專利名稱:微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置,包括電腦、X?Y移動平臺、高能量密度雕刻機(jī)、X?Y坐標(biāo)檔控制器、角度檔控制器和深度檔控制器；所述電腦存有灰階圖檔的X?Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息，且所述X?Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息的后綴名不同；所述電腦分別連接所述X?Y坐標(biāo)檔控制器、所述角度檔控制器和所述深度檔控制器，并且根據(jù)所存儲的不同后綴名的圖檔對應(yīng)選擇不同的控制器進(jìn)行控制操作，所述高能量密度雕刻機(jī)設(shè)置在X?Y移動平臺的X軸上，所述X軸及X軸上的高能量密度雕刻機(jī)架設(shè)在X?Y移動平臺的Y軸上。本實(shí)用新型的裝置和方法可以制作出超精細(xì)超薄的透鏡模板。
【專利說明】
微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及制版設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]現(xiàn)行的菲涅耳透鏡模版都是透過鉆石刀具在金屬圓柱面上切割，使用的刀具成本高，而且解析度受到刀具制作的限制，無法做到非常小，非常薄的透鏡，且因?yàn)槭切D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)， 只能制作圓形透鏡，無法做成其它形狀的透鏡。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]基于現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，該裝置可以制作出超精細(xì)超薄的透鏡模板。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為:
[0005]—種微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:包括電腦、X-Y移動平臺、高能量密度雕刻機(jī)、X-Y坐標(biāo)檔控制器、角度檔控制器和深度檔控制器;所述電腦存有灰階圖檔的 X-Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息，且所述X-Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息的后綴名不同；所述電腦分別連接所述X-Y坐標(biāo)檔控制器、所述角度檔控制器和所述深度檔控制器，并且根據(jù)所存儲的不同后綴名的圖檔對應(yīng)選擇不同的控制器進(jìn)行控制操作，所述高能量密度雕刻機(jī)設(shè)置在X-Y移動平臺的X軸上，所述X軸及X軸上的高能量密度雕刻機(jī)架設(shè)在X-Y移動平臺的Y軸上。
[0006]所述的X-Y移動平臺包括放置基材的基材放置平臺、支撐于基材放置平臺上的支撐架，所述基材放置平臺兩側(cè)設(shè)有一對相互平行的滑槽;所述支撐架包括兩個相互平行的垂直于基材放置平臺臺面的豎板和連接兩個豎板的平行于所述基材放置平臺的橫板，所述橫板方向?yàn)樗鯴-Y移動平臺的X軸方向，所述豎板為所述X-Y移動平臺的Y軸方向，所述兩個豎板配合所述滑槽移動，所述高能量密度雕刻機(jī)活動的設(shè)置在所述橫板上，所述支撐架與所述X-Y坐標(biāo)檔控制器連接。
[0007]所述高能量密度雕刻機(jī)為光刻機(jī)。
[0008]所述的光刻機(jī)包括光刻機(jī)基座、安裝在光刻機(jī)基座下方沿與基材放置平臺臺面平行的平面旋轉(zhuǎn)的光刻頭及從光刻頭發(fā)出的激光，所述光刻頭發(fā)出的激光的方向垂直于所述基材放置平臺的臺面，所述光刻機(jī)基座與X-Y坐標(biāo)檔控制器連接，所述光刻頭通過所述光刻機(jī)基座與所述角度檔控制器連接，所述深度檔控制器控制從所述光刻頭發(fā)出的激光的功率。
[0009]所述的高能量密度雕刻機(jī)為電子束雕刻機(jī)。
[0010]所述基材為感光材料。
[0011]本實(shí)用新型的有益效果為:可以制作出超精細(xì)超薄的透鏡模板，供防偽、包裝和微結(jié)構(gòu)透鏡陣列生產(chǎn)之用，降低成品成本，以及提供更容易的大量復(fù)制制作用途。【附圖說明】

[0012]圖1為本實(shí)用新型具體實(shí)施例的制版裝置的部分結(jié)構(gòu)示意圖。【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，
[0014]—種微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，包括電腦、X-Y移動平臺、高能量密度雕刻機(jī)、 X-Y坐標(biāo)檔控制器、角度檔控制器和深度檔控制器;電腦存有灰階圖檔的X-Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息，且X-Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息的后綴名不同；電腦分別連接X-Y坐標(biāo)檔控制器、角度檔控制器和深度檔控制器，并且根據(jù)所存儲的不同后綴名的圖檔對應(yīng)選擇不同的控制器進(jìn)行控制操作，高能量密度雕刻機(jī)設(shè)置在X-Y移動平臺的X軸上，X軸及X軸上的高能量密度雕刻機(jī)架設(shè)在X-Y移動平臺的Y軸上。[〇〇15]如圖1所示，X-Y移動平臺包括放置基材的基材放置平臺1，基材放置平臺1下面含有四個豎直的支架11，基材放置平臺1和支架11的組合從外觀上看像是一臺桌子，X-Y移動平臺還包括支撐于基材放置平臺1上的支撐架2,基材放置平臺1兩側(cè)設(shè)有一對相互平行的滑槽12,支撐架2包括兩個相互平行的垂直于基材放置平臺臺面的豎板21和連接兩個豎板 21的平行于基材放置平臺1的橫板22,橫板22方向?yàn)閄-Y移動平臺的X軸方向，豎板21為X-Y 移動平臺的Y軸方向，兩個豎板21配合所述滑槽12移動，高能量密度雕刻機(jī)3活動的設(shè)置在橫板22上，支撐架2與所述X-Y坐標(biāo)檔控制器電連接。
[0016]高能量密度雕刻機(jī)3為光刻機(jī)。光刻機(jī)包括光刻機(jī)基座31、安裝在光刻機(jī)基座31下方沿與基材放置平臺1臺面平行的平面旋轉(zhuǎn)的光刻頭32及從光刻頭32發(fā)出的激光，光刻頭 32發(fā)出的激光的方向垂直于基材放置平臺1的臺面，光刻機(jī)基座31與X-Y坐標(biāo)檔控制器連接，光刻頭32通過光刻機(jī)基座31與角度檔控制器連接，深度檔控制器控制從光刻頭發(fā)出的激光的功率。高能量密度雕刻機(jī)也可為電子束雕刻機(jī)，但不限于光束或電子束，能實(shí)現(xiàn)在被刻基材上雕刻功能的密度流，都包括在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0017]本實(shí)施例的被刻基材為感光片材，可以是光阻玻璃，UV涂布片材或是其它對高能光束感光的材料，但不限于感光片材，也可以是塑料或其它材質(zhì)，只要提高高能光束的功率，就可以在一些硬質(zhì)材料上進(jìn)行破壞性的雕刻。
[0018]需要說明的是，以上所述只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施方式，只要其以相同的手段達(dá)到本實(shí)用新型的技術(shù)效果，都應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:包括電腦、X-Y移動平臺、高能量密 度雕刻機(jī)、X-Y坐標(biāo)檔控制器、角度檔控制器和深度檔控制器;所述電腦存有灰階圖檔的X-Y 坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息，且所述X-Y坐標(biāo)檔信息、深度檔信息及角度檔信息 的后綴名不同；所述電腦分別連接所述X-Y坐標(biāo)檔控制器、所述角度檔控制器和所述深度檔 控制器，并且根據(jù)所存儲的不同后綴名的圖檔對應(yīng)選擇不同的控制器進(jìn)行控制操作，所述 高能量密度雕刻機(jī)設(shè)置在X-Y移動平臺的X軸上，所述X軸及X軸上的高能量密度雕刻機(jī)架設(shè) 在X-Y移動平臺的Y軸上。2.如權(quán)利要求1所述的微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:所述的X-Y移動平 臺包括放置基材的基材放置平臺、支撐于基材放置平臺上的支撐架，所述基材放置平臺兩 側(cè)設(shè)有一對相互平行的滑槽;所述支撐架包括兩個相互平行的垂直于基材放置平臺臺面的 豎板和連接兩個豎板的平行于所述基材放置平臺的橫板，所述橫板方向?yàn)樗鯴-Y移動平 臺的X軸方向，所述豎板為所述X-Y移動平臺的Y軸方向，所述兩個豎板配合所述滑槽移動， 所述高能量密度雕刻機(jī)活動的設(shè)置在所述橫板上，所述支撐架與所述X-Y坐標(biāo)檔控制器連 接。3.如權(quán)利要求2所述的微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:所述高能量密度雕 刻機(jī)為光刻機(jī)。4.如權(quán)利要求3所述的微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:所述的光刻機(jī)包括 光刻機(jī)基座、安裝在光刻機(jī)基座下方沿與基材放置平臺臺面平行的平面旋轉(zhuǎn)的光刻頭及從 光刻頭發(fā)出的激光，所述光刻頭發(fā)出的激光的方向垂直于所述基材放置平臺的臺面，所述 光刻機(jī)基座與X-Y坐標(biāo)檔控制器連接，所述光刻頭通過所述光刻機(jī)基座與所述角度檔控制 器連接，所述深度檔控制器控制從所述光刻頭發(fā)出的激光的功率。5.如權(quán)利要求2所述的微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:所述的高能量密度 雕刻機(jī)為電子束雕刻機(jī)。6.如權(quán)利要求2所述的微結(jié)構(gòu)立體浮雕圖文制版裝置，其特征在于:所述基材為感光材 料。
【文檔編號】G03F7/20GK205721072SQ201620388330
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年4月29日
【發(fā)明人】江明聰
【申請人】珠海市瑞明科技有限公司, 江明聰