專利名稱：基板處理裝置及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板處理裝置及基板處理方法。
背景技術(shù)：
一直以來(lái)，人們都在使用通過(guò)使安裝在噴嘴前端的噴出口與基板靠近并從噴出口向基板排出處理液，從而將處理液涂敷于基板上的基板處理裝置。在該基板處理裝置中，因?yàn)閲姵隹谂c基板間的距離會(huì)影響處理液的涂敷狀態(tài)，所以需要將噴出口與基板之間的距離控制在規(guī)定的距離之內(nèi)。為此，關(guān)于將噴出口與基板之間的距離控制在規(guī)定的距離之內(nèi)的技術(shù)有各種各樣的討論研究。例如，在特許文獻(xiàn)1中公開(kāi)了這樣的技術(shù)測(cè)定在與噴出口相同的平面內(nèi)形成的被測(cè)定面的位置，利用該測(cè)定結(jié)果，將噴出口與基板之間的距離控制在規(guī)定的距離之內(nèi)。
專利文獻(xiàn)1為JP特開(kāi)平9-206652號(hào)公報(bào)。
但是，在專利文獻(xiàn)1的技術(shù)中，如果未以高尺寸精度在與噴出口相同的面上形成被測(cè)定面，就不能將噴出口與基板之間的距離控制在規(guī)定的距離之內(nèi)。因此，在專利文獻(xiàn)1的技術(shù)中，存在有在制作噴嘴方面需要花費(fèi)很多的時(shí)間和費(fèi)用的問(wèn)題。另外，也可以考慮代替被測(cè)定面的位置的測(cè)定，而測(cè)定噴出口本身的位置，但此時(shí)會(huì)發(fā)生因附著在噴出口的處理液產(chǎn)生的測(cè)定誤差，產(chǎn)生不能正確地控制噴出口與基板之間的距離的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決此問(wèn)題而提出的，其目的在于提供一種可以正確控制噴出口與基板之間的距離的同時(shí)，噴嘴的制作容易的基板處理裝置。
為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明所述的基板處理裝置，具有測(cè)定裝置，其測(cè)定作為與成為處理對(duì)象的基板垂直的方向上的位置的垂直位置；噴嘴，其具有對(duì)上述基板噴出處理液的噴出口，測(cè)定垂直位置用的測(cè)定部位被定義在上述噴出口以外；垂直移動(dòng)裝置，其使上述噴嘴沿著與上述基板垂直的方向移動(dòng)；控制裝置，其控制上述垂直移動(dòng)裝置，上述控制裝置利用上述噴出口以及上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果，控制上述垂直移動(dòng)裝置。
本發(fā)明所述的基板處理裝置，還具有存儲(chǔ)裝置，該存儲(chǔ)裝置存儲(chǔ)上述噴出口的垂直位置為規(guī)定的垂直位置時(shí)的、上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果，上述控制裝置通過(guò)上述垂直移動(dòng)裝置使上述噴嘴移動(dòng)，直到上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果和存儲(chǔ)在上述存儲(chǔ)裝置中的測(cè)定結(jié)果一致，從而執(zhí)行使上述噴出口向規(guī)定的垂直位置移動(dòng)的校正處理。
本發(fā)明所述的基板處理裝置，存儲(chǔ)在上述存儲(chǔ)裝置中的測(cè)定結(jié)果是上述噴出口的垂直位置的測(cè)定結(jié)果為規(guī)定的測(cè)定結(jié)果時(shí)的上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果。
本發(fā)明所述的基板處理裝置，與上述基板處理裝置的動(dòng)作開(kāi)始同步而執(zhí)行上述校正處理。
本發(fā)明所述的基板處理裝置，每經(jīng)過(guò)上述基板處理裝置的規(guī)定個(gè)數(shù)的基板的處理或者經(jīng)過(guò)規(guī)定時(shí)間就執(zhí)行上述校正處理。
本發(fā)明所述的基板處理裝置，上述控制裝置通過(guò)上述垂直移動(dòng)裝置控制上述噴嘴的垂直位置的移動(dòng)量，從而控制上述基板和上述噴出口的距離。
本發(fā)明所述的基板處理裝置，還具有水平移動(dòng)裝置，該水平移動(dòng)裝置使上述噴嘴沿與上述基板平行的方向移動(dòng)，通過(guò)上述水平移動(dòng)裝置使上述噴嘴沿與上述基板平行的方向移動(dòng)，在上述噴出口與上述測(cè)定部位之間切換上述測(cè)定裝置的測(cè)定對(duì)象。
本發(fā)明所述的一種基板處理方法，通過(guò)從具有噴出口的噴嘴對(duì)基板噴出處理液而處理上述基板，包括測(cè)定與上述基板垂直的方向上的上述噴出口的垂直位置的第一測(cè)定工序；測(cè)定在上述噴出口以外定義的上述噴嘴的測(cè)定部位的垂直位置的第二測(cè)定工序；利用上述第一測(cè)定工序以及上述第二測(cè)定工序的測(cè)定結(jié)果，使上述噴嘴沿與上述基板垂直的方向移動(dòng)的垂直移動(dòng)工序。
根據(jù)上述本發(fā)明，因?yàn)槔脟姵隹谝约皽y(cè)定部位兩者的垂直位置的測(cè)定結(jié)果，在可以正確控制噴出口與基板的距離的同時(shí)，不需要制作使噴出口以及測(cè)定部位的垂直位置一致的噴嘴，因此可以容易地制作噴嘴。
根據(jù)上述本發(fā)明，因?yàn)樵谑箛姵隹谙蛞?guī)定的垂直位置移動(dòng)時(shí)，不需要測(cè)定噴出口的垂直位置，所以即使噴出口上附著了處理液，也可以使噴出口的垂直位置正確地調(diào)整到規(guī)定的垂直位置。
根據(jù)上述本發(fā)明，如果一旦可以正確地測(cè)定噴出口的垂直位置，其后就不需要測(cè)定噴出口的垂直位置，所以可以省掉噴出口的清掃作業(yè)。
根據(jù)上述本發(fā)明，因?yàn)樾Ｕ幚砼c基板處理裝置的動(dòng)作開(kāi)始同步進(jìn)行，所以可以消除每次基板處理裝置的動(dòng)作開(kāi)始時(shí)垂直位置的測(cè)定值的精度低下。
根據(jù)上述本發(fā)明，因?yàn)槊拷?jīng)過(guò)基板處理裝置中規(guī)定枚數(shù)的基板處理或者經(jīng)過(guò)規(guī)定的時(shí)間就執(zhí)行校正處理，所以可以每經(jīng)過(guò)基板處理裝置中規(guī)定枚數(shù)的基板處理或者經(jīng)過(guò)規(guī)定的時(shí)間消除垂直位置的測(cè)定值的精度低下。
根據(jù)上述本發(fā)明，因?yàn)椴恍枰O(shè)置測(cè)定噴嘴的垂直位置的絕對(duì)值用的測(cè)定構(gòu)件，所以可以簡(jiǎn)化基板處理裝置的結(jié)構(gòu)。
根據(jù)上述本發(fā)明，因?yàn)橥ㄟ^(guò)一個(gè)測(cè)定裝置就可以測(cè)定噴出口以及測(cè)定部位的垂直位置，所以可以簡(jiǎn)化基板處理裝置的結(jié)構(gòu)。


圖1是表示本發(fā)明實(shí)施形式的基板處理裝置1的概況的立體圖。
圖2是從上方所見(jiàn)基板處理裝置1的主體2的俯視圖。
圖3是基板處理裝置1的主體2的主視圖。
圖4是基板處理裝置1的主體2的側(cè)視圖。
圖5是細(xì)縫噴嘴41的側(cè)視圖。
圖6是從上方所見(jiàn)升降機(jī)構(gòu)44的俯視圖。
圖7是升降機(jī)構(gòu)44的主視圖。
圖8是移動(dòng)機(jī)構(gòu)70的YZ面內(nèi)的截面圖。
圖9是從側(cè)面所見(jiàn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70的側(cè)視圖。
圖10是表示線性量規(guī)81(82)的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
圖11是表示涉及細(xì)縫噴嘴41的升降以及水平移動(dòng)的控制的控制部6的功能結(jié)構(gòu)的框圖。
圖12是表示基板處理裝置1的操作人員的作業(yè)順序的圖。
圖13是表示校正時(shí)的線性量規(guī)81(82)的狀態(tài)的側(cè)視圖。
圖14是表示初始校正的動(dòng)作流程的流程圖。
圖15是從側(cè)面所見(jiàn)執(zhí)行初始校正時(shí)的、線性量規(guī)以及細(xì)縫噴嘴的側(cè)視圖。
圖16是表示每次校正的動(dòng)作流程的流程圖。
圖17是從側(cè)面所見(jiàn)執(zhí)行每次校正時(shí)的、線性量規(guī)以及細(xì)縫噴嘴的側(cè)視圖。
圖18是表示自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)的動(dòng)作流程的流程圖。
具體實(shí)施例方式
<1.基板處理裝置的結(jié)構(gòu)>
圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式的基板處理裝置1的概況的立體圖。
圖2是從上方所見(jiàn)包含主體2和控制部6而構(gòu)成的基板處理裝置1的主體2的俯視圖。圖3以及圖4分別是主體2的主視圖以及側(cè)視圖。
基板處理裝置1是向成為處理對(duì)象的基板90的表面90s上涂敷處理液(藥液)的處理液涂敷裝置。在基板處理裝置1中，基板90例如是液晶面板用玻璃基板所代表的平板顯示器用基板、液晶薄膜用柔性基板、光掩模用基板、濾色器用基板、熱敏磁頭用陶瓷基板、半導(dǎo)體晶片等，處理液例如是光致抗蝕劑液(下面簡(jiǎn)稱為“抗蝕劑液”)。另外，在下面，以基板90為作為構(gòu)成液晶顯示裝置的液晶面板的構(gòu)件的方形液晶面板用玻璃基板，處理液是為了有選擇地蝕刻在基板90的表面90s上形成的電極層的圖形的形成中使用的抗蝕劑液而進(jìn)行說(shuō)明?；逄幚硌b置1通過(guò)從細(xì)縫噴嘴41對(duì)基板90噴出抗蝕劑液，從而成為在基板90表面90s上涂敷抗蝕劑液的細(xì)縫式涂敷機(jī)。
<1.1主體的結(jié)構(gòu)>
如圖1～4所示，主體2具有在保持基板90的同時(shí)成為所附屬的各機(jī)構(gòu)的基座的載物臺(tái)3；向基板90噴出抗蝕劑液的橋架結(jié)構(gòu)4。橋架結(jié)構(gòu)4通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70，71而可在載物臺(tái)3上沿水平前后方向(X方向)水平移動(dòng)。
○載物臺(tái)；載物臺(tái)3由長(zhǎng)方形形狀的整體的石塊構(gòu)成，其上面以及側(cè)面被加工為平坦的狀態(tài)。
載物臺(tái)3的上表面是水平面，有作為基板90的保持面30的功能。在保持面30上分布形成著多個(gè)真空吸附口。在基板處理裝置1中，進(jìn)行基板90的處理的期間，通過(guò)使用該真空吸附口的真空吸附，使基板90保持在保持區(qū)域91。
○橋架結(jié)構(gòu)；從載物臺(tái)3的左右兩端大致水平地架設(shè)的橋架結(jié)構(gòu)4，主要由支撐細(xì)縫噴嘴41的噴嘴支撐部40、在載物臺(tái)3的上方支撐噴嘴支撐部40兩端的升降機(jī)構(gòu)43、44構(gòu)成。噴嘴支撐部40通過(guò)升降機(jī)構(gòu)43、44，在載物臺(tái)3的上方以大致水平且可升降的方式被保持著，其縱向成為基板處理裝置1的水平左右方向(Y方向)。噴嘴支撐部40通過(guò)使用鋁壓鑄件材料作為骨材，來(lái)保持強(qiáng)度并且實(shí)現(xiàn)輕型化。這樣，可以減少使橋架結(jié)構(gòu)4移動(dòng)所需要的驅(qū)動(dòng)力，可使用驅(qū)動(dòng)力小的馬達(dá)移動(dòng)橋架結(jié)構(gòu)4。
如圖3所示，在噴嘴支撐部40安裝有細(xì)縫噴嘴41。向水平左右方向延伸的細(xì)縫噴嘴41，如圖5的側(cè)視圖所示那樣，具有使噴出部41b從主體部41a向下方、即向基板90的方向突出的結(jié)構(gòu)。此外，在噴出部41b的前端的噴出口41c上連接著含有供給抗蝕劑液的配管和抗蝕劑用泵的噴出機(jī)構(gòu)(未圖示)。這樣，在基板處理裝置1中，可以從噴出口41c向基板90噴出抗蝕劑。細(xì)縫噴嘴41具有足夠的剛性，從主體部41a所見(jiàn)噴出口41c的相對(duì)位置不會(huì)因細(xì)縫噴嘴41的變形而發(fā)生變化。
如上所述，升降機(jī)構(gòu)43、44，在載物臺(tái)3的上方以可升降的方式支撐著噴嘴支撐部40的兩端，使噴嘴支撐部40向著與保持面30或基板90相垂直的垂直方向(Z方向)升降。因?yàn)樵趪娮熘尾?0安裝有細(xì)縫噴嘴41，升降機(jī)構(gòu)43、44通過(guò)使細(xì)縫噴嘴41沿著與基板90相垂直的方向移動(dòng)，成為使噴出部41c與基板90的表面90s的距離發(fā)生變化的裝置。升降機(jī)構(gòu)43、44，在使細(xì)縫噴嘴41同步升降的同時(shí)，還可以用于調(diào)整細(xì)縫噴嘴41在YZ平面內(nèi)的姿態(tài)。
接下來(lái)說(shuō)明升降機(jī)構(gòu)43、44的詳細(xì)情況，因?yàn)樯禉C(jī)構(gòu)43、44具有幾乎相同的結(jié)構(gòu)，所以下面參照?qǐng)D6以及圖7說(shuō)明升降機(jī)構(gòu)44，而省略針對(duì)升降機(jī)構(gòu)43的重復(fù)說(shuō)明。在這里，圖6以及圖7是表示升降機(jī)構(gòu)44的詳細(xì)情況的圖，圖6相當(dāng)于從上方所見(jiàn)升降機(jī)構(gòu)44的俯視圖，圖7相當(dāng)于升降機(jī)構(gòu)44的主視圖。
如圖6以及7所示，升降機(jī)構(gòu)44具有AC伺服馬達(dá)(下面也簡(jiǎn)稱為“伺服馬達(dá)”)440、滾珠絲杠441以及旋轉(zhuǎn)編碼器442。升降機(jī)構(gòu)44具備圖中未示的結(jié)合構(gòu)件，伺服馬達(dá)440和旋轉(zhuǎn)編碼器442等各結(jié)構(gòu)安裝在該結(jié)合構(gòu)件上，被支撐在規(guī)定的位置。
噴嘴支撐部40的產(chǎn)生升降驅(qū)動(dòng)力的伺服馬達(dá)440是對(duì)應(yīng)于從控制部6提供的控制信號(hào)而使旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)，通過(guò)該控制信號(hào)，可以控制旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)角度以及旋轉(zhuǎn)方向。
滾珠絲杠441，在上端與伺服馬達(dá)440的旋轉(zhuǎn)軸相接，能夠以中心軸Q為中心而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。滾珠絲杠441，被螺入到噴嘴支撐部40端部的安裝孔40h中。因?yàn)樵诎惭b孔40h的內(nèi)表面形成有內(nèi)螺紋構(gòu)造，通過(guò)滾珠絲杠441接受從伺服馬達(dá)440傳遞來(lái)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力而旋轉(zhuǎn)，可以使噴嘴支撐部40(細(xì)縫噴嘴41)在垂直方向上升降。
在伺服馬達(dá)440的上部設(shè)置的旋轉(zhuǎn)編碼器442，檢測(cè)出伺服馬達(dá)440的旋轉(zhuǎn)軸的軸位置，將與軸位置對(duì)應(yīng)的位置地址AR向控制部6傳遞。另外，基于升降機(jī)構(gòu)44的噴嘴支撐部40的垂直方向的移動(dòng)量(升降距離)由滾珠絲杠441的旋轉(zhuǎn)角(伺服馬達(dá)440的旋轉(zhuǎn)角)決定。因此，在基板處理裝置1中，因?yàn)閺男D(zhuǎn)編碼器442傳遞來(lái)的位置地址AR的變化量和噴嘴支撐部40的垂直方向的移動(dòng)量對(duì)應(yīng)為1∶1，通過(guò)控制位置地址AR的變化量，可以控制噴嘴支撐部40的垂直方向的移動(dòng)量。
○移動(dòng)機(jī)構(gòu)；如上所述，橋架結(jié)構(gòu)4可以向著基板處理裝置1的水平前后方向做水平移動(dòng)。下面說(shuō)明實(shí)現(xiàn)橋架結(jié)構(gòu)4的該水平移動(dòng)用的移動(dòng)機(jī)構(gòu)70、71。
移動(dòng)機(jī)構(gòu)70、71分別具有移動(dòng)導(dǎo)軌72、73、支撐座74、75、AC線性伺服馬達(dá)(下面也簡(jiǎn)稱為“線性伺服馬達(dá)”)76、77、線性編碼器78、79。在這些構(gòu)成中，移動(dòng)導(dǎo)軌72、支撐座74、線性伺服馬達(dá)76以及線性編碼器78是使升降機(jī)構(gòu)43沿水平前后方向作水平移動(dòng)用的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，移動(dòng)導(dǎo)軌73、支撐座75、線性馬達(dá)77以及線性編碼器79是使升降機(jī)構(gòu)44沿水平前后方向作水平移動(dòng)用的移動(dòng)機(jī)構(gòu)。另外，由于前者與后者具有幾乎相同的結(jié)構(gòu)，所以下面參照?qǐng)D8以及圖9說(shuō)明前者，而省略針對(duì)后者的重復(fù)說(shuō)明。另外，圖8是移動(dòng)機(jī)構(gòu)70的YZ面內(nèi)的截面圖，圖9是從側(cè)方所見(jiàn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70的側(cè)視圖。
移動(dòng)導(dǎo)軌72固定設(shè)置在保持面30的端部上，其縱向是基板處理裝置1的水平前后方向。在基板處理裝置1中，通過(guò)移動(dòng)導(dǎo)軌72和固定設(shè)置在升降機(jī)構(gòu)43下端的支撐座74，實(shí)現(xiàn)了規(guī)定升降機(jī)構(gòu)43的移動(dòng)方向的直動(dòng)式導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。即，在基板處理裝置1中，通過(guò)支撐座74沿著移動(dòng)導(dǎo)軌72水平移動(dòng)，將升降機(jī)構(gòu)43的移動(dòng)方向規(guī)定為水平前后方向。
產(chǎn)生升降機(jī)構(gòu)43的水平移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力的線性馬達(dá)76，是對(duì)應(yīng)于從控制部6提供的控制信號(hào)而移動(dòng)件76b相對(duì)于固定件76a移動(dòng)的線性馬達(dá)，根據(jù)該控制信號(hào)可以控制移動(dòng)量以及移動(dòng)方向。在這里，固定件76a沿著固定設(shè)置在載物臺(tái)3的側(cè)面的升降機(jī)構(gòu)43的移動(dòng)方向延伸的同時(shí)，因?yàn)橐苿?dòng)件76b在固定設(shè)置在升降機(jī)構(gòu)43的下端部，所以若移動(dòng)件76b相對(duì)于固定件76a移動(dòng)，則升降機(jī)構(gòu)43在保持面30上沿水平前后方向作水平移動(dòng)。
線性編碼器78具備標(biāo)度部78a以及檢出件78b，檢測(cè)出相對(duì)于標(biāo)度部78a的檢出件78b的位置，將與檢出件78b的位置對(duì)應(yīng)的位置地址AL向控制部6傳遞。在這里，標(biāo)度部78a與固定件76a同時(shí)固定設(shè)置在載物臺(tái)3上，沿著升降機(jī)構(gòu)43的移動(dòng)方向延伸的同時(shí)，因?yàn)闄z出件78b固定設(shè)置在升降機(jī)構(gòu)43的下端部，所以從線性編碼器78傳遞來(lái)的位置地址AL就成為特定升降機(jī)構(gòu)43的水平前后方向的水平位置用的信息。
如上述那樣，在基板處理裝置1中，分別通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70、71可以使升降機(jī)構(gòu)43、44沿水平前后方向作水平移動(dòng)，因此，可以使包括有細(xì)縫噴嘴40的橋架結(jié)構(gòu)4整體沿著與保持面30或基板90平行的水平前后方向作水平移動(dòng)。進(jìn)而，細(xì)縫噴嘴40的水平前后方向的水平位置，是由從線性編碼器78、79向控制部6傳達(dá)的位置地址AL而特定的。
○線性量規(guī)載物臺(tái)3的前表面31上固定設(shè)置有線性量規(guī)81、82。線性量規(guī)81、82是測(cè)定與基板90垂直的垂直方向上的測(cè)定對(duì)象的垂直位置用的構(gòu)件。下面參照?qǐng)D10的放大圖(側(cè)視圖)說(shuō)明線性量規(guī)81(82)的結(jié)構(gòu)。
線性量規(guī)81(82)具備在垂直方向上可彈性上下動(dòng)作的測(cè)定件811(821)。測(cè)定件811(821)，當(dāng)向下方被施加力時(shí)，以可反彈的方式被按下，即，測(cè)定件811(821)，當(dāng)向下方被施加力時(shí)，以可復(fù)原的方式被按入到固定設(shè)置在前表面31上的主體部812(822)內(nèi)。并且，線性量規(guī)81(82)以檢測(cè)出測(cè)定件811(821)的按下量并將檢出結(jié)果輸出到控制部6的方式而構(gòu)成。因此，若成為使測(cè)定對(duì)象與線性量規(guī)81(82)的測(cè)定件811(821)的前端相接觸的狀態(tài)，則在控制部6，可以導(dǎo)出垂直方向上的該測(cè)定對(duì)象的垂直位置。
在基板處理裝置1中，因?yàn)橐?1)不加力的狀態(tài)的測(cè)定件811(821)的前端813(823)的垂直位置處于保持面30的上方的同時(shí)(參照?qǐng)D10(a))，(2)測(cè)定件811(821)的按下量達(dá)到檢出可能的上限時(shí)的前端813(823)的垂直位置處于保持面30的下方的方式(參照?qǐng)D10(b))，將線性量規(guī)81(82)安裝在載物臺(tái)3的前表面31上，所以通過(guò)線性量規(guī)81(82)，可以在包含保持面30的規(guī)定范圍內(nèi)對(duì)測(cè)定對(duì)象的垂直位置進(jìn)行測(cè)定。
此外，線性量規(guī)81的測(cè)定值，在前端813(823)處于保持面30時(shí)，被校正為“0”，即，線性量規(guī)的測(cè)定值是以保持面30為基準(zhǔn)的保持面30與測(cè)定對(duì)象的距離，或者也可以是以保持面30為基準(zhǔn)的測(cè)定對(duì)象的高度。
<1.2控制部的結(jié)構(gòu)>
如圖1所示，由微型計(jì)算機(jī)構(gòu)成的控制部6具備存儲(chǔ)程序和數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)部60和按照程序進(jìn)行處理的運(yùn)算部61。存儲(chǔ)部60例如是可暫時(shí)存儲(chǔ)的RAM、只讀的ROM以及磁盤裝置等，但也可通過(guò)便攜式光磁盤或存儲(chǔ)卡等存儲(chǔ)介質(zhì)及其讀取裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)。
此外，在控制部6的筐體前表面設(shè)置有操作者對(duì)基板處理裝置1輸入指示用的操作部62和進(jìn)行各種顯示用的顯示部63。操作部62例如是各種開(kāi)關(guān)(包括鍵盤和鼠標(biāo)等)，也可以像觸摸式顯示器那樣，是兼具有顯示部6的功能的裝置。顯示部63例如由液晶顯示器或各種燈來(lái)實(shí)現(xiàn)。
控制部6，通過(guò)未圖示的電纜或I/O接口，與主體2的各構(gòu)成相連接，基于從操作部62輸入的指示或從主體2的各構(gòu)成傳來(lái)的信號(hào)，進(jìn)行升降機(jī)構(gòu)43、44等的基板處理裝置1的各部分的綜合控制。
接下來(lái)說(shuō)明控制部6的功能的構(gòu)成。圖11是表示細(xì)縫噴嘴41的升降以及水平移動(dòng)的控制所涉及的控制部6的功能的構(gòu)成的框圖。圖11中的線性量規(guī)控制部601、移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602、升降機(jī)構(gòu)控制部603、初始校正控制部604、每次校正控制部605以及涂敷控制部606是通過(guò)控制部6利用I/O接口等各種硬件執(zhí)行控制程序而實(shí)現(xiàn)的功能的功能塊。另外，升降機(jī)構(gòu)43、移動(dòng)機(jī)構(gòu)70以及線性量規(guī)81沒(méi)有在圖11中表示出來(lái)，但控制部6對(duì)它們也進(jìn)行與升降機(jī)構(gòu)44、移動(dòng)機(jī)構(gòu)71以及線性量規(guī)82同樣的控制。
圖11中，線性量規(guī)控制部601根據(jù)由線性量規(guī)82傳來(lái)的檢出結(jié)果導(dǎo)出測(cè)定對(duì)象的垂直位置。
移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602在取得從線性編碼器79傳來(lái)的位置地址AL的同時(shí)，向線性伺服馬達(dá)77輸出控制信號(hào)。進(jìn)而，移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602通過(guò)監(jiān)視位置地址AL的同時(shí)向線性伺服馬達(dá)77輸出控制信號(hào)，從而使噴出口41c向任意的水平位置移動(dòng)。
升降機(jī)構(gòu)控制部603在取得從旋轉(zhuǎn)編碼器442傳來(lái)的位置地址AR的同時(shí)，向伺服馬達(dá)440輸出控制信號(hào)。進(jìn)而，升降機(jī)構(gòu)控制部603通過(guò)監(jiān)視位置地址AR的同時(shí)向伺服馬達(dá)440輸出控制信號(hào)，從而使噴出口41c向任意的垂直位置移動(dòng)。
初始校正控制部604進(jìn)行在噴出口41c上沒(méi)有附著處理液的狀態(tài)下進(jìn)行的初始校正的綜合控制。更具體而言，初始校正控制部604測(cè)定噴出口41c的垂直位置與保持面30一致時(shí)的(垂直位置的測(cè)定值是“0”時(shí)的)、在細(xì)縫噴嘴41的主體部41a上定義的測(cè)定部位P(參照?qǐng)D5)的垂直位置H0，并作為初始垂直位置存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部60中。另外，下面將實(shí)現(xiàn)噴出口41c的垂直位置與保持面30一致的狀態(tài)的情況稱為“原點(diǎn)找正”。
在本實(shí)施形式中，如圖3以及圖5所示，在主體部41a的平滑的下表面，線性量規(guī)81(82)的測(cè)定時(shí)與噴出部41b不發(fā)生干涉的部位，被選擇為測(cè)定垂直位置用的測(cè)定部位P(P’)。該測(cè)定部位P(P’)的選擇僅是一個(gè)例子而已，只要是細(xì)縫噴嘴41的升降以及水平移動(dòng)時(shí)與噴出口41c的相對(duì)位置沒(méi)有變化、線性量規(guī)81(82)的測(cè)定時(shí)與噴出部41b不發(fā)生干涉的部位，可以選擇其為測(cè)定部位P(P′)。另外，在本實(shí)施形式中，不需要以使噴出口41c以及測(cè)定部位P(P’)的垂直位置一致的方式制作細(xì)縫噴嘴41。因此，可以容易地制作本實(shí)施形式的細(xì)縫噴嘴41。
每次校正控制部605進(jìn)行每次將基板處理裝置1接通電源等時(shí)進(jìn)行的每次校正的綜合控制。每次校正控制部605讀出在存儲(chǔ)部60存儲(chǔ)的初始垂直位置H0，通過(guò)由升降機(jī)構(gòu)43，44使細(xì)縫噴嘴41移動(dòng)，直到測(cè)定部位P的垂直位置的測(cè)定結(jié)果和存儲(chǔ)部60所存儲(chǔ)的初始垂直位置H0一致為止，從而使噴出口41c移動(dòng)到與保持面30一致的原點(diǎn)。即，每次校正控制部605不測(cè)定噴出口41c的垂直位置而執(zhí)行原點(diǎn)找正。因此，每次校正中，即使噴出口41c上附著了處理液，也可以使噴出口41c正確地移動(dòng)到原點(diǎn)。進(jìn)而，每次校正控制部605，經(jīng)由升降機(jī)構(gòu)控制部603取得原點(diǎn)找正結(jié)束時(shí)的位置地址AR，作為基準(zhǔn)位置地址AR1而存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部60中。
涂敷控制部606，在向基板90的表面90s涂敷抗蝕劑液的過(guò)程中，控制升降機(jī)構(gòu)44，使得噴出口41c與基板90的表面90s的距離成為適當(dāng)?shù)奈恢谩Ｔ摽刂剖抢贸跏夹Ｕ约懊看涡Ｕ龝r(shí)噴出口41c以及測(cè)定部位P(P’)的垂直位置的測(cè)定結(jié)果而進(jìn)行的。
<2.操作人員的操作順序>
參照?qǐng)D12的流程圖說(shuō)明基板處理裝置1的操作人員的操作順序。
最初，操作人員判斷是否需要進(jìn)行線性量規(guī)81、82的校正(步驟S1)。在需要線性量規(guī)81，82的校正時(shí)，操作人員在進(jìn)行了線性量規(guī)81、82的校正(步驟S2)后轉(zhuǎn)移到進(jìn)行是否需要初始校正的判斷(步驟S3)。另一方面，在不需要做線性量規(guī)81、82的校正時(shí)，操作人員不進(jìn)行線性量規(guī)81、82的校正，直接轉(zhuǎn)移到進(jìn)行是否需要初始校正的判斷(步驟S3)。
接下來(lái)，操作人員判斷是否需要初始校正(步驟S3)。在需要初始校正時(shí)，操作人員清掃噴出口41c(步驟S4)，在對(duì)基板處理裝置1執(zhí)行初始校正之后(步驟S5)，使基板處理裝置1轉(zhuǎn)移到自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)(步驟S6)。另一方而，在不需要初始校正時(shí)，操作人員使基板處理裝置1轉(zhuǎn)移到自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)(步驟S6)。
另外，初始校正，在基板處理裝置1的初次運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)等中，初始垂直位置H0沒(méi)有存儲(chǔ)到存儲(chǔ)部60時(shí)，或者細(xì)縫噴嘴41的更換作業(yè)后等存儲(chǔ)到存儲(chǔ)部60內(nèi)的初始垂直位置H0不是合適的值的情況下需要執(zhí)行。此外，在自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)中，因?yàn)橐看涡Ｕ?，所以不需要清掃噴出?1c。
○線性量規(guī)的校正；接下來(lái)，參照?qǐng)D13說(shuō)明線性量規(guī)81(82)的校正作業(yè)。圖13是表示校正時(shí)的線性量規(guī)81(82)狀態(tài)的放大圖(側(cè)視圖)。
線性量規(guī)81(82)，在初始校正前，當(dāng)測(cè)定件811(821)的前端813(823)處于與保持面30相同的垂直位置時(shí)，將測(cè)定值校正為“0”(或者規(guī)定值)。另外，當(dāng)測(cè)定件811(821)的前端813(823)處于與保持面30不同的規(guī)定的垂直位置時(shí)，也不會(huì)妨礙將測(cè)定結(jié)果校正成為規(guī)定值。
具體來(lái)說(shuō)，在線性量規(guī)81(82)的校正過(guò)程中，操作人員在將具有平坦表面PL的板狀的校正器(校正工具)83安置到保持面30上的同時(shí)，用校正器83將從保持面30向上方突出的測(cè)定件811(821)向下方按下。在這里，與保持面30接觸的面、即將按下測(cè)定件811的面作為平坦面PL，則在平坦面PL與保持面30成為貼合狀態(tài)時(shí)，前端813的高度與保持面30為相同的高度。并且，維持這個(gè)狀態(tài)不變，通過(guò)將線性量規(guī)81(82)的測(cè)定值調(diào)整為“0”，完成線性量規(guī)81(82)的校正。
<3.基板處理裝置的動(dòng)作>
下面說(shuō)明基板處理裝置1的動(dòng)作，在說(shuō)明中，首先說(shuō)明初始校正以及每次校正的動(dòng)作流程，然后說(shuō)明自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)的動(dòng)作流程。
○初始校正；參照?qǐng)D14以及圖15說(shuō)明進(jìn)行初始校正時(shí)的基板處理裝置1的動(dòng)作。圖14是表示初始校正的動(dòng)作流程的流程圖，圖15是從側(cè)面所見(jiàn)進(jìn)行初始校正時(shí)的線性量規(guī)81(82)以及細(xì)縫噴嘴41的側(cè)視圖。另外，由于噴出口41c的清掃在初始校正前進(jìn)行(參照?qǐng)D12)，在初始校正時(shí)，噴出口41c處于由線性量規(guī)81，82可正確測(cè)定的狀態(tài)。
當(dāng)初始校正開(kāi)始時(shí)，初始校正控制部604經(jīng)由移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602，使細(xì)縫噴嘴41水平移動(dòng)，從而使得噴出口41c位于線性量規(guī)81(82)的上方。即，使噴出口41c的水平位置以及線性量規(guī)81(82)的水平位置一致(圖15(a))(步驟S101)。接下來(lái)，初始校正控制部604進(jìn)行噴出口41c的原點(diǎn)找正(步驟S102)。更具體而言，初始校正控制部604經(jīng)由線性量規(guī)控制部601以及升降機(jī)構(gòu)控制部603，在監(jiān)視噴出口41c的垂直位置的同時(shí)，使細(xì)縫噴嘴41下降(圖15(b))，當(dāng)噴出口41c的垂直位置的測(cè)定值為“0”時(shí)，使細(xì)縫噴嘴41的下降停止(圖15(c))。
初始校正控制部604進(jìn)而經(jīng)由移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602，使細(xì)縫噴嘴41水平移動(dòng)，使得完成了原點(diǎn)找正的細(xì)縫噴嘴41的測(cè)定部位P(P’)處于線性量規(guī)81(82)的上方。即，使測(cè)定部位P(P’)以及線性量規(guī)81(82)的水平位置一致(圖15(d))(步驟S103)。此時(shí)，為了防止噴出口41c因線性量規(guī)81(82)而受損，也可以在水平移動(dòng)前使細(xì)縫噴嘴41暫時(shí)退避到上方，在水平移動(dòng)后使細(xì)縫噴嘴41返回到水平移動(dòng)前的垂直位置。即，這里的水平移動(dòng)只要是在移動(dòng)前和移動(dòng)后，噴出口41c的垂直位置沒(méi)有變化就可以，并不限定中途的移動(dòng)路線。
水平移動(dòng)結(jié)束后，初始校正控制部604經(jīng)由線性量規(guī)控制部601，取得測(cè)定部位P(P’)的垂直位置，作為初期垂直位置H0而存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部60中。
另外，過(guò)去的初始校正時(shí)的初始垂直位置H0已經(jīng)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部60中時(shí)，由新得到的初始垂直位置H0，更新原來(lái)的初始垂直位置H0。由此，噴出口41c的垂直位置的測(cè)定值為“0”時(shí)，可以得到測(cè)定部位P(P’)的垂直位置H0。
另外，初始校正中，通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70、71使細(xì)縫噴嘴41水平移動(dòng)，可以在噴出口41c和測(cè)定部位P(P’)之間切換線性量規(guī)81(82)的測(cè)定對(duì)象。由此，用一個(gè)線性量規(guī)，就可以測(cè)定噴出口41c以及測(cè)定部位P(P’)的垂直位置，因而可以簡(jiǎn)化基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)。
○每次校正；下面參照?qǐng)D16以及圖17說(shuō)明進(jìn)行每次校正時(shí)的基板處理裝置1的動(dòng)作。圖16是表示每次校正的動(dòng)作流程的流程圖，圖17是從側(cè)面所見(jiàn)進(jìn)行每次校正時(shí)的線性量規(guī)81(82)以及細(xì)縫噴嘴41的側(cè)視圖。
當(dāng)每次校正開(kāi)始時(shí)，每次校正控制部605經(jīng)由移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602，使細(xì)縫噴嘴41水平移動(dòng)，使得測(cè)定部位P(P’)處于線性量規(guī)81(82)的上方，即，使測(cè)定部位P(P’)的水平位置以及線性量規(guī)81(82)的水平位置一致(圖17(a))(步驟S201)。接下來(lái)，每次校正控制部605進(jìn)行噴出口41c的原點(diǎn)找正(步驟S202)。更具體而言，經(jīng)由線性量規(guī)控制部601以及升降機(jī)構(gòu)控制部603，在監(jiān)視測(cè)定部位P的垂直位置的同時(shí)，使細(xì)縫噴嘴41下降(圖17(b))，在測(cè)定部位P的垂直位置與存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部60中的初始垂直位置H0一致時(shí)，使細(xì)縫噴嘴41的下降停止(圖17(c))。此原點(diǎn)找正中，與初始校正不同，因?yàn)闆](méi)有進(jìn)行噴出口41c的測(cè)定，所以每次校正的原點(diǎn)找正即使是在噴出口41c上附著有處理液的狀態(tài)下也可以進(jìn)行。
接下來(lái)，每次校正控制部605經(jīng)由升降機(jī)構(gòu)控制部603取得完成了原點(diǎn)找正時(shí)的位置地址AR，作為基準(zhǔn)位置地址AR，存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部60中(步驟S203)。
○基板處理裝置的自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)；接下來(lái)參照?qǐng)D18的流程圖說(shuō)明進(jìn)行自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的基板處理裝置1的動(dòng)作流程。
當(dāng)基板處理裝置1開(kāi)始自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，最初，通過(guò)每次校正控制部605，執(zhí)行先前所述的每次校正，進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41的原點(diǎn)找正(步驟S301)。
每次校正結(jié)束后，通過(guò)沒(méi)有圖示的運(yùn)送機(jī)構(gòu)，將作為處理對(duì)象的基板90搬入到保持面30的保持區(qū)域91中，在保持區(qū)域91進(jìn)行真空吸附(步驟S302)。
接下來(lái)，通過(guò)涂敷控制部606進(jìn)行對(duì)表面90s的抗蝕劑的涂敷處理(步驟S304)。涂敷控制部606，在進(jìn)行抗蝕劑的涂敷過(guò)程中，根據(jù)由操作人員等向控制部6作為數(shù)據(jù)而輸入的基板90的厚度T、和可以適當(dāng)進(jìn)行抗蝕劑涂敷的間隔G(例如50μm～300μm，典型的是150μm～200μm)，計(jì)算出噴出口41c和保持面30的距離T+G的同時(shí)，從存儲(chǔ)部60讀出基準(zhǔn)位置地址AR1，基于式1，計(jì)算出在抗蝕劑涂敷中應(yīng)維持的旋轉(zhuǎn)編碼器442的位置地址AR2。在這里，常數(shù)k是位置地址AR的單位變化的細(xì)縫噴嘴41的升降量，預(yù)先通過(guò)實(shí)驗(yàn)或者理論而確定。
式1AR2=AR1+1K(T+G)]]>......式1然后，涂敷控制部606通過(guò)經(jīng)由移動(dòng)機(jī)構(gòu)控制部602控制移動(dòng)機(jī)構(gòu)70、71，在抗蝕劑涂敷區(qū)域上使細(xì)縫噴嘴41c沿水平前后方向移動(dòng)的同時(shí)，將計(jì)算出的位置地址AR2提供給升降機(jī)構(gòu)控制部603，在升降機(jī)構(gòu)控制部603，以實(shí)現(xiàn)位置地址AR2的方式向伺服馬達(dá)440輸出控制信號(hào)。由此，將噴出口41c和保持面30間的距離維持在T+G，將保持噴出口41c和表面90之間的間隔維持在一定的狀態(tài)。
完成了抗蝕劑涂敷的基板90通過(guò)運(yùn)送機(jī)構(gòu)而被運(yùn)出到下一個(gè)處理工序(步驟S305)。
接下來(lái)，在基板處理裝置1，根據(jù)上次的每次校正轉(zhuǎn)移的處理基板數(shù)是否達(dá)到規(guī)定數(shù)(例如100)而進(jìn)行分支處理(步驟S306)。而在處理基板數(shù)達(dá)到規(guī)定數(shù)時(shí)，返回步驟S1，再次進(jìn)行每次校正。另一方面，處理基板數(shù)未達(dá)到規(guī)定數(shù)時(shí)，返回步驟S3，開(kāi)始新的基板的處理。
通過(guò)這樣的動(dòng)作，在基板處理裝置中，按每次進(jìn)行規(guī)定數(shù)的基板處理進(jìn)行每次校正。
另外，在步驟S306中，也可以不是根據(jù)上次的每次校正轉(zhuǎn)移后的處理基板數(shù)，而是根據(jù)上次的每次校正起的經(jīng)過(guò)時(shí)間是否達(dá)到規(guī)定時(shí)間來(lái)進(jìn)行分支處理，達(dá)到規(guī)定時(shí)間時(shí)，返回步驟S301，未達(dá)到規(guī)定時(shí)間時(shí)，返回步驟S302。因此，按每次進(jìn)行規(guī)定數(shù)的基板處理，或者每次經(jīng)過(guò)規(guī)定的時(shí)間，消除噴出部41的垂直位置的控制的精度低下。由此，可以正確地維持噴出口41c與表面90s間的距離。
如上所述，作為涂敷控制部606進(jìn)行控制的基礎(chǔ)的基準(zhǔn)位置地址AR1是利用初始校正時(shí)的噴出口41c以及測(cè)定部位P(P’)的垂直位置的測(cè)定值和每次校正時(shí)的測(cè)定部位P(P’)的垂直位置的測(cè)定值來(lái)確定的，因此，涂敷控制部606以及升降機(jī)構(gòu)控制部603結(jié)果是利用這些測(cè)定值，控制升降機(jī)構(gòu)43、44。即，基板處理裝置1中，利用初始校正時(shí)的噴出口41c以及測(cè)定部位P(P’)的垂直位置的測(cè)定值、和每次校正時(shí)的測(cè)定部位P(P’)的垂直位置的測(cè)定值進(jìn)行原點(diǎn)找正，通過(guò)根據(jù)位置地址AR的變化量控制從原點(diǎn)開(kāi)始的垂直位置的變化量，從而控制噴出口41c與表面90s間的距離。因?yàn)橥ㄟ^(guò)進(jìn)行基于這樣的移動(dòng)量、即相對(duì)值的控制，不需要設(shè)置測(cè)定細(xì)縫噴嘴41的垂直位置的絕對(duì)值用的測(cè)定構(gòu)件，所以可簡(jiǎn)化基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)。
此外，本實(shí)施形式中，只要可以僅一次正確測(cè)定初始校正時(shí)噴出口41c的垂直位置，以后就可以正確地控制噴出口41c與表面90s間的距離，同時(shí)不需要正確測(cè)定噴出口41c的垂直位置，可以省掉噴出口41c的清掃作業(yè)。由此，基板處理裝置1的自動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)就變得容易了。
<變形例>
上述的實(shí)施形式中，雖然表示了基板90被固定、細(xì)縫噴嘴41向與基板90垂直的方向移動(dòng)的例子，但是固定細(xì)縫噴嘴41，移動(dòng)基板90也是可以的。只要是相對(duì)于基板90的細(xì)縫噴嘴41的移動(dòng)是相對(duì)的就可以。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，具有測(cè)定裝置，其測(cè)定作為與成為處理對(duì)象的基板垂直的方向上的位置的垂直位置；噴嘴，其具有對(duì)上述基板噴出處理液的噴出口，測(cè)定垂直位置用的測(cè)定部位被定義在上述噴出口以外；垂直移動(dòng)裝置，其使上述噴嘴沿著與上述基板垂直的方向移動(dòng)；控制裝置，其控制上述垂直移動(dòng)裝置，上述控制裝置利用上述噴出口以及上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果，控制上述垂直移動(dòng)裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有存儲(chǔ)裝置，該存儲(chǔ)裝置存儲(chǔ)上述噴出口的垂直位置為規(guī)定的垂直位置時(shí)的、上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果，上述控制裝置通過(guò)上述垂直移動(dòng)裝置使上述噴嘴移動(dòng)，直到上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果和存儲(chǔ)在上述存儲(chǔ)裝置中的測(cè)定結(jié)果一致，從而執(zhí)行使上述噴出口向規(guī)定的垂直位置移動(dòng)的校正處理。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，存儲(chǔ)在上述存儲(chǔ)裝置中的測(cè)定結(jié)果是上述噴出口的垂直位置的測(cè)定結(jié)果為規(guī)定的測(cè)定結(jié)果時(shí)的上述測(cè)定部位的垂直位置的測(cè)定結(jié)果。
4.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，與上述基板處理裝置的動(dòng)作開(kāi)始同步而執(zhí)行上述校正處理。
5.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，每經(jīng)過(guò)上述基板處理裝置的規(guī)定個(gè)數(shù)的基板的處理或者經(jīng)過(guò)規(guī)定時(shí)間就執(zhí)行上述校正處理。
6.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述控制裝置通過(guò)上述垂直移動(dòng)裝置控制上述噴嘴的垂直位置的移動(dòng)量，從而控制上述基板和上述噴出口的距離。
7.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有水平移動(dòng)裝置，該水平移動(dòng)裝置使上述噴嘴沿與上述基板平行的方向移動(dòng)，通過(guò)上述水平移動(dòng)裝置使上述噴嘴沿與上述基板平行的方向移動(dòng)，在上述噴出口與上述測(cè)定部位之間切換上述測(cè)定裝置的測(cè)定對(duì)象。
8.一種基板處理方法，通過(guò)從具有噴出口的噴嘴對(duì)基板噴出處理液而處理上述基板，其特征在于，包括測(cè)定與上述基板垂直的方向上的上述噴出口的垂直位置的第一測(cè)定工序；測(cè)定在上述噴出口以外被定義的上述噴嘴的測(cè)定部位的垂直位置的第二測(cè)定工序；利用上述第一測(cè)定工序以及上述第二測(cè)定工序的測(cè)定結(jié)果，使上述噴嘴沿與上述基板垂直的方向移動(dòng)的垂直移動(dòng)工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，在可以正確控制噴出口與基板之間的距離的同時(shí)，噴嘴的制作也容易。在基板處理裝置(1)中，測(cè)定作為與成為處理對(duì)象的基板垂直的方向上的位置的垂直位置的線性量規(guī)(81、82)，測(cè)定向處理對(duì)象的基板噴出處理液的細(xì)縫噴嘴(41)的噴出口(41c)以及測(cè)定部位(P，P’)的垂直位置，利用該垂直位置測(cè)定結(jié)果，通過(guò)使細(xì)縫噴嘴(41)沿與基板垂直的方向移動(dòng)的升降機(jī)構(gòu)(43、44)進(jìn)行細(xì)縫噴嘴(41)的升降控制。
文檔編號(hào)G03F7/16GK1757439SQ20051009992
公開(kāi)日2006年4月12日 申請(qǐng)日期2005年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月7日
發(fā)明者西岡賢太郎 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社