專利名稱：散射層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)一種散射層所作的改進(jìn)，試圖將這種散射層沉積在基片上，使光源變得均勻。
盡管本發(fā)明并不限于這樣一些應(yīng)用，但本發(fā)明還是更具體地就有關(guān)用于使背面光(rétro-édairage)系統(tǒng)發(fā)出的光變得均勻的層進(jìn)行描述。
這樣一種系統(tǒng)特別地可以是一種尤其用作液晶顯示屏背面光光源的光源或“背面光”。需要使例如在天花板、地板或墻面中使用的建筑物平面型燈(lampes planes)發(fā)出的光均勻時(shí)，也可采用本發(fā)明。本發(fā)明還可以用于市政應(yīng)用的平面型燈中，這些應(yīng)用例如是廣告面板的照明燈，或能構(gòu)成演示櫥窗擱板或背景的燈。
用于這些背面光系統(tǒng)的光源主要是放電管或燈泡，它們通常稱之CCFL(冷陰極熒光燈)、HCFL(熱陰極熒光燈)或DBDFL(介電阻擋層放電熒光燈)。所有這些系統(tǒng)有一個(gè)共同點(diǎn)，即它們都由通常頻率范圍10-100kHz的可變電壓電源供電。
現(xiàn)在，在這些頻率范圍內(nèi)，在接通與斷開瞬間相位和穩(wěn)態(tài)相位，會(huì)出現(xiàn)電磁干擾和/或表面電荷聚集現(xiàn)象，這會(huì)對(duì)液/晶電池產(chǎn)生干擾。
為了限制甚至消除這些現(xiàn)象，人們知道對(duì)背面光系統(tǒng)產(chǎn)生的電磁波進(jìn)行絕緣，除去表面電荷達(dá)到屏幕組件地電位。
應(yīng)聯(lián)想到，這類顯示屏在背面光系統(tǒng)(它構(gòu)成了電磁干擾發(fā)生器)與LCD(液晶顯示屏)屏之間加一個(gè)散射層，正如其名所表明的，這種散射層可保證來自背面光系統(tǒng)光源的光均勻擴(kuò)散。
為了使這樣一種顯示屏達(dá)到電磁絕緣，可在這種散射體(通常用塑料材料制成，例如用PMMA或聚碳酸酯制成)上使用一層熱塑性材料薄板(PET)，這種材料本身覆蓋一層導(dǎo)體材料，例如ITO(氧化銦錫)類的導(dǎo)電材料。
人們還知道其他一些電磁絕緣技術(shù)，但這些技術(shù)不適于這類應(yīng)用。特別地，使用導(dǎo)線網(wǎng)，或金屬格柵或金屬薄膜都是不可能的。事實(shí)上，往這類絕緣器件加入散射體不能保證透光率TL達(dá)到至少50％，吸光率AL低于15％，而這兩個(gè)條件是生產(chǎn)加入上述背面光系統(tǒng)顯示屏的生產(chǎn)者所要求的。
此外，我們指出構(gòu)成這種散射體的材料性質(zhì)有許多缺陷。我們已發(fā)現(xiàn)，這種散射體通常用塑料制成?，F(xiàn)在，這樣一些材料是熱敏性的，對(duì)角線大于10″(在這種情況下對(duì)角線是顯示屏的特征性尺寸)的大尺寸顯示屏，光源處在外殼內(nèi)，至多接近散射部件(“直射光”類結(jié)構(gòu))，而小尺寸顯示屏(對(duì)角線小于10″)通常就不是這種情況，光源放在外殼的一側(cè)(邊緣光結(jié)構(gòu))，光由波導(dǎo)管傳輸?shù)缴⑸鋵?，這種放熱特別明顯。
對(duì)于這些大尺寸的顯示屏，這種放熱通常會(huì)導(dǎo)致散射部件結(jié)構(gòu)變形，這種變形會(huì)反映出投影到顯示屏上的圖像的亮度不均勻。
除了散射部件機(jī)械穩(wěn)定性的這些問題外，還存在著因其電磁絕緣器件有熱塑性薄板而使散射部件厚度過大的問題，這種絕緣器件一方面會(huì)產(chǎn)生多次反射，另一方面會(huì)產(chǎn)生組裝時(shí)的附加成本。
然而，傾向于從顯示屏厚度與組件數(shù)量著手減少其體積的實(shí)際期望與這種解決方案背道而馳。而且，這種厚度增加導(dǎo)致投影圖像亮度的降低。
因此，本發(fā)明人為自身提出尋找一種大尺寸顯示屏(對(duì)角線尺寸為10″以上)電磁絕緣辦法的任務(wù)，而這種辦法還沒有上述解決方案的缺陷，尤其是沒有尺寸和圖像質(zhì)量失真方面的缺陷。
為此，用于使本發(fā)明光源均勻的散射層，其特征在于它連接一種每平方電阻大于100Ω的電磁絕緣器件。
在本發(fā)明的一些優(yōu)選具體實(shí)施方案中，可能任選地采用下述其中一種和/或另外一種規(guī)定-每平方電阻是300-700Ω，-該絕緣器件由至少一層在可見光區(qū)半透明的導(dǎo)電材料層構(gòu)成，所述的導(dǎo)電層放得盡可能靠近散射層，-該導(dǎo)電層是以半透明導(dǎo)電氧化物為基的，-該散射層置于基片上，該導(dǎo)電層置于這種散射層上，-該散射層與一種基片連接，該導(dǎo)電層沉積在這種基片與這種散射層之間，-該散射層與一種基片連接，這種散射層置于基片的其中一個(gè)面上，而該導(dǎo)電層置于所述基片的另一個(gè)面上，
-該絕緣器件加在散射層中，-該散射層由含有微粒和粘合劑的成分(élément)構(gòu)成，這種粘合劑能使這些微粒彼此聚集起來，這種保護(hù)裝置由一個(gè)或另一個(gè)所述成分構(gòu)成，-這些微粒是金屬或金屬氧化物，-它含有ZrO2微粒，-這些微粒的尺寸是50nm至1μm，-這些微粒是以SnO2F或ITO為基的-這種粘合劑是無機(jī)或有機(jī)的導(dǎo)電粘合劑，-這種基片是玻璃基片，-這種基片是聚合物基的透明基片，例如用聚碳酸酯制成的透明基片，-這種散射層加入具有除絕緣功能之外的其他功能的涂層，尤其是具有低發(fā)射功能、抗靜電功能、防霧功能、防污功能的涂層。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，本發(fā)明的目的在于使用如前面所述的散射層，制備在背面光系統(tǒng)和/或平面型燈系統(tǒng)中使用的散射基片。
在本發(fā)明的優(yōu)選具體實(shí)施方案中，任選地還可以采用下述其中一種和/或另外一種規(guī)定-這種基片是構(gòu)成背面光和/或平面型燈系統(tǒng)的其中一種玻璃薄片，-這種基片具有“直射光”應(yīng)用所采用的特征性尺寸，-層的厚度和/或覆蓋密度在沉積表面上有變化，-該散射層的厚度是0.5-5μm。
閱讀下面詳細(xì)說明后將體會(huì)到本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)。
因此，根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)具體實(shí)施方案，該散射層由粘合劑中的聚集微粒構(gòu)成，所述微粒的平均直徑0.3-2μm，所述粘合劑的比例是10-40體積％，這些微粒形成尺寸0.5-5μm的聚集體，所述層的對(duì)比衰減高于40％，優(yōu)選地高于50％。申請(qǐng)WO 0 190 787中具體地描述了這種散射層。
這些微粒選自半透明微粒，優(yōu)選地選自無機(jī)微粒，例如氧化物、氮化物和碳化物。
這些微粒優(yōu)選地選自二氧化硅、氧化鋁、二氧化鋯、二氧化鈦、鈰氧化物或這些氧化物中至少兩種氧化物的混合物。
采用本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的任何方法，具體地采用沉淀法或熱解法可以得到這樣的一些微粒。這些微粒的粒度是其中至少50％微粒偏離其平均直徑在50％以下。
如果在裝燈之前，特別地在密封燈之前制層，該粘合劑具有足以耐住其燈工作溫度和/或密封溫度的溫度穩(wěn)定性。
當(dāng)該層處在外部時(shí)，選擇的粘合劑還應(yīng)具有足夠的耐磨性，以便它能經(jīng)受位任何的背面光系統(tǒng)操作，例如特別地在安裝平面顯示屏?xí)r的操作，還沒有任何損傷。
根據(jù)某些需要，該粘合劑可以選擇無機(jī)粘合劑，例如為了有利于該層耐溫性而選擇無機(jī)粘合劑，或者可以選擇有機(jī)粘合劑，主要是為了簡化所述層的制備方法，因?yàn)榭梢院唵蔚剡_(dá)到交聯(lián)，例如通過冷卻達(dá)到交聯(lián)。選擇耐溫性高的無機(jī)粘合劑，將特別有可能生產(chǎn)出壽命長的，還不會(huì)出現(xiàn)任何層降解危險(xiǎn)的背面光系統(tǒng)，例如由產(chǎn)生大量熱的熒光管所引起的這種危險(xiǎn)。事實(shí)上，顯然是采用這些已知解決辦法，塑料薄膜因溫度而降解，這樣使得生產(chǎn)大尺寸背面光系統(tǒng)變得非常的難處理。
這種粘合劑的指數(shù)與微粒指數(shù)不同，這兩者之差優(yōu)選地是至少0.1。微粒指數(shù)高于1.7，而粘合劑的指數(shù)優(yōu)選地低于1.6。
這種粘合劑選自硅酸鉀、硅酸鈉、硅酸鋰、磷酸鋁、聚乙烯醇類聚合物、熱固性樹脂、丙烯酸樹脂等。
為了有利于生成具有希望尺寸的聚集體，本發(fā)明考慮添加至少一種能使微粒在該粘合劑中隨機(jī)分布的添加劑。優(yōu)選地，這種添加劑或分散劑選自下述劑酸、堿或低分子量離子聚合物，尤其是分子量小于50000g/mol的離子聚合物。
還可能添加其他的劑，例如潤濕劑，像非離子、陰離子或陽離子表面活性劑，以便提供大尺寸的均勻?qū)印?br> 還可能添加流變改性劑，例如纖維素醚。
可以按照厚度1-20μm沉積如此定義的層。這樣層的沉積方法可以是本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的任何方法，例如采用絲網(wǎng)印刷、涂料涂布、“浸涂”、“旋涂”、“流涂”、噴涂等方法沉積。
希望的沉積層厚度大于2μm時(shí)，可采用絲網(wǎng)類印刷方法。
層厚度小于4μm時(shí)，優(yōu)選地可以采用流涂或噴涂方法。
還考慮生產(chǎn)一種其厚度隨表面上覆蓋區(qū)域而改變的層；這樣一種生產(chǎn)方法可以修正光源固有的不均勻性。例如，有可能以這種方式修正光源沿其長度而發(fā)生的照明度變化。根據(jù)另一個(gè)基本上可得到修正光源固有不均勻性同樣效果的實(shí)施方案，考慮生產(chǎn)一種其覆蓋密度在沉積表面上有變化的層；例如涉及采用絲網(wǎng)印刷方法制成的涂層，其涂層的點(diǎn)密度從完全覆蓋區(qū)域向分散點(diǎn)區(qū)域改變，這種轉(zhuǎn)換是漸進(jìn)的或非漸進(jìn)的。
根據(jù)該散射層的另一個(gè)具體實(shí)施方式
，準(zhǔn)備至少一種構(gòu)成導(dǎo)電散射層的成分，甚至至少兩種所述的成分?？赡苌婕皹?gòu)成這些聚集體的微粒，或者涉及構(gòu)成粘合劑的微粒。
在SnO2無機(jī)類或有機(jī)類導(dǎo)電粘合劑的情況下，例如考慮使用導(dǎo)電聚合物(聚吡咯(polypyrole))或納米微粒(SnO2:F、SnO2:Sb、ITO)。
在構(gòu)成聚集體的微粒是導(dǎo)電的情況下，它們可以是以透明的導(dǎo)電氧化物粉末為基的，例如像SnO2:F、SnO2:Sb、In2O3:Sn、ZnO:Al。
根據(jù)另外一個(gè)實(shí)施方式，可以使用已經(jīng)表面熱處理的基片得到散射層。例如涉及噴沙處理的基片、Sanit Gobain Glass France以商品名《Satinovo》TM銷售的經(jīng)酸侵蝕的基片，或Sanit Gobain Glass France以商品名《Emalit》TM或《Opalit》TM銷售的涂有瓷釉層的基片。
不管其散射層的實(shí)施方式(除了使用固有導(dǎo)電成分獲得的散射層除外)如何，該層都應(yīng)該與電磁絕緣和/或表面電荷流動(dòng)的設(shè)備連接在一起。
該電磁絕緣器件由至少一個(gè)導(dǎo)電層構(gòu)成，這個(gè)導(dǎo)電層位于盡可能靠近離散射層的位置，這個(gè)導(dǎo)電層在可見光區(qū)是透明的(其中包括減少或沒有薄霧，在這種情況中都屬于半透明)。
根據(jù)本發(fā)明，這樣一些導(dǎo)電層置于透明或半透明基片上，按照這些應(yīng)用，這些基片是平面或非平面形狀。
這種導(dǎo)電層是由導(dǎo)電的透明氧化物(更一般地稱之TCO)構(gòu)成的，例如特別地是SnO2:F、SnO2:Sb、In2O3:Sn、ZnO:Al。
根據(jù)第一項(xiàng)技術(shù)，可以采用反應(yīng)性陰極濺射法，或者使用金屬靶，或者使用氧化物靶制造這個(gè)導(dǎo)電層。
根據(jù)第二項(xiàng)技術(shù)，可采用熱解技術(shù)制造這個(gè)導(dǎo)電層。
可能涉及粉末熱解方法。該技術(shù)在于通過噴射載氣，將有機(jī)金屬前體粉末或粉末混合物噴涂到基片表面上，這種粉末在基片的熱作用下發(fā)生分解，釋放出參與導(dǎo)電層的原子。
還可能涉及液體熱解方法。根據(jù)這種方法，例如采用噴涂技術(shù)或《浸涂》或《旋涂》技術(shù)，讓這些呈液體溶液或懸浮液形式的化學(xué)前體與基片接觸。
還可以采用化學(xué)蒸汽相沉積(CVD)或采用等離子體增強(qiáng)的CVD方法，將這種導(dǎo)電層沉積在基片上。
根據(jù)另外一項(xiàng)技術(shù)，采用溶膠-凝膠技術(shù)可以得到這種導(dǎo)電層。
不論這種導(dǎo)電層的生產(chǎn)方式如何，但這種導(dǎo)電層的每平方電阻高于100Ω，優(yōu)選地300-700Ω。該導(dǎo)電層構(gòu)成頻率為10-100kHz的絕緣器件；這個(gè)導(dǎo)電層還能構(gòu)成靜電電荷或表面電荷的流動(dòng)設(shè)備。(使用上述固有導(dǎo)電散射層也可以獲得這些每平方電阻性能)。
因此，該導(dǎo)電層與散射層連接，其整體又與基片連接，特別地與用玻璃或聚合物(PMMA、聚碳酸酯)制成的基片連接。
可以采用多種方式實(shí)現(xiàn)與這種基片的連接-這種基片位于散射層與導(dǎo)電層之間，-該導(dǎo)電層覆蓋基片的其中一個(gè)面，該散射層覆蓋該導(dǎo)電層，-該散射層覆蓋基片的其中一個(gè)面，該導(dǎo)電層覆蓋該散射層，-包括至少一種導(dǎo)電成分(粘合劑和/或聚集體)的散射層與基片的其中一個(gè)面接觸。
不論由基片、僅散射層本身(固有導(dǎo)電的)、與導(dǎo)電層連接的散射層形成的連接結(jié)構(gòu)如何，該組合件的透光率TL是至少20％，優(yōu)選地高于50％，而吸光率AL低于15％。如此形成散射層的厚度是0.5-5μm，其中單個(gè)導(dǎo)電層為10nm-1μm。導(dǎo)電層本身的透光率值是至少80％，優(yōu)選地85％以上。
一種實(shí)施方案可能與有上述屏蔽裝置的散射層的生產(chǎn)方式相關(guān)，這種實(shí)施方案在于在組合件中加入具有另外功能的涂層?？赡苌婕耙环N具有遮蔽紅外波長輻射功能的涂層(例如使用一個(gè)或多個(gè)被多個(gè)介電體層包裹的銀層，或者多個(gè)氮化物層，如TiN或ZrN層，或多個(gè)金屬氧化物、鋼或Ni-Cr合金層)，具有低發(fā)射率功能的涂層(例如使用摻雜的金屬氧化物，如SnO2:F，或摻錫的氧化銦ITO或一個(gè)或多個(gè)銀層)，加熱層(摻雜的金屬氧化物，例如Cu、Ag)或加熱絲網(wǎng)層(使用導(dǎo)電銀漿體采用絲網(wǎng)印刷的銅絲或條)，防霧層(使用親水層)，防污層(含有至少部分以銳鈦礦形態(tài)結(jié)晶的TiO2的光催化涂層)。
特別地，本發(fā)明期望的應(yīng)用特別是背面光系統(tǒng)，例如用于液晶顯示屏的照明設(shè)備，或用于建筑照明或市政照明的平面型燈，或更一般地用于加進(jìn)會(huì)產(chǎn)生電磁干擾的光源的任何系統(tǒng)中。
在非限制性的平面型燈情況下，多層組合件(散射+導(dǎo)電層)沉積在構(gòu)成燈前面的玻璃片上。
根據(jù)加進(jìn)本發(fā)明散射層的平面型燈的第一個(gè)實(shí)施方式，多層組合件(散射+導(dǎo)電層)沉積在朝向燈內(nèi)的玻璃片面上；根據(jù)這樣一種實(shí)施方式，在生產(chǎn)這種燈時(shí)，多層組合件(散射+導(dǎo)電層)應(yīng)該沉積在玻璃片上。根據(jù)這個(gè)實(shí)施方式，多層組合件應(yīng)該具有足夠的耐溫性，以便能經(jīng)受住生產(chǎn)這樣一種燈所需要的不同熱處理，特別地能進(jìn)行相應(yīng)于電極生產(chǎn)的這些涂敷操作，還能進(jìn)行構(gòu)成平面型燈結(jié)構(gòu)的兩塊玻璃片的周邊密封操作。
如果需要間隔層，特別是為了使兩個(gè)玻璃片之間保持均勻的間隔，本發(fā)明考慮了多層組合件(散射+導(dǎo)電層)的沉積，同時(shí)留出自由空間(espaces libres)，這些自由空間相應(yīng)于為這些隔離層而準(zhǔn)備的位置，以致這些隔離層的粘著不受本發(fā)明層的干擾。根據(jù)絲網(wǎng)印刷技術(shù)選擇沉積這種層時(shí)，可以容易地得到這樣一些自由空間。
根據(jù)加進(jìn)本發(fā)明散射層的平面型燈的第二個(gè)實(shí)施方式，該層(散射+導(dǎo)電層)沉積在朝向燈外部的玻璃片面上；根據(jù)這個(gè)實(shí)施方式，選擇多層組合件(散射+導(dǎo)電層)，使其具有增強(qiáng)的機(jī)械強(qiáng)度，尤其是具有增強(qiáng)的耐磨性。
根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，該實(shí)施方案涉及在生產(chǎn)平面型燈和/或背面光系統(tǒng)時(shí)使用本發(fā)明改進(jìn)散射多層組合件(散射+導(dǎo)電層)，所述的層(散射+導(dǎo)電層)沉積在透明或半透明的基片上，而不是沉積在構(gòu)成平面型燈或背面光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的玻璃片上。這樣一種實(shí)施方案可能在于在玻璃基片上沉積多層組合件(散射+導(dǎo)電層)，這種玻璃基片與燈或背面光系統(tǒng)的前面保持一定的距離；根據(jù)物理學(xué)的定律，這樣的實(shí)施方案還能夠改善多層組合件的散射效果。另一方面，一種這樣實(shí)施方案的體積或外廓尺寸變得等效于現(xiàn)在技術(shù)已知的解決方案，但是由于散射和電磁絕緣性能隨著時(shí)間流逝而耐久得多。
如此根據(jù)本發(fā)明獲得的這些改進(jìn)層(散射且絕緣)因此能夠生產(chǎn)出例如用于液晶顯示屏照明的背面光系統(tǒng)。與現(xiàn)有已知的解決方案相比，本發(fā)明的層能夠降低具有光源、亮度和壽命性能的所述背面光系統(tǒng)的外廓尺寸。
權(quán)利要求
1.用于使光源均勻的以無機(jī)微粒為基的散射層，其特征在于它連接每平方電阻大于100Ω的電磁絕緣器件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射層，其特征在于其每平方電阻是300-700Ω。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射層，其特征在于該絕緣器件由至少一層在可見光區(qū)半透明的導(dǎo)電層構(gòu)成，所述的導(dǎo)電層放得盡可能靠近散射層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的散射層，其特征在于該導(dǎo)電層是以透明的導(dǎo)電氧化物粉末為基的，例如像SnO2F、SnO2Sb、In2O3Sn、ZnOAl。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該散射層沉積在基片上，而導(dǎo)電層沉積在所述的散射層上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該散射層與基片連接，而導(dǎo)電層沉積在基片與散射層之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該散射層與基片連接，該散射層沉積在基片的其中一個(gè)面上，而導(dǎo)電層沉積在所述基片的另一個(gè)面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該絕緣器件加進(jìn)散射層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該散射層由含有微粒和粘合劑的成分構(gòu)成，該粘合劑能將這些微粒彼此聚集起來，該絕緣器件由一個(gè)和/或另外一個(gè)所述成分構(gòu)成。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的散射層，其特征在于這些微粒是金屬或金屬氧化物。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的散射層，其特征在于它含有ZrO2微粒。
12.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于微粒的尺寸是50nm至1μm。
13.根據(jù)權(quán)利要求9-12中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于這些微粒是SnO2F或ITO基的。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的散射層，其特征在于該粘合劑是無機(jī)或有機(jī)的導(dǎo)電粘合劑。
15.根據(jù)權(quán)利要求1-14中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該基片是玻璃基片。
16.根據(jù)權(quán)利要求1-14中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該基片是聚合物基的透明基片，例如用聚碳酸酯制成的透明基片。
17.根據(jù)權(quán)利要求1-16中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于該散射層加入具有除絕緣功能之外的其它功能的涂層，特別地具有低發(fā)射率功能，抗靜電、防霧、防污功能的涂層。
18.根據(jù)權(quán)利要求1-17中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于它的透光率TL高于20％，優(yōu)選地高于50％。
19.根據(jù)權(quán)利要求1-18中任一權(quán)利要求所述的散射層，其特征在于它的厚度是0.5-5μm。
20.如根據(jù)權(quán)利要求1-19中任一權(quán)利要求所述的散射層在生產(chǎn)配置光源系統(tǒng)的散射基片中的應(yīng)用。
21.如根據(jù)權(quán)利要求1-19中任一權(quán)利要求所述的散射層在生產(chǎn)背面光系統(tǒng)的散射基片中的應(yīng)用。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的散射層應(yīng)用，其特征在于該基片是構(gòu)成背面光系統(tǒng)的玻璃片。
23.如根據(jù)權(quán)利要求1-19中任一權(quán)利要求所述的散射層在生產(chǎn)平面型燈系統(tǒng)的散射基片中的應(yīng)用。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的散射層應(yīng)用，其特征在于該基片是構(gòu)成平面型燈系統(tǒng)的玻璃片。
25.根據(jù)權(quán)利要求20-24中任一權(quán)利要求所述的散射層應(yīng)用，其特征在于該基片具有《直接光》應(yīng)用所采用的特征性尺寸。
26.根據(jù)權(quán)利要求20-25中任一權(quán)利要求所述的散射層應(yīng)用，其特征在于該層的厚度和/或覆蓋密度在其沉積表面上有變化。
全文摘要
用于使光源均勻的以無機(jī)微粒為基的散射層，其特征在于它連接一種每平方電阻大于100Ω的電磁絕緣器件。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK1678928SQ03820877
公開日2005年10月5日 申請(qǐng)日期2003年7月2日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月3日
發(fā)明者B·貝爾坦穆羅特, E·魯耶, L·若爾特 申請(qǐng)人:法國圣戈班玻璃廠