,設置于暗室之上并且以確定的方向移動并發(fā)射光線到暗室內部。
      2.如權利要求1所述的曝光系統(tǒng),其特征在于,暗室的頂部包括一個透明蓋,燈光裝置通過該透明蓋將光線發(fā)射到暗室之內。
      3.如權利要求1所述的曝光系統(tǒng),其特征在于,燈光裝置包括一個光源,一個包圍光源的光源機架,一個透明窗位于光源機架的底部,以及一個移動單元,使燈光裝置以垂直于發(fā)射光線的方向而往復運動。
      4.如權利要求3所述的曝光系統(tǒng),其特征在于,燈光裝置和暗室以固定距離而間隔設置。
      5.一個曝光系統(tǒng)包括一個暗室,確定為液晶顯示器基板經歷曝光處理的空間,并且具有一個頂部開口;一個透明窗,封閉暗室的頂部開口以密封暗室;以及一個燈光裝置,與暗室的上部相距確定的距離并且以確定的方向而發(fā)射光線到暗室內部。
      6.如權利要求5所述的曝光系統(tǒng),其特征在于,燈光裝置包括一個光源,一個包圍光源的光源機架,一個設置于光源機架底部的透明窗,以及一個移動單元,以固定的方向而往復移動燈光裝置。
      全文摘要
      本發(fā)明提供了一種曝光系統(tǒng),該系統(tǒng)可以在即使只采用單一燈光裝置的情況下,而使光線均勻地照射到基板上,因此降低了生產成本。曝光系統(tǒng)包括一個暗室,提供一個LCD基板經歷曝光工藝處理的空間,并且具有一個頂部開口,一個封閉頂部開口的透明窗,以密封暗室,以及一個燈光裝置,與暗室的頂部間隔一個固定的距離,并且以固定的方向發(fā)射光線到暗室內部。
      文檔編號G03F7/20GK1452013SQ0310937
      公開日2003年10月29日 申請日期2003年4月8日 優(yōu)先權日2002年4月18日
      發(fā)明者樸庸碩, 趙漢范 申請人:顯像制造服務股份有限公司
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