專(zhuān)利名稱(chēng)：：永久圖案形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種在使對(duì)應(yīng)圖像數(shù)據(jù)調(diào)制的光在感光層上成像從而對(duì)該感光層進(jìn)行曝光、含有封裝件(package)基板的印制電路布線(xiàn)基板領(lǐng)域或者半導(dǎo)體領(lǐng)域中可以有效地形成高精細(xì)的永久圖案(保護(hù)膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案)的永久圖案形成方法。
背景技術(shù)：
：使空間光調(diào)制元件等調(diào)制的光通過(guò)成像光學(xué)系，使該光所成的像在規(guī)定的感光層上成像，從而對(duì)該感光層進(jìn)行曝光的曝光裝置己被公知。該曝光裝置具備曝光頭，該曝光頭具備分別對(duì)應(yīng)控制信號(hào)調(diào)制已照射的光的多個(gè)描繪部被排列成二維狀而成的空間光調(diào)制元件，和向該空間光調(diào)制元件照射光的光源，和使利用該空間光調(diào)制元件調(diào)制的光所成的像在感光層上成像的成像光學(xué)系，通過(guò)使該曝光頭相對(duì)所述感光層的被曝光面上相對(duì)移動(dòng)并同時(shí)動(dòng)作，可以在所述感光層的被曝光面上形成需要的二維圖案(參照非專(zhuān)利文獻(xiàn)l及專(zhuān)利文獻(xiàn)l)。在所述曝光裝置的所述曝光頭中，作為空間光調(diào)制元件，在使用通常能夠獲得的大小的數(shù)字'微鏡'器件(digital，micromirror'device)(DMD)的情況下等，由于光源陣列的結(jié)構(gòu)等，難以用單一的曝光頭覆蓋(cover)足夠大小的曝光面積。所以，提出了并列使用多個(gè)所述曝光頭，并使該曝光頭相對(duì)掃描方向傾斜使用的方式的曝光裝置。例如，在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中記載了如下所述的曝光裝置使具有微鏡被配置成矩形格子狀的DMD的多個(gè)曝光頭相對(duì)掃描方向傾斜，在與掃描方向直行的方向，傾斜的DMD的兩側(cè)部的三角形狀的部分在相鄰的DMD間彼此補(bǔ)充，通過(guò)這樣的設(shè)定安裝各曝光頭。另外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)3中記載了如下所述的曝光裝置不使具有矩形格子狀的DMD的多個(gè)曝光頭相對(duì)掃描方向傾斜或只使其傾斜微小角度，在與掃描方向直行的方向，相鄰的DMD的曝光區(qū)域以規(guī)定寬度重合，通過(guò)這樣的設(shè)定，安裝各曝光頭，在相當(dāng)于各DMD的曝光區(qū)域間的重合部分的位置，以規(guī)定的比例使要驅(qū)動(dòng)的微鏡的數(shù)目漸減或漸增，從而使各DMD的曝光區(qū)域成為平行四邊形狀。但是，在使用多個(gè)所述曝光頭，使其相對(duì)掃描方向傾斜并進(jìn)行曝光的情況下，通常難以微調(diào)節(jié)所述曝光頭間的相對(duì)位置或相對(duì)安裝角度，存在略微偏離理想的相對(duì)位置及相對(duì)安裝角度的問(wèn)題。另一方面，為了提高析像度等，還提出了使用所述曝光頭時(shí)，使來(lái)自一個(gè)描繪部的光線(xiàn)的掃描線(xiàn)與來(lái)自另一個(gè)描繪部的光線(xiàn)的掃描線(xiàn)一致，從而實(shí)際上多次重復(fù)曝光所述感光層的被曝光面上的各點(diǎn)的多重曝光形式的曝光裝置。例如，在專(zhuān)利文獻(xiàn)4中記載了如下所述的曝光裝置為了提高在被曝光面上形成的二維圖案的析像度，從而可以表現(xiàn)含有光滑的斜線(xiàn)的圖案，使多個(gè)微鏡(描繪部)排列成二維狀的矩形的DMD相對(duì)掃描方向傾斜使用，來(lái)自相鄰的微鏡的曝光點(diǎn)(spot)在被曝光面上部分重合而成。另外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)5中記載了仍然通過(guò)相對(duì)掃描方向傾斜使用矩形的DMD，在被曝光面上重合曝光點(diǎn)，從而使改變總照明色度得到的彩色圖像(colorimage)的表現(xiàn)或微透鏡的部分缺陷等主要原因引起的成像誤差(imagingerror)的抑制成為可能的曝光裝置。但是，即使在進(jìn)行所述多重曝光的情況下，由于所述曝光頭的安裝角度偏離理想的設(shè)定傾斜角度，從而在將要曝光的所述感光層的被曝光面上的位置，曝光點(diǎn)的密度或排列與其他部分不同，在成像于所述感光層上的像的析像度或濃度中產(chǎn)生不均，進(jìn)而，形成的圖案的邊緣粗糙度(edgeroughness)變大。進(jìn)而，不僅所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離，而且所述描繪部與所述感光層的被曝光面之間的光學(xué)系的各種像差或所述描繪部自身的偏斜等引起產(chǎn)生的圖案偏斜也成為在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度或濃度中產(chǎn)生不均的原因。對(duì)于這些問(wèn)題，考慮了提高所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的調(diào)節(jié)精密度以及光學(xué)系的調(diào)節(jié)精密度等的方法，但如果追求精密度的提高，則制造成本會(huì)變得非常高。同樣的問(wèn)題不僅所述曝光裝置，而且在噴墨打印機(jī)等各種描繪裝置中也會(huì)產(chǎn)生。因而，目前尚未提供一種通過(guò)平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離以及所述描繪部與所述感光層的被曝光面之間的光學(xué)系的各種像差及所述描繪部自身的傾斜等引起的圖案偏斜導(dǎo)致的曝光量的不均的影響，減輕在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均，來(lái)高精細(xì)而且有效地形成保護(hù)膜、絕緣膜及阻焊劑圖案等永久圖案的永久圖案形成方法，需要進(jìn)一步的改良開(kāi)發(fā)。專(zhuān)利文獻(xiàn)l:特開(kāi)2004—1244號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2:特開(kāi)2004—9595號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3:特開(kāi)2003—195512號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)4:美國(guó)專(zhuān)利第6493867號(hào)說(shuō)明書(shū)專(zhuān)利文獻(xiàn)5:特表2001—500628號(hào)公報(bào)非專(zhuān)利文獻(xiàn)1:石川明人"無(wú)掩模曝光的開(kāi)發(fā)縮短和批量生產(chǎn)適用化"，"電子學(xué)(electronics)實(shí)裝技術(shù)"，株式會(huì)社技術(shù)調(diào)查會(huì)，Vo1.18，No.6，2002年，p.74—79
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明正是鑒于這種現(xiàn)狀而提出的，以解決以往的所述各問(wèn)題、實(shí)現(xiàn)以下目的為課題。即，本發(fā)明提供一種通過(guò)平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離以及所述描繪部與所述感光層的被曝光面之間的光學(xué)系的各種像差及所述描繪部自身的傾斜等引起的圖案偏斜導(dǎo)致的曝光量的不均的影響，減輕在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均，來(lái)高精細(xì)而且有效地形成保護(hù)膜、絕緣膜及阻焊劑圖案等永久圖案的永久圖案形成方法。作為用于解決所述課題的手段，如下所述。即<1>一種永久圖案形成方法，其特征在于，使用至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、熱交聯(lián)劑的感光性組合物，在基材的表面形成感光層之后，對(duì)于該感光層，使用如下所述的曝光頭，所述曝光頭具備光照射機(jī)構(gòu)；及具有接受來(lái)自所述光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的n個(gè)(其中，n為2以上的自然數(shù))排列成二維狀的描繪部、且可以對(duì)應(yīng)圖案信息來(lái)控制所述描繪部的光調(diào)制機(jī)構(gòu)，所述曝光頭配置成所述描繪部的列方向相對(duì)該曝光頭的掃描方向呈規(guī)定的設(shè)定傾斜角度e，利用使用描繪部指定機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，指定可以使用的所述描繪部中的用于N重曝光(其中，N為2以上的自然數(shù))的所述描繪部，利用描繪部控制機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，進(jìn)行所述描繪部的控制，使得只有由所述使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定的所述描繪部參與曝光，相對(duì)于所述感光層，使所述曝光頭在掃描方向上相對(duì)地移動(dòng)，從而進(jìn)行曝光、顯影。在該<1>中記載的永久圖案形成方法中，利用使用描繪部指定機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，指定可以使用的所述描繪部中的用于N重曝光(其中，N為2以上的自然數(shù))的所述描繪部，利用描繪部控制機(jī)構(gòu)，進(jìn)行所述描繪部的控制，使得只有由所述使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定的所述描繪部參與曝光。通過(guò)使曝光頭相對(duì)所述感光層向掃描方向相對(duì)地移動(dòng)來(lái)進(jìn)行曝光，可以平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離引起的在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均。結(jié)果，可以通過(guò)高精細(xì)地進(jìn)行向所述感光層的曝光，然后對(duì)所述感光層進(jìn)行顯影，來(lái)形成高精細(xì)的永久圖案。<2>根據(jù)所述<1>記載的永久圖案形成方法，其中，感光層的形成是通過(guò)在基材的表面涂敷、干燥感光性組合物來(lái)進(jìn)行的。在該<2>中記載的永久圖案形成方法中，在所述基材的表面涂敷、干燥所述感光性組合物。結(jié)果，在所述基材上形成所述感光層。<3>根據(jù)所述<1>記載的永久圖案形成方法，其中，感光層的形成是通過(guò)在加熱及加壓的至少任意一種條件下，在基材的表面層疊具有支撐體和在該支撐體上層疊感光性組合物而成的感光層的感光性薄膜來(lái)進(jìn)行的。在該<3>中記載的永久圖案形成方法中，在加熱及加壓的至少任意一種條件下，在所述基材的表面層疊具有所述支撐體和在該支撐體上層疊感光性組合物而成的感光層的感光性薄膜感光層。<4>根據(jù)所述<3>記載的永久圖案形成方法，其中，支撐體含有合成樹(shù)脂且為透明。<5>根據(jù)所述<3>或<4>記載的永久圖案形成方法，其中，支撐體為長(zhǎng)條狀。<6>根據(jù)所述<3><5>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，感光性薄膜為長(zhǎng)條狀，且被巻成輥狀而成。<7>根據(jù)所述<3><6>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，感光性薄膜在感光層上具有保護(hù)薄膜。<8>根據(jù)所述<1><7>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，感光層的厚度為310(Hun。<9>根據(jù)所述<1><8>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，基材為已形成布線(xiàn)的印制電路布線(xiàn)基板。在該<9>中記載的永久圖案形成方法中，由于基材為已形成布線(xiàn)的印制電路布線(xiàn)基板，所以通過(guò)利用該永久圖案形成方法，可以用于半導(dǎo)體或構(gòu)件向多層布線(xiàn)基板或內(nèi)裝布線(xiàn)基板等的高密度實(shí)裝。<10〉根據(jù)所述<1><9〉中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，曝光是利用多個(gè)曝光頭進(jìn)行的，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定在參與利用多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，用于實(shí)現(xiàn)所述頭間連接區(qū)域中的N重曝光而使用的所述描繪部。在該<10>中記載的永久圖案形成方法中，曝光是利用多個(gè)曝光頭進(jìn)行的，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定在參與利用多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，用于實(shí)現(xiàn)所述頭間連接區(qū)域的N重曝光而使用的所述描繪部，這樣，可以平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離引起的在所述感光層的被曝光面上的頭間連接區(qū)域形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均。結(jié)果，可以通過(guò)高精細(xì)地進(jìn)行向所述感光層的曝光，然后對(duì)所述感光層進(jìn)行顯影，來(lái)形成高精細(xì)的永久圖案。<11>根據(jù)所述<10>記載的永久圖案形成方法，其中，曝光是利用多個(gè)曝光頭進(jìn)行的，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定在參與利用多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的曝光的描繪部中，用于實(shí)現(xiàn)所述頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域中的N重曝光而使用的所述描繪部。在該<11>中記載的永久圖案形成方法中，曝光是利用多個(gè)曝光頭進(jìn)行的，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定在參與利用多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的曝光的描繪部中,用于實(shí)現(xiàn)所述頭間連接區(qū)域以外的N重曝光而使用的所述描繪部，這樣，可以平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離引起的在所述感光層的被曝光面上的頭間連接區(qū)域以外形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均。結(jié)果，可以通過(guò)高精細(xì)地進(jìn)行向所述感光層的曝光，然后對(duì)所述感光層進(jìn)行顯影，來(lái)形成高精細(xì)的永久圖案。<12>根據(jù)所述<1><11>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，按照相對(duì)于eid^滿(mǎn)足e^eideal的關(guān)系的方式設(shè)定設(shè)定傾斜角度e，所述9ic^相對(duì)于N重曝光數(shù)N、描繪部的列方向的個(gè)數(shù)s、所述描繪部的列方向的間隔p及在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下沿與該曝光頭的掃描方向正交的方向的描繪部的列方向的間距5而滿(mǎn)足下述式spsineideal^NS。<13〉根據(jù)所述<1><12>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，N重曝光的N為3以上的自然數(shù)。在該<13>中記載的永久圖案形成方法中，通過(guò)使N重曝光的N為3以上的自然數(shù)，可以進(jìn)行多重描繪。結(jié)果，利用補(bǔ)償?shù)男Ч?，可以更精密地平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離引起的在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均。<14>根據(jù)所述<1><13>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)具備在被曝光面上檢測(cè)作為利用描繪部生成的構(gòu)成被曝光面上的曝光區(qū)域的描繪單位的光點(diǎn)位置的光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，和基于所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)選擇用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的描繪部的描繪部選擇機(jī)構(gòu)。<15〉根據(jù)所述<1><14>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)以行為單位指定用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的使用描繪部。<16>根據(jù)所述<14>或<15>記載的永久圖案形成方法，其中，基于光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出的至少2個(gè)光點(diǎn)位置，確定在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下的被曝光面上的光點(diǎn)的列方向與所述曝光頭的掃描方向所成的實(shí)際傾斜角度e'，描繪部選擇機(jī)構(gòu)選擇使用描繪部，從而吸收所述實(shí)際傾斜角度e'與設(shè)定傾斜角度e的誤差。<17〉根據(jù)所述<16>記載的永久圖案形成方法，其中，實(shí)際傾斜角度e'為在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下的被曝光面上的光點(diǎn)的列方向與所述曝光頭的掃描方向所成的多個(gè)實(shí)際傾斜角度的平均值、中值、最大值及最小值的任意一個(gè)。<18〉根據(jù)所述<16>或<17〉記載的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)基于實(shí)際傾斜角度e，，導(dǎo)出與滿(mǎn)足ttane，二N(其中，N表示N重曝光數(shù)的N)的關(guān)系的t相近的自然數(shù)T，選擇被排列成m行(其中，m表示2以上的自然數(shù))的描繪部中從第1行到第所述T行的所述描繪部作為使用描繪部。<19>根據(jù)所述<16>或<17>記載的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)基于實(shí)際傾斜角度e，，導(dǎo)出與滿(mǎn)足ttane，二N(其中，N表示N重曝光數(shù)的N)的關(guān)系的t相近的自然數(shù)T，確定被排列成m行(其中，m表示2以上的自然數(shù))的描繪部中從第(T+l)行到第m行的所述描繪部作為不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部。<20>根據(jù)所述<14><19>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，(1)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域及曝光不足的區(qū)域的總面積成為最小的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(2)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)與曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)相等的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(3)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)；以及(4)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光不足的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光過(guò)多的區(qū)域的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)。<21〉根據(jù)所述<14><20>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)是如下所述機(jī)構(gòu)中的任意一種，艮P:(1)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域及曝光不足的區(qū)域的總面積成為最小的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(2)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)與曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)相等的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(3)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)；以及(4)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光不足的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光過(guò)多的區(qū)域的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)。<22>根據(jù)所述<21>記載的永久圖案形成方法，其中，以行為單位確定不使用描繪部。<23>根據(jù)所述<13〉<22>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，為了在使用描繪部指定機(jī)構(gòu)中指定使用描繪部，相對(duì)N重曝光的N，只使用構(gòu)成可以使用的所述描繪部中的每(N—l)列的描繪部列的所述描繪部，進(jìn)行參照曝光。在該<23>中記載的永久圖案形成方法中，為了在使用描繪部指定機(jī)構(gòu)中指定使用描繪部，相對(duì)N重曝光的N，只使用構(gòu)成可以使用的所述描繪部中的每(N—l)列的描繪部列的所述描繪部，進(jìn)行參照曝光，可以得到大致1重描繪的單純的圖案。<24>根據(jù)所述<13><22>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，為了在使用描繪部指定機(jī)構(gòu)中指定使用描繪部，相對(duì)N重曝光的N，只使用構(gòu)成可以使用的所述描繪部中的每1/N行的描繪部行的所述描繪部，進(jìn)行參照曝光。在該<24>中記載的永久圖案形成方法中，為了在使用描繪部指定機(jī)構(gòu)中指定使用描繪部，相對(duì)N重曝光的N，只使用構(gòu)成可以使用的所述描繪部中的每隔1/N行的描繪部行的所述描繪部，進(jìn)行參照曝光，可以得到大致l重描繪的單純的圖案。<25>根據(jù)所述<1><24>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)具有作為光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的縫隙及光檢測(cè)器以及作為描繪部選擇機(jī)構(gòu)的與所述光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置。<26>根據(jù)所述<1><25>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，N重曝光的N為3以上7以下的自然數(shù)。<27>根據(jù)所述<1><26>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)進(jìn)一步具有基于形成的圖案信息產(chǎn)生控制信號(hào)的圖案信號(hào)生成機(jī)構(gòu)而成，對(duì)應(yīng)該圖案信號(hào)生成機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號(hào)，對(duì)從光照射機(jī)構(gòu)照射的光進(jìn)行調(diào)制。<28>根據(jù)所述<1><27>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，具有轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)按照?qǐng)D案信息表示的圖案的規(guī)定部分的尺寸與可以利用指定的使用描繪部實(shí)現(xiàn)的對(duì)應(yīng)部分的尺寸一致的方式，轉(zhuǎn)換所述圖案信息。<29>根據(jù)所述<1〉<28〉中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)為空間光調(diào)制元件。<30>根據(jù)所述<1><28>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，空間光調(diào)制元件是數(shù)字微鏡器件(digitalmicromirrordevice)(固D)。<31〉根據(jù)所述<1><30>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，描繪部為微鏡。<32>根據(jù)所述<1〉<31>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，光照射機(jī)構(gòu)可以合成照射兩種以上的光。在該<32〉中記載的永久圖案形成方法中，通過(guò)所述光照射機(jī)構(gòu)可以合成兩種以上的光照射，可以以焦點(diǎn)深度較深的曝光光進(jìn)行曝光。結(jié)果，可以以極高精細(xì)進(jìn)行向所述感光層的曝光，然后，通過(guò)對(duì)所述感光層進(jìn)行顯影，可以形成極高精細(xì)的永久圖案。<33>根據(jù)所述<1><32>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，光照射機(jī)構(gòu)具有多個(gè)激光器、多模光纖、和將從該多個(gè)激光器分別照射的激光束進(jìn)行聚光從而結(jié)合于所述多模光纖的聚光光學(xué)系。在該<33>中記載的永久圖案形成方法中，利用所述光照射機(jī)構(gòu)，可以通過(guò)所述聚光光學(xué)系將從該多個(gè)激光器分別照射的激光束進(jìn)行會(huì)聚從而耦合在所述多模光纖，從而用焦點(diǎn)深度較深的曝光光進(jìn)行曝光。結(jié)果，可以極高精細(xì)地對(duì)所述感光層進(jìn)行曝光。然后，通過(guò)對(duì)所述感光層進(jìn)行顯影，則可以形成極高精細(xì)的永久圖案。<34>根據(jù)所述<33>記載的永久圖案形成方法，其中，激光的波長(zhǎng)為395415nm。<35>根據(jù)所述<1〉<34>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，在進(jìn)行了顯影之后，對(duì)感光層進(jìn)行固化處理。在該<35>中記載的永久圖案形成方法中，在進(jìn)行了顯影之后，可以對(duì)所述感光層進(jìn)行所述固化處理。結(jié)果，所述感光層的固化區(qū)域的膜強(qiáng)度被提咼o<36〉根據(jù)所述<35>記載的永久圖案形成方法，其中，固化處理為全面曝光處理及在120200"C下進(jìn)行的全面加熱處理的至少任意一種。在該<36〉中記載的永久圖案形成方法中，在所述全面曝光處理中，所述感光性組合物中的樹(shù)脂的固化被促進(jìn)。另外，在以所述溫度條件下進(jìn)行的全面加熱處理中，固化膜的膜強(qiáng)度被提高。<37>根據(jù)所述<1><36>中任意一項(xiàng)記載的永久圖案形成方法，其中，形成保護(hù)膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案中的至少任意一種。利用本發(fā)明，可以提供一種能夠解決以往的問(wèn)題，通過(guò)平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離以及所述描繪部與所述感光層的被曝光面之間的光學(xué)系的各種像差及所述描繪部自身的傾斜等引起的圖案偏斜導(dǎo)致的曝光量的不均的影響，減輕在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均，來(lái)高精細(xì)而且有效地形成保護(hù)膜、絕緣膜及阻焊劑圖案等永久圖案的永久圖案形成方法。圖1是表示圖案形成裝置的一例的外觀(guān)的立體圖。圖2是表示圖案形成裝置的掃描器(scanner)結(jié)構(gòu)的一例的立體圖。圖3A是表示在感光層的被曝光面上形成的已曝光區(qū)域的俯視圖。圖3B是表示各曝光頭所曝光范圍的排列的俯視圖。圖4是表示曝光頭的概略結(jié)構(gòu)的一例的立體圖。圖5A是表示曝光頭的具體結(jié)構(gòu)的一例的俯視圖。圖5B是表示曝光頭的具體結(jié)構(gòu)的一例的側(cè)面圖。圖6是表示圖1的圖案形成裝置的DMD的一例的局部放大圖。圖7A是表示用于說(shuō)明DMD的動(dòng)作的立體圖。圖7B是表示用于說(shuō)明DMD的動(dòng)作的立體圖。圖8是表示在存在曝光頭的安裝角度誤差及圖案偏斜時(shí)，在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的不均的例子的說(shuō)明圖。圖9是表示1個(gè)DMD的曝光范圍與對(duì)應(yīng)的縫隙(slit)的位置關(guān)系的俯視圖。圖10是表示用于說(shuō)明使用縫隙測(cè)定被曝光面上的光點(diǎn)的位置的方法的俯視圖。圖11是表示用于說(shuō)明在只有被選擇的微鏡(micromirror)被用于曝光的結(jié)果，在被曝光面上的圖案上產(chǎn)生的不均被改善的狀態(tài)的說(shuō)明圖。圖12是表示在相鄰的曝光頭之間存在相對(duì)位置的偏離時(shí)，在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的不均的例子的說(shuō)明圖。圖13是表示相鄰的2個(gè)曝光頭的曝光范圍與對(duì)應(yīng)的縫隙之間的位置關(guān)系的俯視圖。圖14是表示用于說(shuō)明使用縫隙測(cè)定被曝光面上的光點(diǎn)的位置的方法的俯視圖。圖15是表示在圖12的例子中只有被選擇的使用像素在實(shí)際工作，在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的不均被改善的狀態(tài)的說(shuō)明圖。圖16是表示在相鄰的曝光頭存在相對(duì)位置的偏離及安裝角度誤差時(shí)，在被曝光面上的圖案上產(chǎn)生的不均的例子的說(shuō)明圖。圖17是表示在圖16的例子中只使用選擇的使用描繪部的曝光的說(shuō)明圖。圖18A是表示倍率偏斜的例子的說(shuō)明圖。圖18B是表示光束直徑偏斜的例子的說(shuō)明圖。圖19A是表示使用單一曝光頭的參照曝光的第一例子的說(shuō)明圖。圖19B是表示使用單一曝光頭的參照曝光的第一例子的說(shuō)明圖。圖20是表示使用多個(gè)曝光頭的參照曝光的第一例子的說(shuō)明圖。圖21A是表示使用單一曝光頭的參照曝光的第二例子的說(shuō)明圖。圖21B是表示使用單一曝光頭的參照曝光的第二例子的說(shuō)明圖。圖22是表示使用多個(gè)曝光頭的參照曝光的第二例子的說(shuō)明圖。圖23是表示在比較例1中，各像素列的傾斜角度變得不均一的"角度偏斜"引起在被曝光面上的圖案中產(chǎn)生的不均的例子的說(shuō)明圖。具體實(shí)施例方式(永久圖案形成方法)本發(fā)明的永久圖案形成方法至少包括曝光工序和顯影工序，優(yōu)選包括固化處理工序，進(jìn)而也包括根據(jù)需要適當(dāng)選擇的其他工序。[曝光工序]所述曝光工序是指相對(duì)于該感光層，使用曝光頭，所述曝光頭具備光照射機(jī)構(gòu)；及具有接受來(lái)自所述光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的n個(gè)(其中，n為2以上的自然數(shù))排列成二維狀的描繪部、可以對(duì)應(yīng)圖案信息來(lái)控制所述描繪部的光調(diào)制機(jī)構(gòu)，所述曝光頭配置成所述描繪部的列方向相對(duì)該曝光頭的掃描方向呈規(guī)定的設(shè)定傾斜角度e，利用使用描繪部指定機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，指定可以使用的所述描繪部中的用于N重曝光(其中，N為2以上的自然數(shù))的所述描繪部，利用描繪部控制機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，進(jìn)行所述描繪部的控制，使得只有由所述使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定的所述描繪部參與曝光，相對(duì)于所述感光層，使所述曝光頭在掃描方向上相對(duì)地移動(dòng)，從而進(jìn)行曝光的工序。在本發(fā)明中，"N重曝光"是指被設(shè)定成在所述感光層的被曝光面上的曝光區(qū)域的大致全部區(qū)域，與所述曝光頭的掃描方向平行的直線(xiàn)與照射到所述被曝光面上的N根光點(diǎn)列(像素列)交叉的曝光。在此，"光點(diǎn)列(像素列)"是指利用所述描繪部產(chǎn)生的作為描繪單位的光點(diǎn)(像素)的排列中比與所述曝光頭的掃描方向所成的角度更小的方向的排列。其中，所述描繪部的配置不一定為矩形格子狀，也可以為例如平行四邊形狀的配置等。在此，稱(chēng)為曝光區(qū)域的"大致全部區(qū)域"是因?yàn)?，在各描繪部的兩側(cè)緣部，通過(guò)使描繪部列傾斜，與平行于所述曝光頭的掃描方向的直線(xiàn)交叉的使用描繪部的描繪部列的數(shù)目會(huì)減少，所以這種情況下，即使將多個(gè)曝光頭合起來(lái)使用，由于該曝光頭的安裝角度或配置等誤差，而與掃描方向平行的直線(xiàn)交叉的使用描繪部的描繪部列的數(shù)目可能會(huì)略微增減，另外，在各使用描繪部的描繪部列間的連接部分的析像度程度以下的極少的部分，由于安裝角度或描繪部配置等誤差，沿著與掃描方向正交的方向的描繪部的間距(pitch)不會(huì)與其他部分的描繪部的間距嚴(yán)格地一致，與掃描方向平行的直線(xiàn)交叉的使用描繪部的描繪部列的數(shù)目在士l的范圍增減。此外，在以下的說(shuō)明中，將N為2以上的自然數(shù)的N重曝光總稱(chēng)為"多重曝光"。進(jìn)而，在以下的說(shuō)明中，對(duì)于將本發(fā)明的永久圖案形成方法中的曝光方法作為描繪方法實(shí)施的方式，將"N重描繪"及"多重描繪"的用語(yǔ)用作對(duì)應(yīng)"N重曝光"及"多重曝光"的用語(yǔ)。作為所述N重曝光的N，只要是2以上的自然數(shù)，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選3以上的自然數(shù)，更優(yōu)選3以上7以下的自然數(shù)。<圖案形成裝置>參照附圖，對(duì)本發(fā)明的圖案形成方法中的圖案形成裝置的一例進(jìn)行說(shuō)明。作為所述圖案形成裝置，為所謂平板型(flatbedtype)的曝光裝置，如圖1所示，具備在表面吸附并保持在所述基材上層疊所述感光層而成的薄片狀的感光材料12(以下有時(shí)稱(chēng)為"感光層12")的平板狀移動(dòng)載物臺(tái)14。在由4根腳部16支撐的厚板狀的設(shè)置臺(tái)18的上面，設(shè)置沿著載物臺(tái)移動(dòng)方向延伸的2根導(dǎo)軌20。載物臺(tái)14被配置成其長(zhǎng)徑方向朝向載物臺(tái)移動(dòng)方向，同時(shí)被支撐為可以利用導(dǎo)軌20來(lái)回移動(dòng)。此外，在該圖案形成裝置10中設(shè)有沿著導(dǎo)軌20驅(qū)動(dòng)載物臺(tái)14的載物臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置(未圖示)。在設(shè)置臺(tái)18的中央部設(shè)有橫跨載物臺(tái)14的移動(dòng)路徑的"〕"字狀的門(mén)22。"〕"字狀的門(mén)22的端部分別被固定于設(shè)置臺(tái)18的兩側(cè)面。在夾持該門(mén)22的一側(cè)設(shè)有掃描器24，另一側(cè)設(shè)有檢測(cè)感光材料12的前端及后端的多個(gè)(例如2個(gè))的感受器26。掃描器24及感受器26分別被安裝于門(mén)22，被固定配置于載物臺(tái)14的移動(dòng)路徑的上方。此外，掃描器24及感受器26與控制它們的未圖示的控制器相連。在此，為了說(shuō)明，如圖1所示，在與載物臺(tái)14的表面平行的平面內(nèi)，規(guī)定彼此正交的X軸及Y軸。沿著載物臺(tái)14的掃描方向，在上游側(cè)(以下有時(shí)簡(jiǎn)單地稱(chēng)為"上游側(cè)"。)的端緣部，以等間隔形成10根形成為向X軸方向開(kāi)口的"<"字型縫隙28。各縫隙28由位于上游側(cè)的縫隙28a和位于下游側(cè)的縫隙28b構(gòu)成?？p隙28a與縫隙28b彼此正交，同時(shí)相對(duì)X軸，縫隙28a具有一45度、縫隙28b具有+45度的角度。使縫隙28的位置與所述曝光頭30的中心大致一致。另外，各縫隙28的大小為充分覆蓋對(duì)應(yīng)的曝光頭30的曝光范圍32的寬度的大小。另外，作為縫隙28的位置，也可以使其與相鄰的己曝光區(qū)域34間的重復(fù)部分的中心位置大致一致。這種情況下，各縫隙28的大小為充分覆蓋已曝光區(qū)域34間的重復(fù)部分的寬度的大小。在載物臺(tái)14內(nèi)部的各縫隙28的下方位置，在后述的使用描繪部指定處理中，分別插入作為檢測(cè)作為描繪單位的光點(diǎn)的光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的單一單元型光檢測(cè)器(未圖示)。另外，在后述的使用描繪部指定處理中，各光檢測(cè)器與作為進(jìn)行所述描繪部的選擇的描繪部選擇機(jī)構(gòu)的運(yùn)算裝置(未圖示)連接。作為曝光時(shí)的所述圖案形成裝置的動(dòng)作方式，可以為經(jīng)常使曝光頭移動(dòng)，并同時(shí)進(jìn)行連續(xù)地曝光的方式，也可以為階段地使曝光頭移動(dòng)，并同時(shí)在各移動(dòng)目的地的位置使曝光頭靜止進(jìn)行曝光動(dòng)作的方式?！镀毓忸^》各曝光頭30被安裝于掃描器24，并使后述的內(nèi)部的數(shù)字*微鏡》器件(DMD)36的各描繪部(微鏡)的列方向與掃描方向成規(guī)定的設(shè)定傾斜角度e。所以，各曝光頭30的曝光范圍32成為相對(duì)掃描方向傾斜的矩形狀的范圍。伴隨著載物臺(tái)14的移動(dòng)，在感光層12的每個(gè)曝光頭30形成帶狀的已曝光區(qū)域34。在圖2及圖3B所示的例子中，在掃描器24上具備排列成2行5列的近似矩陣狀的10個(gè)曝光頭。此外，在以下，在表示排列在第m行的第n列的各曝光頭時(shí)，標(biāo)記成曝光頭30mn，在表示排列在第m行的第n列的各曝光頭的曝光范圍時(shí)，標(biāo)記為曝光范圍32mn。另外，如圖3A及圖3B所示，為了使帶狀的己曝光區(qū)域34分別與相鄰的己曝光區(qū)域34部分重疊，已排列成線(xiàn)(line)狀的各行曝光頭30分別向其排列方向錯(cuò)開(kāi)規(guī)定間隔(曝光范圍的長(zhǎng)邊的自然數(shù)倍，在本實(shí)施方式中為2倍)配置。所以，在第1行的曝光范圍32與曝光范圍3212之間不能曝光的部分，可以利用第2行的曝光范圍3221曝光。如圖4及圖5所示，曝光頭30分別具備DMD36(美國(guó)德克薩斯州儀器(Texas)，^y;^乂A^y、乂公司制)，作為對(duì)應(yīng)圖像數(shù)據(jù)在每個(gè)像素對(duì)入射的光進(jìn)行調(diào)制的光調(diào)制機(jī)構(gòu)(調(diào)制每個(gè)像素部的空間光調(diào)制元件)。該DMD36與具備數(shù)據(jù)處理部和鏡驅(qū)動(dòng)控制部的作為描繪部控制機(jī)構(gòu)的控制器連接。該控制器的數(shù)據(jù)處理部基于輸入的圖像數(shù)據(jù)，在每個(gè)曝光頭30，產(chǎn)生對(duì)DMD36上的使用區(qū)域內(nèi)的各微鏡進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制的控制信號(hào)。另外，鏡驅(qū)動(dòng)控制部基于在圖像數(shù)據(jù)處理部產(chǎn)生的控制信號(hào)，在每個(gè)曝光頭30，對(duì)DMD36的各微鏡的反射面的角度進(jìn)行控制。如圖4所示，在DMD36的光入射側(cè)，依次配置具備光纖的射出端部(發(fā)光點(diǎn))沿著與曝光范圍32的長(zhǎng)邊方向一致的方向排列成一列的激光射出部的光纖陣列光源38，校正從光纖陣列光源38射出的激光并聚光于DMD上的透鏡系40，向DMD36反射透過(guò)該透鏡系40的激光的鏡42。此外，圖4概略地表示透鏡系40。如圖5所詳示，所述透鏡系40由如下所述結(jié)構(gòu)構(gòu)成，g卩使從光纖陣列光源38射出的激光平行光化的一對(duì)組合透鏡44、將被平行光化的激光的光量分布校正成均一的一對(duì)組合透鏡46及將光量分布已被校正的激光聚光于DMD36上的聚光透鏡48構(gòu)成。另外，在DMD36的光反射側(cè)配置有使在DMD36射出的激光在感光層12的被曝光面上成像的透鏡系50。透鏡系50由被配置成DMD36與感光層12的被曝光面成共軛關(guān)系的2片透鏡52及54構(gòu)成。在本實(shí)施方式中，從光纖陣列光源38射出的激光在實(shí)際上被放大5倍之后，被設(shè)定為來(lái)自DMD36上的各微鏡的光線(xiàn)被所述透鏡系50集中成約5,。一光調(diào)制機(jī)構(gòu)一作為所述光調(diào)制機(jī)構(gòu)，只要具有n個(gè)(其中，n為2以上的整數(shù))排列成二維狀的所述描繪部、可以對(duì)應(yīng)所述圖案信息控制所述描繪部即可，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選空間光調(diào)制元件。作為所述空間光調(diào)制元件，例如可以?xún)?yōu)選舉出數(shù)字微鏡器件DMD、MEMS(微電子機(jī)械系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystems))型的空間光調(diào)制元件(SLM;空間光調(diào)節(jié)器(SpaceLightModulator))、利用電光學(xué)效果調(diào)制透過(guò)光的光學(xué)元件(PLZT元件)、液晶光開(kāi)閉器(FLC)等，其中，可以?xún)?yōu)選舉出DMD。另外，所述光調(diào)制機(jī)構(gòu)優(yōu)選具有基于要形成的圖案信息生成控制信號(hào)的圖案信號(hào)生成機(jī)構(gòu)。這種情況下，對(duì)應(yīng)所述圖案信號(hào)生成機(jī)構(gòu)所生成的控制信號(hào)調(diào)制光。作為所述控制信號(hào)，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以?xún)?yōu)選舉出數(shù)字信號(hào)。以下參照附圖，對(duì)所述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的一例進(jìn)行說(shuō)明。如圖6所示，DMD36是在SRAM單元(存儲(chǔ)器單元)56上，使大多數(shù)微鏡58作為分別構(gòu)成描繪(像點(diǎn)(pixel))的描繪部，排列成格子狀而成的鏡器件。在本實(shí)施方式中，使用1024列X768行的微鏡58排列而成的DMD36，其中，可以利用與DMD36連接的控制器驅(qū)動(dòng)的即可以使用的微鏡58僅為1024列X256行。DMD36的數(shù)據(jù)處理速度存在極限，與使用的微鏡數(shù)成正比，確定每l線(xiàn)的調(diào)制速度，所以通過(guò)這樣地只使用一部分微鏡，每l線(xiàn)的調(diào)制速度會(huì)變快。各微鏡58被支柱支撐，在其表面蒸鍍鋁等反射率高的材料。此外，在本實(shí)施方式中，各微鏡58的反射率在90%以上，其排列間距在縱方向、橫方向均為13.7pm。SRAM單元56是借助包括樞紐(hinge)及軛(yoke)的支柱，在通常的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的制造線(xiàn)上制造的硅柵(silicongate)的CMOS的SRAM單元，整體被構(gòu)成為單片型(monolkhic)(—體型)。如果向DMD36的SRAM單元(存儲(chǔ)器單元)56輸入以2值表示構(gòu)成需要的二維圖案的各點(diǎn)的濃度的圖像信號(hào)，則被支柱支撐的各微鏡58，在以對(duì)角線(xiàn)為中心相對(duì)配置DMD36的基板側(cè)，以土a度(例如士10度)的任意角度傾斜。圖7A表示微鏡58處于作為開(kāi)(ON)狀態(tài)的向+a度傾斜的狀態(tài)，圖7B表示微鏡58處于作為關(guān)(OFF)狀態(tài)的向一(x度傾斜的狀態(tài)。這樣，如圖6所示，通過(guò)對(duì)應(yīng)圖像信號(hào)控制DMD36的各像點(diǎn)中的微鏡58的傾斜度，向DMD36入射的激光B被向各自的微鏡58的傾斜方向反射。圖6是表示放大DMD36的一部分，各微鏡58被控制為+ot度或一a度的狀態(tài)的一例。利用與DMD36連接的所述控制器，進(jìn)行各微鏡58的開(kāi)關(guān)控制。另外，在關(guān)狀態(tài)的微鏡58反射的激光B前進(jìn)的方向上，配置光吸收體(未圖示)。一光照射機(jī)構(gòu)—作為所述光照射機(jī)構(gòu)，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出(超)高壓汞燈、氙燈、炭棒弧光燈、鹵素?zé)?、?fù)寫(xiě)機(jī)用等熒光管、LED、半導(dǎo)體激光等公知光源或可以合成照射2種以上的光的機(jī)構(gòu)，其中，優(yōu)選可以合成2種以上的光照射的機(jī)構(gòu)。作為從所述光照射機(jī)構(gòu)照射的光，例如在借助支撐體進(jìn)行光照射的情況下，可以舉出透過(guò)該支撐體并活化使用的光聚合引發(fā)劑或增感劑的電磁波、從紫外到可見(jiàn)光線(xiàn)、電子射線(xiàn)、X射線(xiàn)、激光等，其中，優(yōu)選激光，更優(yōu)選合成2種以上的光的激光(以下有時(shí)稱(chēng)為"合波激光")。另外，從剝離支撐體開(kāi)始進(jìn)行光照射的情況下，也可以使用同樣的光。作為所述從紫外到可見(jiàn)光線(xiàn)的波長(zhǎng)，例如優(yōu)選3001500nm，更優(yōu)選320800nm，特別優(yōu)選330nm650nm。作為所述激光的波長(zhǎng)，例如優(yōu)選2001500nm，更優(yōu)選300800nm,進(jìn)而優(yōu)選330nm500nm，特別優(yōu)選400nm450nm。作為可以照射所述合波激光的機(jī)構(gòu)，例如優(yōu)選具有多種激光、多模光纖和從該多種激光分別照射的激光束進(jìn)行聚光并使其結(jié)合于所述多模光纖的聚光光學(xué)系的機(jī)構(gòu)。作為所述可以照射合波激光的機(jī)構(gòu)(光纖陣列光源)，例如可以舉出特開(kāi)2005—258431號(hào)公報(bào)的說(shuō)明書(shū)的段落中記載的機(jī)構(gòu)等.《使用描繪部指定機(jī)構(gòu)》作為所述使用描繪部指定機(jī)構(gòu)，優(yōu)選至少具備在被曝光面上檢測(cè)作為描繪單位的光點(diǎn)的位置的光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，和基于所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)選擇用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的描繪部的描繪部選擇機(jī)構(gòu)。以下對(duì)利用所述使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定N重曝光中使用的描繪部的方法的例子進(jìn)行說(shuō)明。(1)單一曝光頭內(nèi)的使用描繪部的指定方法在本實(shí)施方式(O中，是利用圖案形成裝置10，對(duì)感光材料12進(jìn)行2重曝光的情況，對(duì)減輕各曝光頭30的安裝角度誤差引起的析像度的不均和濃度不均的、用于實(shí)現(xiàn)理想的2重曝光的使用描繪部的指定方法進(jìn)行說(shuō)明。作為相對(duì)曝光頭30的掃描方向的描繪部(微鏡58)的列方向的設(shè)定傾斜角度e，如果是沒(méi)有曝光頭30的安裝角度誤差等的理想的狀態(tài)，使用可以使用的1024列X256行的描繪部，采用恰好略大于成為2重曝光的角度9ic^的角度。該角度eid^是對(duì)于N重曝光的數(shù)目N、可以使用的微鏡58的列方向的個(gè)數(shù)s、可以使用的微鏡58的列方向的間隔p及在使曝光頭30傾斜的狀態(tài)下利用微鏡形成的掃描線(xiàn)的間距S，利用下述式lspsin9ideai^NS(式1)得到。本實(shí)施方式中的DMD36如上所述，縱橫配置間隔相等的大多數(shù)微鏡58被配置成矩形格子狀，所以為pCOS9ideal二5(式2)上述式1成為stan9ideai二N(式3)在本實(shí)施方式(1)中，如上所述，s=256、N=2，所以根據(jù)所述式3，角度0id^約為0.45度。因而，作為設(shè)定傾斜角度e，例如也可以采用0.50度左右的角度。圖案形成裝置IO在可以調(diào)節(jié)的范圍內(nèi)，被初期調(diào)節(jié)為各曝光頭30即各DMD36的安裝角度成為接近該設(shè)定傾斜角度e的角度。圖8是表示在被如上所述初期調(diào)節(jié)的圖案形成裝置10中，在1個(gè)曝光頭30的安裝角度誤差及圖案偏斜的影響下，在被曝光面上的圖案上產(chǎn)生的不均的例子的說(shuō)明圖。在以下的附圖及說(shuō)明中，對(duì)于由各描繪部(微鏡)產(chǎn)生的作為構(gòu)成被曝光面上的曝光區(qū)域的描繪單位的光點(diǎn)，分別將第m行的光點(diǎn)標(biāo)記成r(m)、第n列的光點(diǎn)標(biāo)記成c(n)、第m行第n列的光點(diǎn)標(biāo)記成P(m，n)圖8的上段部分表示在使載物臺(tái)14靜止的狀態(tài)下在感光材料12的被曝光面上投影的、來(lái)自可以使用的微鏡58的光點(diǎn)組的圖案，下段部分表示在上段部分所示之類(lèi)的光點(diǎn)組的圖案出現(xiàn)的狀態(tài)下使載物臺(tái)14移動(dòng)并進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，在被曝光面上形成的曝光圖案的狀態(tài)。其中，在圖8中，為了便于說(shuō)明，將可以使用的微鏡58分成奇數(shù)列的曝光圖案和偶數(shù)列的曝光圖案進(jìn)行表示，但實(shí)際上的被曝光面上的曝光圖案重疊了這2個(gè)曝光圖案。在圖8的例子中，作為設(shè)定傾斜角度采用若干大于所述角度9id^的角度的結(jié)果，另外還由于曝光頭30的安裝角度的微調(diào)節(jié)很困難，所以作為實(shí)際的安裝角度與所述設(shè)定傾斜角度e之間具有誤差的結(jié)果，在被曝光面上的任意區(qū)域也產(chǎn)生了濃度不均。具體而言，在利用奇數(shù)列的微鏡的曝光圖案及利用偶數(shù)列的微鏡的曝光圖案雙方，在由多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域，相對(duì)理想的2重曝光，曝光變得過(guò)多，產(chǎn)生描繪變得冗長(zhǎng)的區(qū)域，產(chǎn)生濃度不均。進(jìn)而，在圖8的例子中，是在被曝光面上出現(xiàn)的圖案偏斜的一例，產(chǎn)生投影到被曝光面上的各像素列的傾斜角度變得不均一的"角度偏斜"。作為這樣的角度偏斜產(chǎn)生的原因，可以舉出DMD36與被曝光面間的光學(xué)系的各種像差或定位偏離及DMD36自身的偏斜或微鏡的配置誤差等。圖8的例子中出現(xiàn)的角度偏斜是相對(duì)掃描方向的傾斜角度，越在圖的左方列越變小、越在圖的右方列越變大的方式的偏斜。作為該角度偏斜的結(jié)果，變得曝光過(guò)多的區(qū)域，越在圖的左方所示的被曝光面上越變小、越在圖的右方所示的被曝光面上越變大。為了減輕如上所述的利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的濃度不均，將縫隙28及光檢測(cè)器的組用作所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，在每個(gè)曝光頭30，確定實(shí)際傾斜角度e',基于該實(shí)際傾斜角度e'，將與所述光檢測(cè)器連接的所述運(yùn)算裝置用作所述描繪部選擇機(jī)構(gòu)，進(jìn)行選擇實(shí)際的曝光中使用的微鏡的處理。基于光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出的至少2個(gè)光點(diǎn)位置，利用在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下的被曝光面上的光點(diǎn)的列方向與所述曝光頭的掃描方向所成的角度來(lái)確定實(shí)傾斜處理e'。以下使用圖9及圖io，對(duì)所述實(shí)際傾斜角度e'的確定及使用像素選擇處理進(jìn)行說(shuō)明。一實(shí)際傾斜角度e'的確定一圖9是表示1個(gè)DMD36的曝光范圍32與對(duì)應(yīng)的縫隙28之間的位置關(guān)系的俯視圖?？p隙28的大小為充分覆蓋曝光范圍32的寬度的大小。在本實(shí)施方式(1)的例子中，將位于曝光范圍32的大致中心的第512列光點(diǎn)列與曝光頭30的掃描方向之間所成的角度作為所述實(shí)際傾斜角度e，測(cè)定。具體而言，使DMD36上的第1行第512列的微鏡58及第256行第512列的微鏡58處于開(kāi)(ON)狀態(tài)，檢測(cè)對(duì)應(yīng)它們的被曝光面上的光點(diǎn)P(1，512)及P(256，512)的位置，將連接它們的直線(xiàn)與曝光頭的掃描方向所成角度確定為實(shí)際傾斜角度e'。圖10是表示說(shuō)明光點(diǎn)P(256，512)的位置的檢測(cè)方法的俯視圖。首先，在使第256行第512列的微鏡58點(diǎn)亮的狀態(tài)下，緩慢移動(dòng)載物臺(tái)14，沿著Y軸使縫隙28相對(duì)移動(dòng)，使縫隙28位于使光點(diǎn)P(256，512)位于上游側(cè)的縫隙28a與下游側(cè)的縫隙28b之間的任意位置。此時(shí)的縫隙28a與縫隙28b之間的交點(diǎn)的座標(biāo)為(X0，Y0)。該座標(biāo)(X0，Y0)的值由直到給予載物臺(tái)14的驅(qū)動(dòng)信號(hào)所示的所述位置的載物臺(tái)14的移動(dòng)距離及已知的縫隙28的X方向位置來(lái)確定并被記錄。接著，使載物臺(tái)14移動(dòng)，使縫隙28沿著Y軸在圖IO的右方相對(duì)移動(dòng)。那么，在圖10中，如兩點(diǎn)劃線(xiàn)所示，光點(diǎn)P(256，512)的光通過(guò)左側(cè)的縫隙28b并被光檢測(cè)器檢測(cè)出后，使載物臺(tái)14停止。將此時(shí)的縫隙28a與縫隙28b的交點(diǎn)的座標(biāo)(X0，Yl)作為光點(diǎn)P(256，512)的位置進(jìn)行記錄。接著，使載物臺(tái)14向相反方向移動(dòng)，使縫隙28沿著Y軸在圖10的左方相對(duì)移動(dòng)。那么，在圖10中，如兩點(diǎn)劃線(xiàn)所示，光點(diǎn)P(256，512)的光通過(guò)右側(cè)的縫隙28a并被光檢測(cè)器檢測(cè)出后，使載物臺(tái)14停止。將此時(shí)的縫隙28a與縫隙28b的交點(diǎn)的座標(biāo)(X0，Y2)作為光點(diǎn)P(256，512)的位置進(jìn)行記錄。從以上的測(cè)定結(jié)果，利用X二XO十(Y1—Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的計(jì)算，確定表示光點(diǎn)P(256，512)在被曝光面上的位置的座標(biāo)(X，Y)。也利用同樣的測(cè)定，確定表示P(1，512)的位置的座標(biāo)，導(dǎo)出連接它們的座標(biāo)的直線(xiàn)與曝光頭30的掃描方向所成的傾斜角度，將其確定為實(shí)際傾斜角度e'。一使用描繪部的選擇一使用這樣確定的實(shí)際傾斜角度e，，與所示光檢測(cè)器連接的所示運(yùn)算裝置導(dǎo)出滿(mǎn)足下述式4ttane，二N(式4)的關(guān)系的值t最近的自然數(shù)T，進(jìn)行將DMD36上的第1行到第T行的微鏡選作本曝光時(shí)實(shí)際使用的微鏡的處理。這樣，在第512列附近的曝光區(qū)域中，可以將相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域與成為曝光不足的區(qū)域的面積總計(jì)為最小的微鏡選作實(shí)際使用的微鏡。在此，也可以代替導(dǎo)出與所述值t相近的自然數(shù)，導(dǎo)出值t以上的最小的自然數(shù)。這種情況下，在第512列附近的曝光區(qū)域中，可以將相對(duì)理想的2重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積變得最小而且不產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域的微鏡選作實(shí)際使用的微鏡。另外，也可以導(dǎo)出值t以下的最大的自然數(shù)。這種情況下，在第512列附近的曝光區(qū)域中，可以將相對(duì)理想的2重曝光為曝光不足的區(qū)域的面積變得最小而且不產(chǎn)生曝光過(guò)多的區(qū)域的微鏡選作實(shí)際使用的微鏡。圖11是表示在僅使用被選作如上所述實(shí)際使用的微鏡的微鏡產(chǎn)生的光點(diǎn)進(jìn)行曝光中，如何改善圖8所示的被曝光面上的不均的說(shuō)明圖。在該例中，導(dǎo)出T二253作為所述自然數(shù)T，選擇從第1行到第253行的微鏡。相對(duì)被選擇的第254行第256行的微鏡，利用所述描繪部控制機(jī)構(gòu)，傳送設(shè)定時(shí)常關(guān)狀態(tài)的角度的信號(hào)，這些微鏡實(shí)際上不與參與曝光。如圖ll所示，在第512列附近的曝光區(qū)域，曝光過(guò)多及曝光不足幾乎被完全消解，可以實(shí)現(xiàn)與理想的2重曝光極為接近的均一的曝光。另一方面，在圖11的左方的區(qū)域(圖中的c(1)附近)，在所述角度偏斜的作用下，被曝光面上的光點(diǎn)列的傾斜角度變得小于中央附近(圖中的c(512)附近)的區(qū)域的光線(xiàn)列的傾斜角度。因而，在基于以c(512)為標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定的實(shí)際傾斜角度e'而選擇的微鏡的曝光中，分別在偶數(shù)列的曝光范圍及奇數(shù)列的曝光范圍中，略微產(chǎn)生相對(duì)理想的2重曝光而成為曝光不足的區(qū)域。但是，在重疊圖示的利用奇數(shù)列的曝光圖案與利用偶數(shù)列的曝光圖案而成的實(shí)際的曝光圖案中，成為曝光不足的區(qū)域被彼此補(bǔ)充，可以用利用2重曝光的補(bǔ)償?shù)男Ч顾鼋嵌绕币鸬钠毓獠痪钚?。另外，在圖11的右方的區(qū)域(圖中的c(1024)附近)，在所述角度偏斜的作用下，被曝光面上的光線(xiàn)列的傾斜角度變得大于中央附近(圖中的c(512)附近)的區(qū)域的光線(xiàn)列的傾斜角度。因而，在基于以c(512)為標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定的實(shí)際傾斜角度e'而選擇的微鏡的曝光中，如圖所示，略微產(chǎn)生相對(duì)理想的2重曝光而成為曝光過(guò)多的區(qū)域。但是，在重疊圖示的利用奇數(shù)列的曝光圖案與利用偶數(shù)列的曝光圖案而成的實(shí)際的曝光圖案中，成為曝光過(guò)多的區(qū)域被彼此補(bǔ)充，可以用利用2重曝光的補(bǔ)償?shù)男Ч顾鼋嵌绕币鸬臐舛炔痪钚?。在本?shí)施方式(1)中，如上所述，測(cè)定第512列的光線(xiàn)列的實(shí)際傾斜角度e'，使用該實(shí)際傾斜角度e'，選擇基于利用所述式(4)導(dǎo)出的T使用的微鏡58，但作為所述實(shí)際傾斜角度e'的確定方法，也可以為分別測(cè)定多個(gè)描繪部的列方向(光點(diǎn)列)與所述曝光頭的掃描方向所成的多個(gè)實(shí)際傾斜角度，將這些平均值、中值、最大值及最小值的任意一個(gè)確定作為實(shí)際傾斜角度e'，利用所述式(4)等選擇實(shí)際的曝光時(shí)實(shí)際使用的微鏡的方式。如果將所述平均值或所述中值作為實(shí)際傾斜角度e'，則可以實(shí)現(xiàn)相對(duì)理想的n重曝光而成為曝光過(guò)多的區(qū)域與成為曝光不足的區(qū)域的平衡良好的曝光。例如，可以實(shí)現(xiàn)將成為曝光過(guò)多的區(qū)域與成為曝光量不足的區(qū)域的總面積抑制為最小，而且成為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)(光點(diǎn)數(shù))與成為曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)(光點(diǎn)數(shù))變成相等的曝光。另外，如果將所述最大值作為實(shí)際傾斜角度e',則可以實(shí)現(xiàn)更加重視相對(duì)理想的n重曝光而成為曝光過(guò)多的區(qū)域的排除的曝光，例如可以實(shí)現(xiàn)將成為曝光不足的區(qū)域的面積抑制為最小，而且不產(chǎn)生成為曝光過(guò)多的區(qū)域的曝光。進(jìn)而，如果將所述最小值作為實(shí)際傾斜角度e'，則可以實(shí)現(xiàn)更加重視相對(duì)理想的n重曝光而成為曝光不足的區(qū)域的排除的曝光，例如可以實(shí)現(xiàn)將成為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積抑制為最小，而且不產(chǎn)生成為曝光不足的區(qū)域的曝光。另一方面，所述實(shí)際傾斜角度e'的確定不限于基于同一描繪部的列(光點(diǎn)列)中的至少2個(gè)光點(diǎn)的位置的方法。例如也可以將從同一描繪部列c(n)中的1個(gè)或多個(gè)光點(diǎn)的位置和該c(n)附近的列中的1個(gè)或多個(gè)光點(diǎn)的位置求得的角度確定作為實(shí)際傾斜角度e'。具體而言，可以檢測(cè)c(n)中的1個(gè)光點(diǎn)位置和沿著曝光頭的掃描方向的直線(xiàn)上而且附近的光點(diǎn)列中含有的1個(gè)或多個(gè)光點(diǎn)位置，從這些位置信息求得實(shí)際傾斜角度e，。進(jìn)而，也可以將基于c(n)列附近的光點(diǎn)列中的至少2個(gè)光點(diǎn)(例如配置成跨越c(n)的2個(gè)光點(diǎn))的位置求得的角度確定作為實(shí)際傾斜角度e'。如上所述，如果利用使用圖案形成裝置10的本實(shí)施方式(1)的使用描繪部的指定方法，可以減輕各曝光頭的安裝角度誤差或圖案偏斜的影響引起的析像度的不均或濃度不均，實(shí)現(xiàn)理想的n重曝光。(2)多個(gè)曝光頭間的使用描繪部的指定方法<1>在本實(shí)施方式(2)中，對(duì)在利用圖案形成裝置10，對(duì)感光材料12進(jìn)行2重曝光的情況下、減輕在作為利用多個(gè)曝光頭30形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域、2個(gè)曝光頭(作為一例為曝光頭3012和302,)的X軸方向相關(guān)的相對(duì)位置從理想狀態(tài)偏離引起的析像度的不均和濃度不均、用于實(shí)現(xiàn)理想的2重曝光的使用描繪部的指定方法進(jìn)行說(shuō)明。作為各曝光頭30即各DMD36的設(shè)定傾斜角度e，如果為沒(méi)有曝光頭30的安裝角度誤差等的理想狀態(tài)，采用使用可以使用的1024列X256行的描繪部微鏡58而恰好成為2重曝光的角度eideal的狀態(tài)。該角度eid^與所述實(shí)施方式(1)同樣地從所述式13求得。在本實(shí)施方式(2)中，圖案形成裝置10被初期調(diào)節(jié)成各曝光頭30即各DMD36的安裝角度成為該角度eideal。圖12是表示在如上所述進(jìn)行初期調(diào)節(jié)的圖案形成裝置10中，在2個(gè)曝光頭(作為一例為曝光頭3012和3021)的X軸方向相關(guān)的相對(duì)位置從理想狀態(tài)偏離的影響下，在被曝光面上的圖案上產(chǎn)生濃度不均的例子的說(shuō)明圖。各曝光頭的X軸方向相關(guān)的相對(duì)位置的偏離可以由于難以微調(diào)節(jié)曝光頭間的相對(duì)位置而產(chǎn)生。圖12的上段部分是表示在使載物臺(tái)14靜止的狀態(tài)下，向感光材料12的被曝光面上投影的來(lái)自可以使用具有曝光頭3012和3021的DMD36的微鏡58的光點(diǎn)組的圖案的圖。圖12的下段部分是表示在表現(xiàn)如上段部分所示的光點(diǎn)組的圖案的狀態(tài)下使載物臺(tái)14移動(dòng)進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，對(duì)曝光范圍3212和3221在被曝光面上形成的曝光圖案的狀態(tài)的圖。其中，在圖12中，為了便于說(shuō)明，將可以使用的微鏡58的每隔l列的曝光圖案分成利用像素列組A的曝光圖案和利用像素列組B的曝光圖案表示，而實(shí)際的被曝光面上的曝光圖案重疊了這2個(gè)曝光圖案。在圖12的例子中，作為所述乂軸方向相關(guān)的曝光頭3012和3021之間的相對(duì)位置從理想狀態(tài)的偏離結(jié)果，在利用像素列組A的曝光圖案和利用像素列組B的曝光圖案的雙方，在曝光范圍3212和3221的所述頭間連接區(qū)域，相對(duì)于理想的2重曝光的狀態(tài)，產(chǎn)生曝光量過(guò)多的部分。為了減輕如上所述的利用多個(gè)所述曝光頭而在被曝光面上形成的所述頭間連接區(qū)域出現(xiàn)的濃度不均，在本實(shí)施方式(2)中，將縫隙28及光檢測(cè)器的組用作所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，對(duì)來(lái)自曝光頭3012和3021的光點(diǎn)組中構(gòu)成在被曝光面上形成的所述頭間連接區(qū)域的幾個(gè)光點(diǎn)，檢測(cè)其位置(座標(biāo))?；谠撐恢?座標(biāo))，使用與所述光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置作為所述描繪部選擇機(jī)構(gòu)，進(jìn)行選擇實(shí)際曝光中使用的微鏡的處理。_位置(座標(biāo))的檢測(cè)一圖13是表示與圖12同樣的曝光范圍3212及3221與對(duì)應(yīng)的縫隙28之間的位置關(guān)系的俯視圖。縫隙28的大小為充分覆蓋利用曝光頭3012和3021的己曝光區(qū)域34間的重復(fù)部分的寬度的大小，即充分覆蓋利用曝光頭3012和3021在被曝光面上形成的所述頭間連接區(qū)域的大小。圖14是表示作為一例檢測(cè)曝光范圍322的光點(diǎn)P(256，1024)的位置時(shí)的檢測(cè)方法的俯視圖。首先，在使第256行第1024列的微鏡點(diǎn)亮的狀態(tài)下，緩慢移動(dòng)載物臺(tái)14，沿著Y軸使縫隙28相對(duì)移動(dòng)，使縫隙28位于使光點(diǎn)P(256，1024)位于上游側(cè)的縫隙28a與下游側(cè)的縫隙28b之間的任意位置。此時(shí)的縫隙28a與縫隙28b之間的交點(diǎn)的座標(biāo)為(X0，Y0)。該座標(biāo)(X0，Y0)的值由直到給予載物臺(tái)14的驅(qū)動(dòng)信號(hào)所示的所述位置的載物臺(tái)14的移動(dòng)距離及己知的縫隙28的X方向位置來(lái)確定并被記錄。接著，使載物臺(tái)14移動(dòng)，使縫隙28沿著Y軸在圖14的右方相對(duì)移動(dòng)。那么，在圖14中，如兩點(diǎn)劃線(xiàn)所示，光點(diǎn)P(256，1024)的光通過(guò)左側(cè)的縫隙28b并被光檢測(cè)器檢測(cè)出后，使載物臺(tái)14停止。將此時(shí)的縫隙28a與縫隙28b的交點(diǎn)的座標(biāo)(X0，Yl)作為光點(diǎn)P(256，1024)的位置進(jìn)行記錄。接著，使載物臺(tái)14向相反方向移動(dòng)，使縫隙28沿著Y軸在圖14的左方相對(duì)移動(dòng)。那么，在圖14中，如兩點(diǎn)劃線(xiàn)所示，光點(diǎn)P(256，1024)的光通過(guò)右側(cè)的縫隙2Sa并被光檢測(cè)器檢測(cè)出后，使載物臺(tái)14停止。將此時(shí)的縫隙28a與縫隙28b的交點(diǎn)的座標(biāo)(X0，Y2)作為光點(diǎn)P(256，1024)的位置進(jìn)行記錄。從以上的測(cè)定結(jié)果，利用X二X0十(Y1—Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的計(jì)算，確定表示光點(diǎn)P(256，1024)在被曝光面上的位置的座標(biāo)(X，Y)。一不使用描繪部的確定一在圖12的例子中，首先利用縫隙28和光檢測(cè)器的組作為所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)曝光范圍32u的光點(diǎn)P(256，1)的位置。接著，按照P(256，1024)、P(256，1023)…的順序檢測(cè)曝光范圍3221的第256行的光點(diǎn)行r(256)上的各光點(diǎn)的位置，檢測(cè)表示大于曝光范圍32,2的光點(diǎn)P(256，1)的X座標(biāo)的曝光范圍322,的光點(diǎn)P(256，n)后，結(jié)束檢測(cè)動(dòng)作。接著，將對(duì)應(yīng)構(gòu)成從曝光范圍3221的光點(diǎn)光點(diǎn)列c(n+l)到c(1024)的光點(diǎn)的微鏡確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡(不使用描繪部)。例如，在圖12中，曝光范圍32u的光點(diǎn)P(256，1020)表示大于曝光范圍3212的光點(diǎn)P(256，1)的X座標(biāo)，如果在檢測(cè)該曝光范圍3221的光點(diǎn)P(256，1020)之后結(jié)束檢測(cè)動(dòng)作，對(duì)應(yīng)構(gòu)成相當(dāng)于在圖15中被斜線(xiàn)覆蓋的部分70的曝光范圍3221的第1021行1024行的光點(diǎn)的微鏡，在本曝光時(shí)被確定作為不使用的微孔。接著，相對(duì)N重曝光的數(shù)目N，檢測(cè)曝光范圍32^的光點(diǎn)P(256，N)的位置。在本實(shí)施方式(2)中，N=2，所以檢測(cè)光點(diǎn)P(256，2)的位置。接著，曝光范圍3221的光點(diǎn)列中，除了被確定作為對(duì)應(yīng)在所述本曝光時(shí)不使用的微鏡的光點(diǎn)列以外，將構(gòu)成最右側(cè)的第1020列的光點(diǎn)的位置，從P(1，1020)依次檢測(cè)為P(1，1020)、P(2，1020)…，檢測(cè)表示大于曝光范圍32,2的光點(diǎn)P(256，2)的X座標(biāo)的光點(diǎn)P(m，1020)后，結(jié)束檢測(cè)動(dòng)作。然后，在與所述光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置中，比較曝光范圍3212的光點(diǎn)P(256，2)的X座標(biāo)和曝光范圍3221的光點(diǎn)P(m，1020)及P(m一l，1020)的X座標(biāo)，曝光范圍322,的光點(diǎn)P(m,1020)的X座標(biāo)的一方接近曝光范圍32,2的光點(diǎn)P(256，2)的X座標(biāo)的情況下，對(duì)應(yīng)曝光范圍322,的從光點(diǎn)P(1，1020)到P(m—l，1020)的微鏡被確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。另外，曝光范圍3221的光點(diǎn)P(m—l，1020)的X座標(biāo)的一方接近曝光范圍32u的光點(diǎn)P(256，2)的X座標(biāo)的情況下，對(duì)應(yīng)曝光范圍3221的從光點(diǎn)P(1，1020)到P(m—2，1020)的微鏡被確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。進(jìn)而，對(duì)曝光范圍3212的光點(diǎn)P(256，N—l)即光點(diǎn)P(256，1)的位置和構(gòu)成作為曝光范圍3221的次列的第1019列的各光點(diǎn)的位置，也進(jìn)行同樣的檢測(cè)處理及不使用的微鏡的確定。結(jié)果，例如在圖15中對(duì)應(yīng)構(gòu)成用網(wǎng)格表示的區(qū)域72的光點(diǎn)的微鏡被追加為實(shí)際的曝光時(shí)不使用的微鏡。經(jīng)常向這些微鏡送來(lái)將該微鏡的角度設(shè)定為關(guān)狀態(tài)的角度的信號(hào)，這些微鏡實(shí)際上在曝光時(shí)不使用。這樣，通過(guò)確定在實(shí)際的曝光時(shí)不使用的微鏡，將除了該不使用的微鏡以外的微鏡選作實(shí)際曝光時(shí)使用的微鏡，在曝光范圍3212與3221的所述頭間連接區(qū)域，可以使相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域及成為曝光不足的區(qū)域的總面積為最小，如圖15的下段所示，可以實(shí)現(xiàn)極為接近理想的2重曝光的均一的曝光。其中，在所述例子中，在圖15中確定構(gòu)成用網(wǎng)格表示的區(qū)域72的光點(diǎn)時(shí)，也可以不比較曝光范圍32u的光點(diǎn)P(256，2)的X座標(biāo)和曝光范圍32^的光點(diǎn)P(m，1020)及P(m—l，1020)的X座標(biāo)，而立即將對(duì)應(yīng)曝光范圍3221的光點(diǎn)P(1，1020)到P(m—2，1020)的微鏡確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。這種情況下，在所述頭間連接區(qū)域，可以將相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積變得最小，而且不產(chǎn)生成為曝光不足的區(qū)域之類(lèi)的微鏡，選作實(shí)際使用的微鏡。另外，也可以將對(duì)應(yīng)曝光范圍322,的光點(diǎn)P(1，1020)到P(m—l，1020)的微鏡確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。這種情況下，在所述頭間連接區(qū)域，可以將相對(duì)理想的2重曝光成為曝光不足的區(qū)域的面積變得最小，而且不產(chǎn)生成為曝光過(guò)多的區(qū)域之類(lèi)的微鏡，選作實(shí)際使用的微鏡。進(jìn)而，在所述頭間連接區(qū)域，也可以在選擇實(shí)際使用的微鏡時(shí)，使相對(duì)理想的2重描繪成為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)(光點(diǎn)數(shù))與成為曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)(光點(diǎn)數(shù))相等。如上所述，如果利用使用圖案形成裝置10的本實(shí)施方式(2)的使用描繪部的指定方法，可以減輕多個(gè)曝光頭的X軸方向相關(guān)的相對(duì)位置的偏離引起的析像度的不均和濃度不均，實(shí)現(xiàn)理想的N重曝光。(3)多個(gè)曝光頭間的使用描繪部的指定方法<2>在本實(shí)施方式(3)中，對(duì)在利用圖案形成裝置IO，相對(duì)感光材料12進(jìn)行2重曝光的情況下、減輕在作為利用多個(gè)曝光頭30形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域、2個(gè)曝光頭(作為一例為曝光頭3012和302,)的X軸方向相關(guān)的相對(duì)位置從理想狀態(tài)偏離以及各曝光頭的安裝角度誤差及2個(gè)曝光頭間的相對(duì)安裝角度誤差引起的析像度的不均和濃度不均、用于實(shí)現(xiàn)理想的2重曝光的使用描繪部的指定方法進(jìn)行說(shuō)明。作為各曝光頭30即各DMD36的設(shè)定傾斜角度，如果為沒(méi)有曝光頭30的安裝角度誤差等的理想狀態(tài)，則采用使用可以使用的1024列X256行的描繪部(微鏡58)而恰好若干大于成為2重曝光的角度0^31的角度、、該角度eid^為使用所述式13與所述(1)的實(shí)施方式同樣地求得的值，在本實(shí)施方式中，如上所述，s=256、N二2，所以角度0^31約為0.45度。因而，作為設(shè)定傾斜角度e，例如也可以采用0.50度左右的角度。圖案形成裝置10在可以調(diào)節(jié)的范圍內(nèi)，被初期調(diào)節(jié)為各曝光頭30即各DMD36的安裝角度成為接近該設(shè)定傾斜角度6的角度。圖16是表示在將各曝光頭30即各DMD36的安裝角度如上所述初期調(diào)節(jié)的圖案形成裝置10中，在2個(gè)曝光頭(作為一例為曝光頭3012和3021)的安裝角度誤差以及各曝光頭3012和3021間的相對(duì)安裝角度誤差及相對(duì)位置的偏離的影響下，在被曝光面上的圖案上產(chǎn)生的不均的例子的說(shuō)明圖。在圖16的例子中，與圖12的例子相同，作為X軸方向相關(guān)的曝光頭3012和3021的相對(duì)位置的偏離的結(jié)果，在利用每隔一列的光點(diǎn)組(像素列組A及B)的曝光圖案的雙方，在曝光范圍3212與3221在與被曝光面上的所述曝光頭的掃描方向正交的坐標(biāo)軸上重復(fù)的曝光區(qū)域，產(chǎn)生與理想的2重曝光的狀態(tài)相比曝光量過(guò)多的區(qū)域74，這引起濃度不均。進(jìn)而，在圖16的例子中，由于使各曝光頭的設(shè)定傾斜角度e若干大于滿(mǎn)足所述式(1)的角度eid^的結(jié)果，另外還由于各曝光頭的安裝角度的微調(diào)節(jié)很困難，所以作為實(shí)際的安裝角度偏離所述設(shè)定傾斜角度e的結(jié)果，在與被曝光面上的所述曝光頭的掃描方向正交的坐標(biāo)軸上重復(fù)的曝光區(qū)域以外的區(qū)域，利用每隔一列光點(diǎn)組(像素列組A及B)的曝光圖案的雙方，在利用多個(gè)描繪部列形成的作為被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的描繪部列間連接區(qū)域，產(chǎn)生相對(duì)理想的2重曝光的狀態(tài)成為曝光過(guò)多的區(qū)域76，這引起了進(jìn)一步的濃度不均。在本實(shí)施方式(3)中，首先進(jìn)行用于減輕各曝光頭3012和3021的安裝角度誤差及相對(duì)安裝角度的偏離的影響下產(chǎn)生的濃度不均的使用像素選擇處理。具體而言，將縫隙28及光檢測(cè)器的組用作所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，對(duì)每個(gè)曝光頭3012和3021，確定實(shí)際傾斜角度e'，基于該實(shí)際傾斜角度e'，將與光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置用作所述描繪部選擇機(jī)構(gòu)，進(jìn)行選擇實(shí)際的曝光中使用的微鏡的處理。一實(shí)際傾斜角度e'的確定一實(shí)際傾斜角度e'的確定是通過(guò)利用在所述實(shí)施方式(2)中使用的縫隙28和光檢測(cè)器的組分別檢測(cè)，對(duì)于曝光頭30,2而言的曝光范圍3212內(nèi)的光點(diǎn)P(1，1)和P(256，1)的位置，對(duì)于曝光頭3021而言的曝光范圍322!內(nèi)的光點(diǎn)P(1，1024)和P(256，1024)的位置，測(cè)定連接它們的直線(xiàn)的傾斜角度與曝光頭的掃描方向所成角度來(lái)進(jìn)行的。一不使用描繪部的確定一使用如上所述確定的實(shí)際傾斜角度e'，與光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置與所述實(shí)施方式(1)中的運(yùn)算裝置同樣，分別對(duì)于曝光頭3012和3021，導(dǎo)出滿(mǎn)足下述式4ttane，二N(式4)的關(guān)系的值t最近的自然數(shù)T，進(jìn)行將DMD36上的第(T+1)行到第256行的微鏡確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。例如，如果對(duì)于曝光頭3012導(dǎo)出T=254、對(duì)于曝光頭3021導(dǎo)出T=255，在圖17中對(duì)應(yīng)構(gòu)成用斜線(xiàn)覆蓋的部分78及80的光點(diǎn)的微鏡被確定作為本曝光中不使用的微鏡。這樣，在曝光頭3212和3221中頭間連接區(qū)域以外的各區(qū)域，可以使相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域及成為曝光不足的區(qū)域的總面積成為最小。在此，也可以代替導(dǎo)出與所述值t相近的自然數(shù)，而導(dǎo)出值t以上的最小的自然數(shù)。這種情況下，在曝光范圍3212和3221的作為利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的各區(qū)域中，可以將相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積變得最小而且不產(chǎn)生成為曝光不足的面積?；蛘撸部梢詫?dǎo)出值t以下的最大的自然數(shù)。這種情況下，在曝光范圍3212和3221的作為利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的各區(qū)域中，可以將相對(duì)理想的2重曝光成為曝光不足的區(qū)域的面積變得最小而且不產(chǎn)生成為曝光過(guò)多的區(qū)域。在作為利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的各區(qū)域中，也可以在確定本曝光時(shí)不使用的微鏡時(shí)，使相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)(光點(diǎn)數(shù))與成為曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)(光點(diǎn)數(shù))變得相等。然后，關(guān)于在圖17中對(duì)應(yīng)構(gòu)成用斜線(xiàn)覆蓋的區(qū)域78及80的光點(diǎn)以外的微鏡，進(jìn)行與使用圖1215說(shuō)明的本實(shí)施方式(3)同樣的處理，確定在圖17中對(duì)應(yīng)構(gòu)成用斜線(xiàn)覆蓋的區(qū)域82及用網(wǎng)格表示的區(qū)域84的光點(diǎn)的微鏡，追加作為在本曝光時(shí)不使用的微鏡。相對(duì)被確定作為這些曝光時(shí)不使用的微鏡，利用所述描繪部控制機(jī)構(gòu)，傳送設(shè)定成經(jīng)常關(guān)狀態(tài)的角度的信號(hào)，這些微鏡實(shí)際上不參與曝光。如上所述，如果利用使用圖案形成裝置10的本實(shí)施方式(3)的使用描繪部的指定方法，可以減輕多個(gè)曝光頭的X軸方向相關(guān)的相對(duì)位置的偏離以及各曝光頭的安裝角度誤差及曝光頭間的相對(duì)安裝角度誤差引起的析像度的不均或濃度不均，實(shí)現(xiàn)理想的N重曝光。以上對(duì)利用圖案形成裝置10的使用描繪部指定方法進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但所述實(shí)施方式(1)(3)只不過(guò)為一例，可以在不脫離本發(fā)明的范圍下進(jìn)行各種變更。另外，在所述實(shí)施方式(1)(3)中，作為用于檢測(cè)被曝光面上的光點(diǎn)的位置的機(jī)構(gòu)，使用縫隙28和單一單元型的光檢測(cè)器的組，但也可以不限于此而使用任意方式的機(jī)構(gòu)，例如可以使用二維檢測(cè)器等。進(jìn)而，在所述實(shí)施方式(1)(3)中，從利用縫隙28和光檢測(cè)器的組進(jìn)行被曝光面上的光點(diǎn)的位置檢測(cè)結(jié)果求得實(shí)際傾斜角度e'，選擇基于該實(shí)際傾斜角度e，使用的微鏡，但也可以為選擇可以不經(jīng)過(guò)實(shí)際傾斜角度e，的導(dǎo)出而使用的微鏡的方式。進(jìn)而，例如通過(guò)進(jìn)行使用所有可以使用的微鏡的參照曝光，利用目視參照曝光結(jié)果來(lái)確認(rèn)析像度或濃度的不均等，從而用手動(dòng)指定操作者使用的微鏡的方式也被包括的本發(fā)明的范圍。此外，在被曝光面上產(chǎn)生得到的圖案偏斜，除了在所述例子中說(shuō)明的角度偏斜以外，還存在各種方式。作為一例，如圖18A所示，來(lái)自DMD36上的各微鏡58的光線(xiàn)，存在以不同倍率到達(dá)曝光面上的曝光范圍32的倍率偏斜的方式。另外，作為其他例子，如圖18B所示，來(lái)自DMD36上的各微鏡58的光線(xiàn)，還存在以不同的光束直徑到達(dá)被曝光面上的曝光范圍32的光束直徑偏斜的方式。這些倍率偏斜及光束直徑偏斜主要由于DMD36與被曝光面間的光學(xué)系的各種像差或定位偏離引起產(chǎn)生。進(jìn)而作為另一個(gè)例子，來(lái)自DMD36上的各微鏡58的光線(xiàn)，還存在以不同的光量到達(dá)被曝光面上的曝光范圍32的光量偏斜的方式。該光量偏斜除了各種像差或定位偏離以外，還由于DMD36與被曝光面間的光學(xué)要素(例如作為1張透鏡的圖5的透鏡52及54)的透過(guò)率的位置依存性或DMD36本身引起的光量不均引起產(chǎn)生。這些方式的圖案偏斜也在被曝光面上形成的圖案產(chǎn)生析像度或濃度的不均。利用所述實(shí)施方式(1)(3)，在選擇本曝光中實(shí)際使用的微鏡之后的這些方式的圖案偏斜的殘留要素，也可以與所述角度偏斜的殘留要素同樣地用利用多重曝光的補(bǔ)償效果來(lái)平均，可以在各曝光頭的整個(gè)曝光區(qū)域減輕析像度或濃度不均。《參照曝光》作為所述實(shí)施方式(1)(3)的變更例，為了只使用構(gòu)成可以使用的微鏡中的每隔(N—l)列的微鏡列或全光點(diǎn)行中相當(dāng)于1/N行的相鄰行的微鏡組進(jìn)行參照曝光，可以實(shí)現(xiàn)均一的曝光，也可以確定在所述參照曝光中使用的微鏡中實(shí)際曝光時(shí)不使用的微鏡。取樣輸出利用所述參照曝光機(jī)構(gòu)的參照曝光的結(jié)果，相對(duì)該輸出的參照曝光結(jié)果，確認(rèn)析像度的不均或濃度的不均，進(jìn)行推斷實(shí)際傾斜角度等的分析。所述參照曝光的結(jié)果的分析也可以為利用操作者的目視的分析。圖19是表示使用單一曝光頭，只使用每隔(N—l)列的微鏡進(jìn)行參照曝光的方式的一例的說(shuō)明圖。在該例中，本曝光時(shí)為2重曝光，因而N二2。首先，只使用對(duì)應(yīng)圖19A中用實(shí)線(xiàn)表示的奇數(shù)列的光點(diǎn)列的微鏡，進(jìn)行參照曝光，取樣輸出參照曝光結(jié)果。通過(guò)基于所述取樣輸出的參照曝光結(jié)果，確認(rèn)析像度的不均或濃度的不均或者推斷實(shí)際傾斜角度，可以指定在本曝光時(shí)使用的微鏡。例如，對(duì)應(yīng)圖19B中用斜線(xiàn)覆蓋的光點(diǎn)列的微鏡以外的微鏡，被指定作為在構(gòu)成奇數(shù)列的光點(diǎn)列的微鏡中的本曝光中實(shí)際使用的微鏡。對(duì)應(yīng)偶數(shù)列的光點(diǎn)列，也可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定本曝光時(shí)使用的微鏡，也可以適用與相對(duì)奇數(shù)列的光點(diǎn)列的圖案相同的圖案。可以通過(guò)這樣指定在本曝光時(shí)使用的微鏡，在使用奇數(shù)列及偶數(shù)列雙方的微鏡的本曝光中，實(shí)現(xiàn)接近理想的2重曝光的狀態(tài)。圖20是表示使用多個(gè)曝光頭，只使用每隔(N—l)列的微鏡進(jìn)行參照曝光的方式的一例的說(shuō)明圖。在該例中，本曝光時(shí)為2重曝光，因而N二2。首先，只使用對(duì)應(yīng)圖20中用實(shí)線(xiàn)表示的X軸方向相關(guān)的相鄰的2個(gè)曝光頭(作為一例為3012和3021)的奇數(shù)列的光點(diǎn)列的微鏡，進(jìn)行參照曝光，取樣輸出參照曝光結(jié)果。通過(guò)基于所述輸出的參照曝光結(jié)果，確認(rèn)利用2個(gè)曝光頭在被曝光面上形成的頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域中的析像度的不均或濃度的不均或者推斷實(shí)際傾斜角度，可以指定在本曝光時(shí)使用的微鏡。例如，對(duì)應(yīng)圖20中用斜線(xiàn)覆蓋表示的區(qū)域86及用網(wǎng)格表示的區(qū)域88內(nèi)的光點(diǎn)列的微鏡以外的微鏡，被指定作為在構(gòu)成奇數(shù)列的光點(diǎn)的微鏡中在本曝光時(shí)實(shí)際使用的微鏡。對(duì)應(yīng)偶數(shù)列的光點(diǎn)列，也可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定本曝光時(shí)使用的微鏡，也可以適用與相對(duì)第奇數(shù)列的像素列的圖案相同的圖案?？梢酝ㄟ^(guò)這樣指定在本曝光時(shí)使用的微鏡，在使用奇數(shù)列及偶數(shù)列雙方的微鏡的本曝光中，在利用2個(gè)曝光頭在被曝光面上形成的所述頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域，實(shí)現(xiàn)接近理想的2重曝光的狀態(tài)。圖21是表示使用單一曝光頭，只使用構(gòu)成相當(dāng)于全光點(diǎn)行數(shù)的1/N行的相鄰的行的微鏡組進(jìn)行參照曝光的方式的一例的說(shuō)明圖。在該例中，本曝光時(shí)為2重曝光，因而N二2。首先，只使用對(duì)應(yīng)圖21A中用實(shí)線(xiàn)表示的第1行第128(二256/2)行的光點(diǎn)的微鏡，進(jìn)行參照曝光，取樣輸出參照曝光結(jié)果?？梢酝ㄟ^(guò)基于所述取樣輸出的參照曝光結(jié)果，指定在本曝光時(shí)使用的微鏡。例如，對(duì)應(yīng)圖21B中用斜線(xiàn)覆蓋表示的光點(diǎn)組的微鏡以外的微鏡，可以被指定作為在第1行第128行的微鏡中的本曝光時(shí)實(shí)際使用的微鏡。對(duì)于第129行第256行的微鏡，也可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定本曝光時(shí)使用的微鏡，也可以適用與相對(duì)第1行第128行的微鏡的圖案相同的圖案?？梢酝ㄟ^(guò)這樣指定在本曝光時(shí)使用的微鏡，在使用全體微鏡的本曝光中，實(shí)現(xiàn)接近理想的2重曝光的狀態(tài)。圖22是表示使用多個(gè)曝光頭，對(duì)于X軸方向相關(guān)的相鄰的2個(gè)曝光頭(作為一例的曝光頭3012和3021)，只使用分別構(gòu)成相當(dāng)于全光點(diǎn)行數(shù)的1/N行的相鄰的行的微鏡組進(jìn)行參照曝光的方式的一例的說(shuō)明圖。在該例中，本曝光時(shí)為2重曝光，因而N二2。首先，只使用對(duì)應(yīng)圖22中用實(shí)線(xiàn)表示的第1行第128(=256/2)行的光點(diǎn)的微鏡，進(jìn)行參照曝光，取樣輸出參照曝光結(jié)果。通過(guò)基于所述取樣輸出的參照曝光結(jié)果，可以指定在本曝光時(shí)使用的微鏡，使其能夠?qū)崿F(xiàn)將利用2個(gè)曝光頭在被曝光面上形成的頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域中的析像度的不均或濃度的不均控制在最小限度的本曝光(本露光)。例如，對(duì)應(yīng)圖22中用斜線(xiàn)覆蓋表示的區(qū)域90及用網(wǎng)格表示的區(qū)域92內(nèi)的光點(diǎn)列的微鏡以外的微鏡，被指定作為在第1行第128行的微鏡中在本曝光時(shí)實(shí)際使用的微鏡。對(duì)于第129行第256行的微鏡，也可以另外同樣地進(jìn)行參照曝光，指定本曝光時(shí)使用的微鏡，也可以適用與相對(duì)第1行第128行的微鏡的圖案相同的圖案。可以通過(guò)這樣指定在本曝光時(shí)使用的微鏡，在利用2個(gè)曝光頭在被曝光面上形成的所述頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域，實(shí)現(xiàn)接近理想的2重曝光的狀態(tài)。在以上的實(shí)施方式(1)(3)及變更例中，均對(duì)本曝光為2重曝光的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但不限定于此，也可以為2重曝光以上的任意多重曝光。特別是可以通過(guò)使其為3重曝光7重曝光，實(shí)現(xiàn)確保高析像度，減輕析像度的不均及濃度不均的曝光。另外，為了使圖像數(shù)據(jù)所表示的二維圖案的規(guī)定部分的尺寸與可以利用選擇的使用像素實(shí)現(xiàn)的對(duì)應(yīng)部分的尺寸一致，優(yōu)選在所述實(shí)施方式及變更例中的曝光裝置中進(jìn)一步設(shè)置轉(zhuǎn)換圖像數(shù)據(jù)的機(jī)構(gòu)。可以通過(guò)這樣轉(zhuǎn)換圖像數(shù)據(jù)，在被曝光面上形成按照需要的二維圖案的高精細(xì)的圖案。[層疊體]作為所述曝光的對(duì)象，只要是使用至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑和熱交聯(lián)劑的感光性組合物在基材的表面形成的感光層即可，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇。作為所述感光層，可以舉出通過(guò)在基材的表面涂敷、千燥所述感光性組合物而形成的第一方式的感光層，及通過(guò)在加熱及加壓的至少一種條件下在基材的表面層疊對(duì)具有支撐體和在該支撐體上層疊感光性組合物而成的感光層的感光性薄膜而形成的第二方式的感光層。作為所述基材，沒(méi)有特別限制，可以從公知的材料中，從表面平滑性高的基材到具有有凸凹的表面的基材中適當(dāng)選擇，優(yōu)選板狀基材(基板)，具體而言，可以舉出公知的印刷線(xiàn)路板形成用基板(例如鍍銅疊層板)、玻璃板(例如鈉玻璃板等)、合成樹(shù)脂性薄膜、紙、金屬板等，其中，優(yōu)選印刷線(xiàn)路板形成用基板，從可以用于半導(dǎo)體等向多層布線(xiàn)基板或內(nèi)裝布線(xiàn)基板等的高密度實(shí)裝的點(diǎn)出發(fā)，該印刷線(xiàn)路板形成用基板特別優(yōu)選已形成布線(xiàn)。作為所述感光性組合物，至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、及熱交聯(lián)劑，根據(jù)需要也可以含有著色顏料、填充顏料、熱聚合抑制劑、表面活性劑等其他成分。<粘合劑>作為所述粘合劑，例如優(yōu)選對(duì)堿性水溶液顯示出溶脹性的粘合劑，更優(yōu)選對(duì)堿性水溶液顯示出可溶性的粘合劑。作為對(duì)堿性水溶液顯示出溶脹性或溶解性的粘合劑，例如可以舉出具有酸性基的粘合劑。作為所述粘合劑，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出特開(kāi)昭51—131706號(hào)、特開(kāi)昭52—94388號(hào)、特開(kāi)昭64—62375號(hào)、特開(kāi)平2—97513號(hào)、特開(kāi)平3—289656號(hào)、特開(kāi)平61—243869號(hào)、特開(kāi)2002—296776號(hào)等各公報(bào)中記載的具有酸性基的環(huán)氧丙烯酸酯化合物。具體而言，為苯酚酚醛清漆型環(huán)氧丙烯酸酯或者甲酚酚醛清漆環(huán)氧丙烯酸酯、雙酚A型環(huán)氧丙烯酸酯等，例如(甲基)丙烯酸等含羧基單體與環(huán)氧樹(shù)脂或多官能環(huán)氧化合物發(fā)生反應(yīng)，進(jìn)而加成鄰苯二甲酸酐等二元酸酐得到的產(chǎn)物。所述環(huán)氧丙烯酸酯化合物的分子量?jī)?yōu)選為1，000200，000，更優(yōu)選為2，000100，000。如果該分子量不到1，000，則感光層表面的粘性(tack)有時(shí)變強(qiáng)，在進(jìn)行后述的感光層的固化后，有時(shí)會(huì)發(fā)生膜質(zhì)變脆或者表面硬度惡化，如果超過(guò)200，000，則顯影性有時(shí)惡化。另外，也可以使用特開(kāi)平6—295060號(hào)公報(bào)等中記載的至少具有一個(gè)酸性基及雙鍵等可以聚合的基團(tuán)的丙烯酸樹(shù)脂。具體而言，可以使用在分子內(nèi)至少具有一個(gè)可以聚合的雙鍵，例如(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰胺基等的丙烯酸基，羧酸的乙烯酯、乙烯醚、烯丙醚等各種聚合性雙鍵。更具體而言，可以舉出向含有作為酸性基的羧基的丙烯酸樹(shù)脂，加成縮水甘油基丙烯酸酯、縮水甘油基甲基丙烯酸酯、桂皮酸等不飽和脂肪酸的縮水甘油酸酯或在同一分子中具有環(huán)己烯氧化物等環(huán)氧基和(甲基)丙烯?；幕衔锏群h(huán)氧基的聚合性化合物得到的化合物等。另外，還可以舉出向含有酸性基及羥基的丙烯酸樹(shù)脂加成異氰酸酯(甲基)丙烯酸乙酯等含異氰酸酯基的聚合性化合物得到的化合物，向含有酐基的丙烯酸樹(shù)脂加成(甲基)丙烯酸羥基垸基酯等含有羥基的聚合性化合物得到的化合物等。作為它們的市售品，例如可以使用"力氺力W-yAXE;鐘淵化學(xué)工業(yè)(株)制"、"廿^夕口7—(CYCLOMER)A—200;夕'^七/P化學(xué)工業(yè)(株)制"、"寸一夕口^一(CYCLOMER)M—200;夕、V七乂W七學(xué)工業(yè)(株)制"等。進(jìn)而，還可以使用特開(kāi)昭50—59315號(hào)公報(bào)中記載的丙烯酸羥基烷基酯或甲基丙烯酸羥基垸基酯與聚羧酸酐及表鹵醇的任意一種之間的反應(yīng)物等。另外，還可以使用特開(kāi)平5—7052S號(hào)公報(bào)中記載的向具有芴骨架的環(huán)氧丙烯酸酯加成酸酐得到的化合物，特開(kāi)平11一288087號(hào)公報(bào)中記載的聚酰胺(酰亞胺)樹(shù)脂，特開(kāi)平2—097502號(hào)公報(bào)或特開(kāi)2003—20310號(hào)公報(bào)中記載的含有酰胺基的苯乙烯或苯乙烯衍生物與酸酐共聚物、特開(kāi)平11_282155號(hào)公報(bào)中記載的聚酰亞胺前體等。它們可以單獨(dú)使用一種或混合使用兩種以上。所述丙烯酸樹(shù)脂、具有芴骨架的環(huán)氧丙烯酸酯、聚酰胺(酰亞胺)、含有酰胺基的苯乙烯/酸酐共聚物、或者聚酰亞胺前體等粘合劑的分子量?jī)?yōu)選為3，000500，000，更優(yōu)選為5，000100，000。如果該分子量不到3，000，則感光層表面的粘性有時(shí)會(huì)變強(qiáng)，在進(jìn)行后述的感光層的固化之后，有時(shí)膜質(zhì)會(huì)變脆或者表面硬度會(huì)變差，如果超過(guò)500，000，則顯影液有時(shí)會(huì)變差。所述粘合劑在所述感光性組合物固體成分中的固體成分含量，優(yōu)選為580質(zhì)量％，更優(yōu)選為1070質(zhì)量％。該固體成分含量如果不到5質(zhì)量％，則感光層的膜強(qiáng)度容易變?nèi)酰摳泄鈱拥谋砻娴恼承杂袝r(shí)會(huì)惡化，如果超過(guò)50質(zhì)量。％，則曝光靈敏度有時(shí)會(huì)降低。<聚合性化合物>作為所述聚合性化合物，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選分子中至少具有一個(gè)可以加聚的基、沸點(diǎn)在常壓下為IO(TC以上的化合物，例如可以?xún)?yōu)選舉出從具有(甲基)丙烯酸基的單體中選擇的至少一種。作為所述具有(甲基)丙烯酸基的單體，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯等單官能丙烯酸酯或單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯?；u基丙基)醚、三(丙烯酰基羥基乙基)三聚異氰酸酯、三(丙烯酰基羥基乙基)氰尿酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷或甘油、雙酚等多官能醇加成反應(yīng)環(huán)氧乙垸或環(huán)氧丙垸之后進(jìn)行(甲基)丙烯酸酯化的產(chǎn)物；特公昭48—41708號(hào)、特公昭50_6034號(hào)、特開(kāi)昭51—37193號(hào)等各公報(bào)中記載的氨基甲酸酯丙烯酸酯類(lèi)；特開(kāi)昭48—64183號(hào)、特公昭49—43191號(hào)、特公昭52—30490號(hào)等各公報(bào)中記載的聚酯丙烯酸酯類(lèi)；作為環(huán)氧樹(shù)脂與(甲基)丙烯酸的反應(yīng)產(chǎn)物的環(huán)氧丙烯酸酯類(lèi)等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。其中，特別優(yōu)選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。所述聚合性化合物在所述感光性組合物固體成分中的固體成分含量，優(yōu)選為550質(zhì)量％，更優(yōu)選為1040質(zhì)量％。如果所述固體成分含量不到5質(zhì)量％，則會(huì)產(chǎn)生顯影性的惡化、曝光靈敏度的降低等問(wèn)題，如果超過(guò)50質(zhì)量％，則感光層的粘合性有時(shí)會(huì)變得過(guò)強(qiáng)，不優(yōu)選。<光聚合引發(fā)劑〉作為所述光聚合引發(fā)劑，只要具有引發(fā)所述聚合性化合物的聚合的能力，則沒(méi)有特別限制，可以從公知的光聚合引發(fā)劑中適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選對(duì)紫外線(xiàn)區(qū)域到可見(jiàn)的光線(xiàn)具有感光性的光聚合引發(fā)劑，可以為與被光激發(fā)的增感劑發(fā)生某種作用、產(chǎn)生活性自由基的活化劑，也可以為對(duì)應(yīng)單體的種類(lèi)而引發(fā)陽(yáng)離子聚合的引發(fā)劑。另外，所述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選至少含有一種在約300800nm的范圍內(nèi)至少具有約50的摩爾消光系數(shù)的成分。所述波長(zhǎng)特別優(yōu)選為330500腿。作為所述光聚合引發(fā)劑，例如可以舉出鹵代烴衍生物(例如具有三嗪骨架的、具有噁二唑骨架的、具有噁二唑骨架的鹵化烴衍生物等)、氧化膦、六芳基聯(lián)二咪唑、肟衍生物、有機(jī)過(guò)氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎗鹽、甲酮肟等。作為所述光聚合引發(fā)劑，具體而言例如可以舉出特開(kāi)2005_258431號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)及段落編號(hào)中記載的化合物等。作為在本發(fā)明中優(yōu)選使用的肟衍生物，例如可以舉出3—苯甲酰氧基亞氨基丁垸一2—酮、3—乙酰氧基亞氨基丁烷一2—酮、3—丙酰氧基亞氨基丁烷—2—酮、2—乙酰氧基亞氨基戊一3—酮、2—乙酰氧基亞氨基一1一苯基丙垸一1一酮、2—苯甲酰氧基亞氨基一1一苯基丙垸一1一酮、3—(4一甲苯磺?；?亞氨基丁烷一2—酮及2—乙氧羰基氧亞氨基一1一苯基丙烷一1—酮等。另外，為了調(diào)節(jié)后述的對(duì)感光層的曝光中的曝光強(qiáng)度或感光波長(zhǎng)，除了所述光聚合引發(fā)劑，還可以添加增感劑?？梢愿鶕?jù)作為后述的光照射機(jī)構(gòu)的可見(jiàn)光線(xiàn)或紫外光激光及可見(jiàn)光激光等來(lái)適當(dāng)選擇所述增感劑。所述增感劑在活性能量線(xiàn)的作用下成為激發(fā)狀態(tài)，可以通過(guò)與其他物質(zhì)(例如自由基產(chǎn)生劑、酸產(chǎn)生劑等)相互作用(例如能量移動(dòng)、電子移動(dòng)等)，產(chǎn)生自由基或酸等有用基。作為所述增感劑，沒(méi)有特別限制，可以從公知的增感劑中適當(dāng)選擇，例如可以舉出特開(kāi)2005—258431號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)中記載的化合物等。上述增感劑的含量，相對(duì)所述感光性組合物中的全部成分，優(yōu)選為0.0530質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.120質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.210質(zhì)量％。該含量如果不到0.05質(zhì)量％，那么有時(shí)對(duì)活性能量線(xiàn)的靈敏度降低，曝光過(guò)程耗費(fèi)時(shí)間，生產(chǎn)率降低，如果超過(guò)30質(zhì)量％，那么有時(shí)在保存時(shí)上述增感劑從上述感光層析出。所述光聚合引發(fā)劑可以單獨(dú)使用一種，也可以并用兩種以上。作為所述光聚合引發(fā)劑的特別優(yōu)選的例子，在后述的曝光中，可以對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)405nm的激光的組合上述氧化膦類(lèi)、上述a—氨基烷基酮類(lèi)、上述具有三嗪骨架的鹵代烴化合物與后述的作為增感劑的胺化合物的合成光引發(fā)劑，六芳基聯(lián)二咪唑化合物，或者二茂鈦(titanocene)等。作為上述光聚合引發(fā)劑在上述感光性組合物中的含量，優(yōu)選為0.130質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.520質(zhì)量％，特別優(yōu)選0.515質(zhì)量％。<熱交聯(lián)劑>作為所述熱交聯(lián)劑，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，為了改良用感光性組合物形成的感光層在固化后的膜強(qiáng)度，在不給顯影性等帶來(lái)不良影響的范圍內(nèi)，例如可以使用在1分子內(nèi)至少具有2個(gè)環(huán)氧乙烷基的環(huán)氧樹(shù)脂化合物、在1分子中至少具有2個(gè)氧雜環(huán)丁烷基的氧雜環(huán)丁垸(oxetane)化合物。作為所述環(huán)氧化合物，例如可以舉出聯(lián)二甲苯酚型或聯(lián)酚型環(huán)氧樹(shù)脂("YX4000日本環(huán)氧樹(shù)脂(JapanEpoxyResin)公司制"等)或它們的混合物、具有三聚異氰酸酯骨架等的雜環(huán)式環(huán)氧樹(shù)脂("TEIPIC;日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)公司制"、"7歹少夕、'一卜PT810;千葉特殊化學(xué)藥品(CIBASPECIALTYCHEMICALS)公司制"等)、雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂、酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚F型環(huán)氧樹(shù)脂、氫化雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂、縮水甘油胺型環(huán)氧樹(shù)脂、乙內(nèi)酰脲型環(huán)氧樹(shù)脂、脂環(huán)式環(huán)氧樹(shù)脂、三羥基苯基甲烷型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚S型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚A型酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂、四苯酚基乙烷型環(huán)氧樹(shù)脂、鄰苯二甲酸縮水甘油基酯樹(shù)脂、四縮水甘油基二甲苯?；彝闃?shù)脂、含萘基環(huán)氧樹(shù)脂("ESN—190、ESN—360;新日鐵化學(xué)公司制"、"HP—4032、EXA—4750、EXA—4700;大日本油墨化學(xué)工業(yè)公司制"等)、具有雙環(huán)戊二烯骨架的環(huán)氧樹(shù)脂("HP—7200、HP—7200H;大曰本油墨化學(xué)工業(yè)公司制"等)、縮水甘油甲基丙烯酸酯共聚物系環(huán)氧樹(shù)脂("CP—50S、CP—50M;日本油脂公司制"等)、環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺與縮水甘油甲基丙烯酸酯的共聚合環(huán)氧樹(shù)脂等，但不被這些所限定。這些環(huán)氧樹(shù)脂可以單獨(dú)使用一種或并用兩種以上。作為所述氧雜環(huán)丁垸化合物，例如可以舉出雙[(3—甲基一3—氧雜環(huán)丁垸基甲氧基)甲基]醚、雙[(3—乙基一3—氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]醚、1，4一雙[(3—甲基一3—氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]苯、1，4一雙[(3—乙基一3—氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]苯、丙烯酸(3_甲基一3—氧雜環(huán)丁烷基)甲基酯、丙烯酸(3—乙基一3—氧雜環(huán)丁垸基)甲基酯、甲基丙烯酸(3—甲基一3—氧雜環(huán)丁烷基)甲基酯、甲基丙烯酸(3一乙基一3—氧雜環(huán)丁烷基)甲基酯或它們的寡聚物或者共聚物等多官能氧雜環(huán)丁烷類(lèi)，除此以外，還可以舉出氧雜環(huán)丁烷基與酚醛清漆樹(shù)脂、聚(對(duì)羥基苯乙烯)、卡爾多(力/^K)型雙酚類(lèi)、杯(Calix，力yy夕7)芳烴類(lèi)、杯(Calix，力y、乂夕7)間苯二酚芳烴類(lèi)、倍半硅氧烷(Silsesquioxane，、乂/lHr7年才年寸乂)等具有羥基的樹(shù)脂等之間的醚化合物，此外，還可以舉出具有氧雜環(huán)丁烷環(huán)的不飽和單體與(甲基)丙烯酸烷基酯之間的共聚物等。所述環(huán)氧樹(shù)脂化合物或氧雜環(huán)丁烷化合物在所述感光性組合物固體成分中的固體成分含量?jī)?yōu)選為150質(zhì)量％，更優(yōu)選為330質(zhì)量％。如果該固體成分含量不到1質(zhì)量％，則有時(shí)固化膜的吸濕性變高，發(fā)生絕緣性的劣化，或者焊錫耐熱性或耐非電解鍍敷性等降低，如果超過(guò)50質(zhì)量。％，則有時(shí)發(fā)生顯影性的惡化或曝光靈敏度的降低，不優(yōu)選。另外，為了促進(jìn)所述環(huán)氧樹(shù)脂化合物或所述氧雜環(huán)丁烷化合物的熱固化，例如可以使用雙氰胺、芐基二甲胺、4一(二甲胺基)一N，N—二甲芐胺、4—甲氧基一N，N—二甲芐胺、4一甲基一N，N—二甲芐胺等胺化合物；三乙基芐基氯化銨等季銨鹽化合物；二甲胺等嵌段異氰酸酯化合物；咪唑、2—甲基咪唑、2—乙基咪唑、2—乙基一4一甲基咪唑、2—苯基咪唑、4一苯基咪唑、l一氰乙基一2—苯基咪唑、l一(2—氰乙基)_2—乙基一4一甲基咪唑等咪唑衍生物二環(huán)式脒化合物及其鹽；三苯膦等磷化合物；蜜胺、鳥(niǎo)糞胺、甲基胍胺、苯鳥(niǎo)糞胺等鳥(niǎo)糞胺化合物；2，4一二氨基一6—甲基丙烯酰氧基乙基一S—三嗪、2—乙烯基一2，4一二氨基一S—三嗪、2—乙烯基—4，6—二氨基一S—三嗪'三聚異氰酸加成物、2，4—二氨基一6—甲基丙烯酰氧基乙基一S—三嗪"三聚異氰酸加成物等S—三嗪衍生物等。它們可以單獨(dú)使用一種或并用兩種以上。此外，只要是所述環(huán)氧樹(shù)脂化合物或所述氧雜環(huán)丁垸化合物的固化催化劑或者可以促進(jìn)羧基與它們進(jìn)行反應(yīng)的物質(zhì)即可，沒(méi)有特別限制，也可以使用上述以外的可以促進(jìn)熱固化的化合物。所述環(huán)氧樹(shù)脂、所述氧雜環(huán)丁烷化合物以及可以促進(jìn)羧酸與它們進(jìn)行熱固化的化合物，在所述感光性組合物固體成分中的固體成分含量通常為0.0115質(zhì)量％。另外，作為所述熱交聯(lián)劑，可以使用特開(kāi)平5—9407號(hào)公報(bào)中記載的聚異氰酸酯化合物，該聚異氰酸酯化合物也可以從至少含有兩個(gè)異氰酸酯基的脂肪族、環(huán)式脂肪族或芳基取代脂肪族化合物衍生而來(lái)。具體而言，可以舉出1，3—亞苯基二異氰酸酯與1，4一亞苯基二異氰酸酯的混合物、2，4一及2，6—甲苯二異氰酸酯、1，3_及1，4一二甲苯二異氰酸酯、雙(4一異氰酸酯一苯基)甲垸、雙(4—異氰酸酯環(huán)己基)甲烷、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯等二官能異氰酸酯；該二官能異氰酸酯與三羥甲基丙烷、季戊四醇、甘油等之間的多官能醇；該多官能醇的環(huán)氧垸烴加成物與所述二官能異氰酸酯之間的加成物；六亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基一l，6—二異氰酸酯及其衍生物等的環(huán)式三聚體等。進(jìn)而，為了提高本發(fā)明的感光性組合物或本發(fā)明的感光性薄膜的保存性，也可以使用使嵌段劑與所述聚異氰酸酯及其衍生物的異氰酸酯基反應(yīng)得到的化合物。作為所述異氰酸酯基嵌段劑，可以舉出異丙醇、叔丁醇等醇類(lèi)；S—己內(nèi)酰胺等內(nèi)酰胺類(lèi)；苯酚、甲酚、對(duì)叔丁基苯酚、對(duì)仲丁基苯酚、對(duì)仲戊基苯酚、對(duì)辛基苯酚、對(duì)壬基苯酚等苯酚類(lèi)；3—羥基吡啶、8_羥基喹啉等雜環(huán)式羥基化合物；丙二酸二垸基酯、甲基乙基甲酮肟、乙酰丙酮、烷基乙酰乙酸肟、丙酮肟、環(huán)己酮肟等活性亞甲基化合物等。此外，還可以使用特開(kāi)平6_295060號(hào)公報(bào)中記載的在分子內(nèi)具有至少一個(gè)可以聚合的雙鍵及至少一個(gè)嵌段異氰酸酯基的任意一方的化合物等。另外，還可以使用醛縮合產(chǎn)物、樹(shù)脂前體等。具體而言，可以舉出N，N，一二羥甲脲、N，N，一二羥甲基丙二酰胺、N，N，一二羥甲基琥珀酰亞胺基、三羥甲基三聚氰胺、四羥甲基三聚氰胺、六羥甲基三聚氰胺、1，3一N，N，一二羥甲基對(duì)苯二甲酰胺、2，4，6—三羥甲基苯酚、2，6—二羥甲基一4一羥甲基苯甲醚、1，3—二羥甲基一4，6—二異丙苯等。其中，除了這些羥甲基化合物以外，還可以使用對(duì)應(yīng)的乙基或丁醚或者醋酸或丙酸的酯。另外，也可以使用由三聚氰胺和與尿素的甲醛縮合產(chǎn)物構(gòu)成的六甲基化羥甲基三聚氰胺或三聚氰胺和甲醛縮合產(chǎn)物的丁醚等。所述熱交聯(lián)劑在所述感光性組合物固體成分中的固體成分含量?jī)?yōu)選為140質(zhì)量％，更優(yōu)選為320質(zhì)量％。如果該固體成分含量不到1質(zhì)量％，則不會(huì)提高固化膜的膜強(qiáng)度，如果超過(guò)40質(zhì)量％，則有時(shí)發(fā)生顯影性的降低或曝光靈敏度的降低。<其他成分>作為所述其他成分，例如可以舉出熱聚合抑制劑、增塑劑、著色劑(著色顏料或染料)、填充顏料等，進(jìn)而也可以并用對(duì)基材表面的粘附促進(jìn)劑及其他輔助劑類(lèi)(例如導(dǎo)電性顆粒、填充劑、消泡劑、阻燃劑、流平劑、剝離促進(jìn)劑、抗氧化劑、香料、表面張力調(diào)節(jié)劑、鏈移動(dòng)劑等)。通過(guò)適當(dāng)含有這些成分，可以調(diào)節(jié)需要的感光性組合物或后述的感光性薄膜的穩(wěn)定性、照相性、膜物理性能等性質(zhì)?！稛峋酆弦种苿窡峋酆弦种苿┛梢苑乐拱l(fā)生所述聚合性化合物的熱聚合或經(jīng)時(shí)地聚合，所以也可以添加。作為該熱聚合抑制劑的例子，例如可以舉出特開(kāi)2005—258431號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)中記載的化合物等。作為所述熱聚合抑制劑的含量，相對(duì)所述聚合性化合物，優(yōu)選0.0015質(zhì)量％，更優(yōu)選0.0052質(zhì)量％，特別優(yōu)選0.011質(zhì)量％。該含量如果不到0.001質(zhì)量％，則有時(shí)保存時(shí)的穩(wěn)定性會(huì)降低，如果超過(guò)5質(zhì)量％，則相對(duì)活性能量線(xiàn)的靈敏度會(huì)降低?！吨伭稀纷鳛樗鲋伭?，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出維多利亞純藍(lán)BO(C丄42595)、(堿性)槐黃(C丄41000)、脂溶(fat)黒HB(C.I.26150)、莫諾賴(lài)特'黃GT(C.I.顏料黃12)、永久黃GR(C.I.顏料黃17)、永久黃HR(C.I.顏料黃83)、永久胭脂紅FBB(C.I.顏料紅146)、廣告畫(huà)顏料紅ESB(C丄顏料紫19)、永久紅寶石FBH(C.I.顏料紅11)、法斯特爾粉紅B蘇普拉(C.I.顏料紅81)、莫鈉斯特拉爾堅(jiān)牢藍(lán)(C.I.顏料藍(lán)15)、莫諾賴(lài)特堅(jiān)牢黒B(C丄顏料黒l)、碳、C丄顏料紅97、C丄顏料紅122、C丄顏料紅149、C.I.顏料紅168、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅180、C.I.顏料紅192、C.I.顏料紅215、C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I,顏料藍(lán)15:1、C.I.顏料藍(lán)15:4、C.I.顏料藍(lán)15:6、C.I.顏料藍(lán)22、C.I.顏料藍(lán)60、C丄顏料藍(lán)64等。它們可以單獨(dú)使用一種或并用兩種以上。另外，根據(jù)需要，也可以使用從公知的染料中適當(dāng)選擇的染料。所述著色顏料在所述感光性組合物固體成分中的固體成分含量，可以考慮永久圖案形成時(shí)的感光層的曝光靈敏度、析像度等決定，根據(jù)所述著色顏料的種類(lèi)不同而不同，通常優(yōu)選為0.0510質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.15質(zhì)量％?！短畛漕伭稀窞榱颂岣哂谰脠D案的表面硬度、或?qū)⒕€(xiàn)膨脹系數(shù)抑制為低值、將固化膜自身的介電常數(shù)或電介質(zhì)損耗角正切抑制為低值，可以根據(jù)需要在所述感光性組合物中添加無(wú)機(jī)顏料或有機(jī)微粒。作為所述無(wú)機(jī)顏料，沒(méi)有特別限制，可以從公知的無(wú)機(jī)顏料中適當(dāng)選擇，例如可以舉出高嶺土、硫酸鋇、鈦酸鋇、氧化硅粉、微粉狀氧化硅、氣相法二氧化硅、無(wú)定形二氧化硅、結(jié)晶性二氧化硅、熔融二氧化硅、球狀二氧化硅、滑石、粘土、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鋁、氫氧化鋁、云母等。所述無(wú)機(jī)顏料的平均粒徑優(yōu)選不到10pm，更優(yōu)選3pm以下。如果該平均粒徑為10pm以上，則光彌散有時(shí)引起析像度變差。作為所述有機(jī)微粒，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出蜜胺樹(shù)脂、苯鳥(niǎo)糞胺樹(shù)脂、交聯(lián)聚苯乙烯樹(shù)脂等。另外，還可以使用平均粒徑l5^m、吸油量100200mVg左右的由二氧化硅、交聯(lián)樹(shù)脂構(gòu)成的球狀多孔微粒等。所述填充顏料的添加量?jī)?yōu)選為560質(zhì)量％。如果該添加量不到5質(zhì)量％，則有時(shí)不能充分地降低線(xiàn)膨脹系數(shù)，如果超過(guò)60質(zhì)量％，則在感光層表面形成固化膜時(shí)，有時(shí)該固化膜的膜質(zhì)變脆，用永久圖案形成布線(xiàn)時(shí)，有時(shí)作為布線(xiàn)的保護(hù)膜的功能被破壞?！墩掣酱龠M(jìn)劑》為了提高各層間的粘附性或感光層與基材之間的粘附性，可以在各層中使用公知的所謂粘附促進(jìn)劑。作為所述粘附促進(jìn)劑，例如可以?xún)?yōu)選舉出特開(kāi)平5—11439號(hào)公報(bào)、特開(kāi)平5—341532號(hào)公報(bào)及特開(kāi)平6—4363S號(hào)公報(bào)等中記載的粘附促進(jìn)劑。具體而言，可以舉出苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2—巰基苯并咪唑、2—巰基苯并噁唑、2—巰基苯并噻唑、3—嗎啉代甲基一1一苯基一三唑一2—硫酮、3—嗎啉代甲基一5—苯基一噁二唑一2—硫酮、5—氨基一3—嗎啉代甲基一噻二唑一2—硫酮、及2—巰基一5—甲基硫代一噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含氨基苯并三唑、硅垸偶合劑等。作為所述粘附促進(jìn)劑中的含量，相對(duì)所述感光性組合物中的全部成分，優(yōu)選為0.001質(zhì)量％20質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.0110質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.1質(zhì)量％5質(zhì)量％。作為所述感光層的形成方法，作為第一方式，可以舉出在所述基體的表面涂敷并干燥所述感光性組合物的方法，作為第二方式，可以舉出在加熱及加壓的至少任意一種條件下在基材的表面層疊感光性薄膜方法。所述第一方式分感光層的形成方法是在所述基體上涂敷及干燥所述感光性組合物，從而形成感光層。作為所述涂敷及干燥的方法，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選在所述基體的表面上，使所述感光性組合物溶解、乳化或分散于水或溶劑，配制感光性組合物溶液，直接涂敷并千燥該溶液從而層疊的方法。作為所述感光性組合物溶液的溶劑，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇類(lèi)；丙酮、甲基乙基甲酮、甲基異丁基甲酮、環(huán)己酮、二異丁基甲酮等酮類(lèi)；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙酸正戊酯、硫酸二甲酯、丙酸乙酯、酞酸二甲酯、苯甲酸乙酯及甲氧基丙基乙酸酯等酯類(lèi)；甲苯、二甲苯、苯、乙苯等芳香族烴類(lèi)；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，l一三氯乙烷、二氯甲烷、一氯苯等鹵代烴類(lèi)；四氫呋喃、二乙醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、l一甲氧基一2—丙醇等醚類(lèi)；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲亞砜、環(huán)丁砜等。它們可以單獨(dú)使用l種或并用2種以上。另外，也可以添加公知的表面活性劑。作為所述涂敷方法，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出使用旋涂機(jī)、縫隙旋涂機(jī)、輥涂機(jī)、金屬型涂料機(jī)、簾式涂料機(jī)而在所述基材上直接涂敷的方法。作為所述干燥的條件，根據(jù)各成分、溶劑的種類(lèi)、使用比例等而不同，但通常在60110。C的溫度下為30秒15分鐘左右。作為感光層的厚度，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選310C^m，更優(yōu)選570iim。所述第二方式的感光層的形成方法是在所述基體的表面邊進(jìn)行加熱及加壓的至少任意一方邊層疊具有支撐體和在該支撐體上層疊感光性組合物而成的感光層的感光性薄膜。其中，所述感光性薄膜具有后述保護(hù)薄膜的情況下，優(yōu)選剝離該保護(hù)薄膜，在所述基體上重疊所述感光層從而進(jìn)行層疊。所述感光性薄膜至少具有支撐體和感光層而成，優(yōu)選還具有保護(hù)薄膜而成，進(jìn)而根據(jù)需要，也可以具有緩沖層、阻氧層(PC層)等其他層而成。作為所述感光性薄膜的方式，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出在所述支撐體上依次具有所述感光層、所述保護(hù)膜薄膜而成的方式，在所述支撐體上依次具有所述PC層、所述感光層、所述保護(hù)薄膜而成的方式，在所述支撐體上依次具有所述緩沖層、所述PC層、所述感光層、所述保護(hù)薄膜而成的方式等。此外，所述感光層可以為單層，也可以為多層。<支撐體>作為所述支撐體，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選可以剝離所述感光層而且光的透過(guò)性良好的支撐體，更優(yōu)選表面的平滑性良好的支撐體。所述支撐體優(yōu)選為合成樹(shù)脂制且為透明，例如可以舉出聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三醋酸纖維素、二醋酸纖維撒、聚(甲基)丙烯酸烷基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、賽璐玢、聚偏氯乙烯共聚物、聚酰胺、聚酰亞胺、氯乙烯*醋酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纖維素系薄膜、尼龍薄膜等各種塑料薄膜，，其中特別優(yōu)選聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。它們可以單獨(dú)使用一種或并用兩種以上。此外，作為所述支撐體，例如也可以使用特開(kāi)平4一208940號(hào)公報(bào)、特開(kāi)平5—80503號(hào)公報(bào)、特開(kāi)平5—173320號(hào)公報(bào)、特開(kāi)平5—72724號(hào)公報(bào)等中記載的支撐體。作為所述支撐體的厚度，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選4300nm，更優(yōu)選5175nm。作為所述支撐體的形狀，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，優(yōu)選長(zhǎng)條狀。作為所述長(zhǎng)條狀的支撐體的長(zhǎng)度，沒(méi)有特別限制，例如可以舉出10m20，OOOm長(zhǎng)度的長(zhǎng)條狀。一感光性薄膜中的感光層一所述感光性薄膜中的感光層由所述感光性組合物形成。作為在所述感光性薄膜中設(shè)置所述感光層的位置，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，通常在所述支撐體上層疊。作為所述感光性薄膜中的感光層的厚度，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選310(Him，更優(yōu)選570jim。所述感光性薄膜中的感光層的形成可以與向所述基材涂敷及干燥所述感光性組合物溶液(所述第一方式的感光層的形成方法)同樣的的方法進(jìn)行，例如可以舉出使用旋涂機(jī)、縫隙旋涂機(jī)、輥涂機(jī)、金屬型涂料機(jī)、簾式涂料機(jī)等來(lái)涂敷該感光性組合物溶液的方法。<保護(hù)薄膜>所述保護(hù)薄膜防止所述感光層被污染或損傷，具有保護(hù)的功能。對(duì)所述保護(hù)薄膜在所述感光性薄膜中設(shè)置的位置沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，通常在所述感光層上設(shè)置。作為所述保護(hù)薄膜，例如可以舉出在所述支撐體中使用的保護(hù)薄膜，硅酮紙，層疊有聚乙烯、聚丙烯的紙，聚烯烴或聚四氟乙烯片材等，其中，優(yōu)選聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜。作為所述保護(hù)薄膜的厚度，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如優(yōu)選5100)im，更優(yōu)選830nm。使用所述保護(hù)薄膜的情況下，所述感光層及所述支撐體的粘接力A、與所述感光層及保護(hù)薄膜的粘接力B優(yōu)選為粘接力八>粘接力B的關(guān)系。作為所述支撐體與保護(hù)薄膜的組合(支撐體/保護(hù)薄膜)，例如可以舉出聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯/聚丙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯/聚乙烯、聚氯乙烯/賽璐玢、聚酰亞胺/聚丙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯/聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯等。另外，通過(guò)表面處理支撐體及保護(hù)薄膜的至少一個(gè)，能夠滿(mǎn)足如上所述的粘接力的關(guān)系。所述支撐體的表面處理也可以用于提高與所述感光層的粘接力而實(shí)施，例如可以舉出底涂層的涂設(shè)、電暈放電處理、火焰處理、紫外線(xiàn)照射處理、高頻照射處理、輝光放電照射處理、活性等離子照射處理、激光光線(xiàn)照射處理等。另外，作為所述支撐體與所述保護(hù)薄膜之間的靜摩擦系數(shù)，優(yōu)選為0.31.4，更優(yōu)選為0.51.2。如果所述靜摩擦系數(shù)不到0.3，則由于過(guò)滑，在成為輥狀的情況下，可能會(huì)發(fā)生巻偏離，如果超過(guò)1.4，可能會(huì)難以巻成良好的輥狀。所述感光性薄膜例如優(yōu)選巻繞在圓筒狀的巻芯上，以長(zhǎng)條狀巻成輥狀保管。作為所述長(zhǎng)條狀的感光性薄膜的長(zhǎng)度，沒(méi)有特別限制，例如可以從10m20，000m的范圍適當(dāng)選擇。另外，為了便于用戶(hù)使用，也可以進(jìn)行切斷加工，使100ml，000m范圍的長(zhǎng)條狀成為輥狀。此外，這種情況下，優(yōu)選所述支撐體被巻繞成為最外側(cè)。另外，也可以將所述輥狀的感光性薄膜切成薄片狀。保管時(shí)，從保護(hù)端面、防止邊緣熔合的觀(guān)點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在端面設(shè)置隔離件(separator)(特別是防濕性的隔離件、放干燥劑的隔離件)，另外還優(yōu)選包裝也使用透濕性低的材料。所述保護(hù)薄膜也可以為了調(diào)節(jié)所述保護(hù)薄膜與所述感光層之間的粘接性而進(jìn)行表面處理。所述表面處理例如在所述保護(hù)薄膜的表面形成由聚有機(jī)硅氧烷、氟化聚烯烴、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物構(gòu)成的底涂層。該底涂層的形成可以通過(guò)在所述保護(hù)薄膜的表面涂敷所述聚合物的涂敷液之后，使其在3015(TC(特別是5012(TC)下干燥130分鐘形成。另外，除了所述感光層、所述支撐體、所述保護(hù)薄膜以外，也可以具有緩沖層、阻氧層(PC層)、剝離層、粘接層、光吸收層、表面保護(hù)薄膜等層。所述緩沖層為在常溫下沒(méi)有粘性，在真空，加熱條件下疊層時(shí)，發(fā)生熔融、流動(dòng)的層。所述PC層是通常以聚乙烯醇為主要成分形成的0.55pm左右的被膜。作為所述加熱溫度，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，但例如優(yōu)選70130。C，更優(yōu)選80110。C。作為所述加壓的壓力，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，但例如優(yōu)選0.011.0MPa，更優(yōu)選0.051.0MPa。作為進(jìn)行所述加熱及加壓的至少任意一種的裝置，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以?xún)?yōu)選舉出普通平燙機(jī)(heatpress)、熱輥(heatroll)層壓機(jī)(例如大成層壓機(jī)公司制，VP—II)、真空層壓機(jī)(例如名機(jī)制作所制，MVLP500)等。本發(fā)明的感光性薄膜可以廣泛用作印刷線(xiàn)路板、濾色片、柱材、肋材、間隔件、隔壁等液晶用構(gòu)件、全息攝影、微型電機(jī)，印樣(proof)等永久圖案形成用，可以在本發(fā)明的永久圖案形成方法中優(yōu)選使用。特別是所述感光性薄膜由于該薄膜的厚度均一，所以在形成永久圖案時(shí)，可以高精細(xì)地向所述基材層疊。此外，作為向具有利用所述第二方式的感光層的形成方法形成的感光層的層疊體進(jìn)行的曝光，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以經(jīng)由所述支撐體、緩沖層及PC層對(duì)所述感光層進(jìn)行曝光，也可以在剝離支撐體之后經(jīng)由所述緩沖層及PC層對(duì)所述感光層進(jìn)行曝光，也可以在剝離支撐體及緩沖層之后經(jīng)由所述PC層對(duì)所述感光層進(jìn)行曝光，也可以在剝離支撐體、緩沖層及PC層之后對(duì)所述感光層進(jìn)行曝光。[顯影工序]所述顯影工序是通過(guò)在利用所述曝光工序?qū)λ龈泄鈱舆M(jìn)行曝光并使該感光層的已曝光的區(qū)域固化之后，除去未固化區(qū)域來(lái)進(jìn)行顯影，形成永久圖案的工序。作為所述未固化區(qū)域的除去方法，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出用顯影液除去的方法等。作為所述顯影液。沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以?xún)?yōu)選舉出堿金屬或堿土類(lèi)金屬的氫氧化物或碳酸鹽、碳酸氫鹽、氨水、季銨鹽的水溶液等。其中，特別優(yōu)選碳酸鈉水溶液。所述顯影液也可以與表面活性劑、消泡劑、有機(jī)堿(例如芐胺、乙二胺、乙醇胺、四甲基氫氧化銨、二亞乙基三胺、三亞甲基五胺、嗎啉、三乙醇胺等)或用于促進(jìn)顯影的有機(jī)溶劑(例如醇類(lèi)、酮類(lèi)、酯類(lèi)、醚類(lèi)、酰胺類(lèi)、內(nèi)酯類(lèi)等)等。另外，所述顯影液可以為混合水或堿水溶液與有機(jī)溶劑的水系顯影液，也可以單獨(dú)為有機(jī)溶劑。所述固化處理工序是在進(jìn)行所述顯影工序之后，對(duì)已形成的永久圖案中的感光層進(jìn)行固化處理的工序。作為所述固化處理，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以?xún)?yōu)選舉出全面曝光處理、全面加熱處理等。作為所述全面曝光處理的方法，例如可以舉出在所述顯影工序之后，對(duì)形成有所述永久圖案的所述層疊體上的全面進(jìn)行曝光的方法。利用該全面曝光，可以促進(jìn)將要形成所述感光層的圖案形成材料中的樹(shù)脂的固化，可以使所述永久圖案的表面固化。作為進(jìn)行所述全面曝光的裝置，沒(méi)有特別限制，可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出超高壓滎燈等uv曝光機(jī)。作為所述全面加熱處理的方法，可以舉出在所述顯影工序之后，對(duì)已形成的所述永久圖案的所述層疊體上的全面進(jìn)行加熱的方法。利用該全面加熱，可以提高所述永久圖案的表面的膜強(qiáng)度。作為所述全面加熱中的加熱溫度，優(yōu)選為120250°C，更優(yōu)選為120200°C。如果該加熱溫度不到120°C，則有時(shí)不能得到利用加熱處理的膜強(qiáng)度的提高，如果超過(guò)25(TC，則有時(shí)發(fā)生所述感光性組合物中的樹(shù)脂的分解，膜質(zhì)輕微變脆。作為所述全面加熱的加熱時(shí)間，優(yōu)選為10120分鐘，更優(yōu)選為1560分鐘。作為進(jìn)行所述全面加熱的裝置，沒(méi)有特別限制，可以從公知的裝置中根據(jù)目的適當(dāng)選擇，例如可以舉出干烤箱(dryoven)、熱板、IR加熱器等。此外，所述基材為多層布線(xiàn)基板等印刷線(xiàn)路板的情況下，可以在該印刷線(xiàn)路板上形成本發(fā)明的永久圖案，進(jìn)而如下所述進(jìn)行焊錫錫接。艮口，利用所述顯影工序，可以形成作為所述永久圖案的固化層，可以在所述印刷線(xiàn)路板的表面露出金屬層。對(duì)在該印刷線(xiàn)路板的表面露出的金屬層的部位進(jìn)行鍍金之后，進(jìn)行焊錫錫接。接著，在已進(jìn)行焊錫錫接的部位，安裝半導(dǎo)體或構(gòu)件等。此時(shí)，利用所述固化層的永久圖案，可以發(fā)揮出作為保護(hù)膜或絕緣膜(層間絕緣膜)或阻焊劑的功能，可以防止來(lái)自外部的沖擊或相鄰電極的導(dǎo)通。在本發(fā)明的永久圖案形成方法中，優(yōu)選形成保護(hù)膜、層間絕緣膜及阻焊劑的至少任意一種。利用所述永久圖案形成方法形成的永久圖案，可以保護(hù)布線(xiàn)不受來(lái)自外部的沖擊或彎曲，特別是在為所述層間絕緣膜的情況下，例如可以用于半導(dǎo)體或構(gòu)件向多層布線(xiàn)基板或內(nèi)裝布線(xiàn)基板等的高密度實(shí)裝。本發(fā)明的圖案形成方法可以通過(guò)抑制在感光層上成的像的偏斜，來(lái)高精細(xì)而且有效地形成永久圖案，所以可以?xún)?yōu)選用于形成必需高精細(xì)的曝光的各種圖案等，特別是可以?xún)?yōu)選用于形成高精細(xì)的永久圖案。實(shí)施例以下利用實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明不被這些實(shí)施例所限定。(實(shí)施例1)一感光性組合物的配制一基于下述組成，配制感光性組合物(溶液)。硫酸鋇(堺化學(xué)工業(yè)公司制，B30)分散液104.74質(zhì)量份PCR—1157H(日本化藥公司制，環(huán)氧丙烯酸酯粘合劑61.8質(zhì)量％甘醇一甲醚乙酸酯溶液)46.14質(zhì)量份R712(日本化藥公司制，2官能丙烯酸單體)9.79質(zhì)量份二季戊四醇六丙烯酸酯19.33質(zhì)量份IRGACURE819(千葉特殊化學(xué)藥品公司制)7.84質(zhì)量份MW30HM(三和chemical(亇$力/10公司制，六甲氧基甲基化三聚氰胺)8.00質(zhì)量份氫醌一甲醚0.049質(zhì)量份酞菁綠3.98質(zhì)量份甲基乙基甲酮60.00質(zhì)量份其中，所述硫酸鋇分散液是在預(yù)先混合硫酸鋇(堺化學(xué)公司制，B30)30質(zhì)量份、所述PCR—1157H的二甘醇一甲醚乙酸酯61.2質(zhì)量％溶液34.29質(zhì)量份和甲基乙基甲酮35.71質(zhì)量份之后，用乇一夕一磨機(jī)M—200(EIGER公司制)，使用直徑l.Omm的氧化鋯珠，以圓周速度9m/s，分散3.5小時(shí)，來(lái)配制?！泄庑员∧さ闹圃煲幌蜃鳛樗鲋误w的厚20,的PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)薄膜上，涂敷并干燥得到的感光性組合物溶液，形成厚35pm的感光層。接著，在該感光層上，用層壓機(jī)(laminater)層疊作為所述保護(hù)薄膜的12pm厚的聚丙烯薄膜，制造感光性薄膜。一永久圖案的形成一一一層疊體的配制一一接著，作為所述基材，向已形成布線(xiàn)的鍍銅疊層板(沒(méi)有穿通孔，銅厚為12pm)的表面實(shí)施化學(xué)研磨處理，從而配制。在該鍍銅疊層板上的一面上，剝離所述感光性薄膜中的保護(hù)薄膜，以使所述感光性薄膜的感光層與所述鍍銅疊層板接觸，同時(shí)用真空層壓機(jī)(例如名機(jī)制作所制，MVLP500)使其層疊，從而配制成依次層疊所述鍍銅疊層板、所述感光層和所述聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撐體)而成的層疊體。壓粘條件為壓粘溫度7(TC、壓粘壓力0.2MPa、層疊速度lm/分鐘?！黄毓夤ば蛞弧鄬?duì)所述己配制的層疊體中的感光層，從支撐體側(cè)，用以下說(shuō)明的圖案形成裝置，為了能夠得到可以形成直徑不同的孔部的圖案而照射、曝光波長(zhǎng)為405nm的激光，使所述感光層的一部分區(qū)域固化?！秷D案形成裝置》作為所述光照射機(jī)構(gòu)，使用特開(kāi)2005—258431號(hào)公報(bào)中記載的，具有合波激光光源，和作為所述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的將圖6中的概略圖所示的將主掃描方向上排列1024個(gè)微鏡58的微鏡列在副掃描方向排列成768組內(nèi)、控制成僅驅(qū)動(dòng)1024個(gè)X256列的DMD36，和圖5A或圖5B所示的將光成像于所述圖案形成材料的光學(xué)系的具備曝光頭30的圖案形成裝置10。作為各曝光頭30即各DMD36的設(shè)定傾斜角度，采用使用可以使用的1024列X256行的微鏡58而恰好成為若干大于成為2重曝光的角度0id^的角度。該角度eidw是相對(duì)N重曝光的數(shù)目N、可以使用的微鏡58的列方向的個(gè)數(shù)s、可以使用的微鏡58的列方向的間隔p及在使曝光頭30傾斜的狀態(tài)下利用微鏡形成的掃描線(xiàn)的間距5，利用下述式1Spsin0jdeai^NS(式1)得到。本實(shí)施方式中的DMD36如上所述，縱橫配置間隔相等的大多數(shù)微鏡58被配置成矩形格子狀，所以為pcos9ideai=S(式2)，上述式1成為stan9ideal=N(式3)，由于s二256、N=2，所以角度eidea,約為0.45度。因而，作為設(shè)定傾斜角度e，例如采用0.50度。首先，為了校正2重曝光中的析像度的不均或曝光不均，分析被曝光面的曝光圖案的狀態(tài)。結(jié)果見(jiàn)圖16。在圖16中，表示在使載物臺(tái)14靜止的狀態(tài)下，來(lái)自向圖案形成材料12的被曝光面上投影的曝光頭3012和3021具有的DMD36可以使用的微鏡58的光點(diǎn)組的圖案。另外，在下段部分，在如上段部分所示的光點(diǎn)組的圖案出現(xiàn)的狀態(tài)下使載物臺(tái)14移動(dòng)并進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，對(duì)曝光范圍3212和3221顯示在被曝光面上形成的曝光圖案的狀態(tài)。此外，在圖16中，為了便于說(shuō)明，將可以使用的微鏡58的每隔1列的曝光圖案分成利用像素列組A的曝光圖案和利用像素列組B的曝光圖案進(jìn)行表示，但實(shí)際的被曝光面上的曝光圖案重疊了這2個(gè)曝光圖案。如圖16所示，判斷為，作為曝光頭3012和3021之間的相對(duì)位置的從理想的狀態(tài)偏離的結(jié)果，在利用像素列組A的曝光圖案和利用像素列組B的曝光圖案的雙方，在曝光范圍3212和3221的與所述曝光頭的掃描方向正交的坐標(biāo)軸上重復(fù)的曝光區(qū)域，相對(duì)于理想的2重曝光的狀態(tài)，產(chǎn)生曝光量過(guò)多的部分。作為所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，使用縫隙28及光檢測(cè)器的組，對(duì)于曝光頭30,2而言的曝光范圍32,2內(nèi)的光點(diǎn)P(1，1)和P(256，1)的位置，對(duì)于曝光頭302i而言的曝光范圍322i內(nèi)的光點(diǎn)P(1，1024)和P(256，1024)的位置，進(jìn)行檢測(cè)，測(cè)定連接它們的直線(xiàn)的傾斜角度與曝光頭的掃描方向所成角度。使用實(shí)際傾斜角度e'，分別對(duì)于曝光頭3012和3021，導(dǎo)出與滿(mǎn)足下述式4ttane，=N(式4)的關(guān)系的值t相近的自然數(shù)T。分別對(duì)于曝光頭3012導(dǎo)出丁=254，對(duì)于曝光頭3021導(dǎo)出T=255。結(jié)果，構(gòu)成圖17中用斜線(xiàn)覆蓋的部分78及80的微鏡被確定作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。然后，關(guān)于對(duì)應(yīng)構(gòu)成在圖17中用斜線(xiàn)覆蓋的區(qū)域78及80的光點(diǎn)以外的光點(diǎn)的微鏡，同樣地對(duì)應(yīng)構(gòu)成在圖17中用斜線(xiàn)覆蓋的區(qū)域82及用網(wǎng)格表示的區(qū)域84的光點(diǎn)的微鏡被確定，追加作為本曝光時(shí)不使用的微鏡。相對(duì)這些被確定作為曝光時(shí)不使用的微鏡，利用所述描繪部控制機(jī)構(gòu)，傳送設(shè)定成經(jīng)常關(guān)狀態(tài)的角度的信號(hào)，這些微鏡實(shí)際上不參與曝光。這樣，在曝光范圍3212和3221中的作為由多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的各區(qū)域，可以使相對(duì)理想的2重曝光成為曝光過(guò)多的區(qū)域及成為曝光不足的區(qū)域的總面積為最小。一一顯影工序一—在室溫下靜置IO分鐘之后，從所述層疊體剝?nèi)ゾ蹖?duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撐體)，在鍍銅疊層板上的感光層的全面，作為堿顯影液，使用1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液，在3(TC下噴淋顯影60秒，溶解除去未固化的區(qū)域。然后，進(jìn)行水洗、干燥，形成永久圖案。一一固化處理工序一一對(duì)形成所述永久圖案的層疊體的全面，實(shí)施16(TC下30分鐘的加熱處理，使永久圖案的表面固化，提高膜強(qiáng)度。目視觀(guān)察該永久圖案，結(jié)果在永久圖案的表面未見(jiàn)氣泡。另外，對(duì)已形成所述永久圖案的印刷線(xiàn)路板，按照常規(guī)方法進(jìn)行金鍍敷，然后進(jìn)行水溶性助焊劑(flux)處理。接著，在設(shè)定成26(TC的焊錫槽中5秒內(nèi)浸漬3次，通過(guò)水洗除去助焊劑。接著，對(duì)該助焊劑除去后的永久圖案，基于JISK—5400，測(cè)定鉛筆硬度。結(jié)果，鉛筆硬度為5H以上。目視觀(guān)察結(jié)果，未見(jiàn)所述永久圖案中的固化膜的剝脫、起泡、變色。對(duì)所述已形成的永久圖案，評(píng)價(jià)(a)曝光靈敏度、(b)析像度、(c)邊緣粗糙度。<(a)曝光靈敏度>對(duì)所述己配制的層疊體中的感光層，從所述支撐體側(cè)，用下述說(shuō)明的圖案形成裝置，以21/2倍間隔照射0.1mJ/cm2200mJ/cm2的光能量不同的光，進(jìn)行2重曝光，使所述感光層的一部分區(qū)域固化。在室溫下靜置10分鐘，然后從所述層疊體剝?nèi)ニ鲋误w，在鍍銅疊層板上的感光層的全面，用噴射壓0.15MPa向鍍銅疊層板上的感光層的全面噴射30'C的1質(zhì)量％碳酸鈉水溶液，噴射時(shí)間為在所述(1)中求得的最短顯影時(shí)間的2倍，溶解除去未固化的區(qū)域，測(cè)定殘留的固化區(qū)域的厚度。接著，將光的照射量和固化層的厚度之間的關(guān)系繪成曲線(xiàn)圖，得到靈敏度曲線(xiàn)。從該靈敏度曲線(xiàn)可知，將固化區(qū)域的厚度為與曝光前的感光層同樣為35|im時(shí)的光能量作為用于使感光層固化所必需的光能量。結(jié)果，用于使所述感光層固化所必需的光能量為25mJ/cm2。<(b)析像度>用光學(xué)顯微鏡觀(guān)察得到的已形成所述永久圖案的印制電路布線(xiàn)基板的表面，固化層圖案的孔部沒(méi)有殘膜，測(cè)定最小的孔徑，將其作為析像度。該析像度的數(shù)值越小越好。<(c)邊緣粗糙度〉向所述感光層，使用所述圖案形成裝置，進(jìn)行照射、2重曝光，使與所述曝光頭的掃描方向正交的方向的橫線(xiàn)圖案形成，形成永久圖案。得到的永久圖案中，對(duì)線(xiàn)寬40拜的線(xiàn)的任意5處，使用激光顯微鏡(VK—9500，基恩斯(keyence)(株)制；物鏡50倍)觀(guān)察，將視野內(nèi)的邊緣位置中最膨脹的位置(山頂部)與最狹窄的位置(谷底部)之間的差作為絕對(duì)值求得，算出觀(guān)察的5處的平均值，將其作為邊緣粗糙度。該邊緣粗糙度越小，則越顯示良好的性能，優(yōu)選。(實(shí)施例2)在實(shí)施例1中，將感光性組合物的組成代替為下述組成，按照常規(guī)方法，用輥磨機(jī)(rollmill)進(jìn)行混煉，除此以外，利用與實(shí)施例1同樣的方法配制感光性組合物。一感光性組合物的配制一基于下述組成，配制感光性組合物。硫酸鋇(堺化學(xué)工業(yè)公司制，B30)分散液50.00質(zhì)量份PCR—1157H(日本化藥公司制，環(huán)氧丙烯酸酯61.8質(zhì)量％甘醇一甲醚乙酸酯溶液)81.70質(zhì)量份二季戊四醇六丙烯酸酯13.16質(zhì)量份IRGACURE819(千葉特殊化學(xué)藥品公司制)YX4000(日本環(huán)氧樹(shù)脂公司制，環(huán)氧樹(shù)脂)RE306(日本化藥公司制，環(huán)氧樹(shù)脂)雙氰胺氫醌一甲醚酞菁綠6.82質(zhì)量份20.00質(zhì)量份5.00質(zhì)量份0.13質(zhì)量份0.024重量份0.42質(zhì)量份—感光性薄膜的制造一使用得到的感光性組合物，與實(shí)施例1同樣地制造感光性薄膜。一永久圖案的形成一使用得到的感光性薄膜，形成永久圖案。目視觀(guān)察該永久圖案的表面，結(jié)果在永久圖案的固化膜的表面未見(jiàn)氣泡。對(duì)得到的永久圖案，與實(shí)施例1同樣地評(píng)價(jià)(a)曝光靈敏度、(b)析像度、(c)邊緣粗糙度。結(jié)果如表l所示。(比較例1)在實(shí)施例1的圖案形成裝置中，基于所述式3，作為N二1算出設(shè)定傾斜角度e，基于所述式4，導(dǎo)出與滿(mǎn)足ttane，二l的關(guān)系的值t相近的自然數(shù)T，進(jìn)行N重曝光(N=l)，除此以外，與實(shí)施例l同樣地評(píng)價(jià)(a)曝光靈敏度、(b)析像度、(c)邊緣粗糙度。結(jié)果如表l所示。圖35表示比較例1中的被曝光面的曝光狀態(tài)的例子。在圖35中，表示在使載物臺(tái)14靜止的狀態(tài)下被投影于感光層12的被曝光面上的來(lái)自一個(gè)曝光頭(例如3012)具有的DMD36的可以使用的微鏡58的光點(diǎn)組的圖案。另外，在下段部分，表示對(duì)于一個(gè)曝光范圍(例如3212)，在上段部分所示之類(lèi)的光點(diǎn)組的圖案出現(xiàn)的狀態(tài)下使載物臺(tái)14移動(dòng)并進(jìn)行連續(xù)曝光時(shí)，在被曝光面上形成的曝光圖案的狀態(tài)。作為所述一個(gè)曝光頭(例如3012)從理想的狀態(tài)偏離的結(jié)果，是在被曝光面上出現(xiàn)的圖案偏斜的一例，產(chǎn)生投影到被曝光面上的各像素列的傾斜角度變得不均一的"角度偏斜"。圖35的例子中出現(xiàn)的角度偏斜是相對(duì)掃描方向的傾斜角度，越在圖的左方列越變大、越在圖的右方列越變小的方式的偏斜。作為該角度偏斜的結(jié)果，在圖的左方所示的被曝光面上產(chǎn)生成為曝光過(guò)多的區(qū)域，在圖的右方所示的被曝光面上產(chǎn)生成為曝光不足的區(qū)域。<table>tableseeoriginaldocumentpage64</column></row><table>從表1的結(jié)果可知，與比較例1的布線(xiàn)圖案相比，修正2重曝光的析像度的不均與曝光不均的實(shí)施例1及2的永久圖案為高精細(xì)，邊緣粗糙度也小。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明由于可以通過(guò)平均所述曝光頭的安裝位置或安裝角度的偏離以及所述描繪部與所述感光層的被曝光面之間的光學(xué)系的各種像差及所述描繪部自身的傾斜等引起的圖案偏斜導(dǎo)致的曝光量的不均的影響，減輕在所述感光層的被曝光面上形成的所述圖案的析像度的不均或濃度的不均，來(lái)高精細(xì)而且有效地形成含有封裝件(package)基板的印制電路布線(xiàn)基板領(lǐng)域中的永久圖案(層間絕緣膜、阻焊劑圖案等保護(hù)膜)，所以可以?xún)?yōu)選用于必需高精細(xì)的曝光的各種圖案的形成等，特別可以?xún)?yōu)選用于高精細(xì)的永久圖案的形成。權(quán)利要求1.一種永久圖案形成方法，其特征在于，使用至少含有粘合劑、聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、熱交聯(lián)劑的感光性組合物，在基材的表面形成感光層之后，對(duì)于該感光層，使用如下所述的曝光頭，所述曝光頭具備光照射機(jī)構(gòu)；及具有接受來(lái)自所述光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的n個(gè)(其中，n為2以上的自然數(shù))排列成二維狀的描繪部、且可以對(duì)應(yīng)圖案信息來(lái)控制所述描繪部的光調(diào)制機(jī)構(gòu)，所述曝光頭配置成所述描繪部的列方向相對(duì)該曝光頭的掃描方向呈規(guī)定的設(shè)定傾斜角度θ，利用使用描繪部指定機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，指定可以使用的所述描繪部中的用于N重曝光(其中，N為2以上的自然數(shù))的所述描繪部，利用描繪部控制機(jī)構(gòu)，對(duì)于所述曝光頭，進(jìn)行所述描繪部的控制，使得只有由所述使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定的所述描繪部參與曝光，相對(duì)于所述感光層，使所述曝光頭在掃描方向上相對(duì)地移動(dòng)，從而進(jìn)行曝光、顯影。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的永久圖案形成方法，其中，感光層的形成是通過(guò)在基材的表面涂敷、干燥感光性組合物來(lái)進(jìn)行的。3.根據(jù)權(quán)利要求l所述的永久圖案形成方法，其中，感光層的形成是通過(guò)在加熱及加壓的至少任意一種條件下，將具有支撐體和在該支撐體上層疊感光性組合物而成的感光層的感光性薄膜層疊在基材的表面來(lái)進(jìn)行的。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的永久圖案形成方法，其中，支撐體含有合成樹(shù)脂且為透明。5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的永久圖案形成方法，其中，支撐體為長(zhǎng)條狀。6.根據(jù)權(quán)利要求35中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，感光性薄膜為長(zhǎng)條狀，且被巻成輥狀而成。7.根據(jù)權(quán)利要求36中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，感光性薄膜在感光層上具有保護(hù)薄膜。8.根據(jù)權(quán)利要求17中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，感光層的厚度為3100拜。9.根據(jù)權(quán)利要求18中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，基材為已形成有布線(xiàn)的印制電路布線(xiàn)基板。10.根據(jù)權(quán)利要求19中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，曝光是利用多個(gè)曝光頭進(jìn)行的，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定在參與利用多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，用于實(shí)現(xiàn)所述頭間連接區(qū)域中的N重曝光而使用的所述描繪部。11.根據(jù)權(quán)利要求IO所述的永久圖案形成方法，其中，曝光是利用多個(gè)曝光頭進(jìn)行的，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)指定在參與利用多個(gè)所述曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域以外的曝光的描繪部中，用于實(shí)現(xiàn)所述頭間連接區(qū)域以外的區(qū)域中的N重曝光而使用的所述描繪部。12.根據(jù)權(quán)利要求111中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，按照相對(duì)于9i^滿(mǎn)足0^9^31的關(guān)系的方式設(shè)定設(shè)定傾斜角度e，所述eid^相對(duì)于N重曝光數(shù)N、描繪部的列方向的個(gè)數(shù)s、所述描繪部的列方向的間隔p及在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下沿與該曝光頭的掃描方向正交的方向的描繪部的列方向的間距S而滿(mǎn)足下述式spsineideal^NS。13.根據(jù)權(quán)利要求112中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)具備光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)，其在被曝光面上檢測(cè)出利用描繪部生成且構(gòu)成被曝光面上的曝光區(qū)域的作為描繪單位的光點(diǎn)位置；和描繪部選擇機(jī)構(gòu)，其基于所述光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)結(jié)果來(lái)選擇用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的描繪部。14.根據(jù)權(quán)利要求113中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)以行為單位指定用于實(shí)現(xiàn)N重曝光而使用的使用描繪部。15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的永久圖案形成方法，其中，基于光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出的至少2個(gè)光點(diǎn)位置，確定在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下的被曝光面上的光點(diǎn)的列方向與所述曝光頭的掃描方向所成的實(shí)際傾斜角度e'，描繪部選擇機(jī)構(gòu)按照吸收所述實(shí)際傾斜角度e'與設(shè)定傾斜角度e的誤差的方式，選擇使用描繪部。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的永久圖案形成方法，其中，實(shí)際傾斜角度e'為在使曝光頭傾斜的狀態(tài)下的被曝光面上的光點(diǎn)的列方向與所述曝光頭的掃描方向所成的多個(gè)實(shí)際傾斜角度的平均值、中值、最大值及最小值的任意一個(gè)。17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)基于實(shí)際傾斜角度e，，導(dǎo)出與滿(mǎn)足ttane，二N(其中，N表示N重曝光數(shù)的N)的關(guān)系的t相近的自然數(shù)T，選擇被排列成m行(其中，m表示2以上的自然數(shù))的描繪部中從第1行到第所述T行的所述描繪部作為使用描繪部。18.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)基于實(shí)際傾斜角度e，，導(dǎo)出與滿(mǎn)足ttane，二N(其中，N表示N重曝光數(shù)的N)的關(guān)系的t相近的自然數(shù)T，確定被排列成m行(其中，m表示2以上的自然數(shù))的描繪部中從第(T+l)行到第m行的所述描繪部作為不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部。19.根據(jù)權(quán)利要求1318中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)是如下所述機(jī)構(gòu)的任意一種，艮口(1)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域及曝光不足的區(qū)域的總面積成為最小的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(2)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)與曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)相等的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(3)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)；以及(4)按照在至少含有利用多個(gè)描繪部列形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光不足的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光過(guò)多的區(qū)域的方式，選擇使用描繪部的機(jī)構(gòu)。20.根據(jù)權(quán)利要求1319中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描繪部選擇機(jī)構(gòu)是如下所述機(jī)構(gòu)中的任意一種，艮P-(1)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域及曝光不足的區(qū)域的總面積成為最小的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(2)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的描繪單位數(shù)與曝光不足的區(qū)域的描繪單位數(shù)相等的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)；(3)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光過(guò)多的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光不足的區(qū)域的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)；以及(4)按照在利用多個(gè)曝光頭形成的被曝光面上的重復(fù)曝光區(qū)域的頭間連接區(qū)域中，使相對(duì)理想的N重曝光為曝光不足的區(qū)域的面積成為最小，且不產(chǎn)生曝光過(guò)多的區(qū)域的方式，從參與所述頭間連接區(qū)域的曝光的描繪部中，確定不使用描繪部，并將除了該不使用描繪部以外的所述描繪部選作使用描繪部的機(jī)構(gòu)。21.根據(jù)權(quán)利要求1320中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，為了在使用描繪部指定機(jī)構(gòu)中指定使用描繪部，相對(duì)N重曝光的N，只使用可以使用的所述描繪部中構(gòu)成每(N—l)列的描繪部列的所述描繪部，進(jìn)行參照曝光。22.根據(jù)權(quán)利要求1320中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，為了在使用描繪部指定機(jī)構(gòu)中指定使用描繪部，相對(duì)N重曝光的N，只使用可以使用的所述描繪部中構(gòu)成每1/N行的描繪部行的所述描繪部，進(jìn)行參照曝光。23.根據(jù)權(quán)利要求122中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，使用描繪部指定機(jī)構(gòu)具有作為光點(diǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)的縫隙及光檢測(cè)器、以及作為描繪部選擇機(jī)構(gòu)的與所述光檢測(cè)器連接的運(yùn)算裝置。24.根據(jù)權(quán)利要求123中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，N重曝光的N為3以上7以下的自然數(shù)。25.根據(jù)權(quán)利要求124中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)還具有基于形成的圖案信息生成控制信號(hào)的圖案信號(hào)生成機(jī)構(gòu)，對(duì)應(yīng)該圖案信號(hào)生成機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號(hào)，對(duì)從光照射機(jī)構(gòu)照射的光進(jìn)行調(diào)制。26.根據(jù)權(quán)利要求125中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，具有轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)按照?qǐng)D案信息表示的圖案的規(guī)定部分的尺寸與可以利用指定的使用描繪部實(shí)現(xiàn)的對(duì)應(yīng)部分的尺寸一致的方式，轉(zhuǎn)換所述圖案信息。27.根據(jù)權(quán)利要求126中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光調(diào)制機(jī)構(gòu)為空間光調(diào)制元件。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的永久圖案形成方法，其中，空間光調(diào)制元件是數(shù)字微鏡器件(DMD)。29.根據(jù)權(quán)利要求128中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，描繪部為微鏡。30.根據(jù)權(quán)利要求129中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光照射機(jī)構(gòu)可以合成兩種以上的光照射。31.根據(jù)權(quán)利要求130中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，光照射機(jī)構(gòu)具有多個(gè)激光器、多模光纖、和將從該多個(gè)激光器分別照射出的激光束進(jìn)行聚光從而耦合于所述多模光纖的聚光光學(xué)系。32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的永久圖案形成方法，其中，激光的波長(zhǎng)為395415nm。33.根據(jù)權(quán)利要求132中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，在進(jìn)行了顯影之后，對(duì)感光層進(jìn)行固化處理。34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的永久圖案形成方法，其中，固化處理是全面曝光處理及在12020(TC下進(jìn)行的全面加熱處理的至少任意一種。35.根據(jù)權(quán)利要求134中任意一項(xiàng)所述的永久圖案形成方法，其中，形成保護(hù)膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案中的至少任意一種。全文摘要本發(fā)明提供一種可以通過(guò)平均圖案偏斜引起的曝光量不均的影響從而抑制成像于感光層上的像的變形，來(lái)高精細(xì)而且有效地形成永久圖案的永久圖案形成方法。所以，本發(fā)明提供一種永久圖案形成方法，其中，使用感光性組合物，在基材的表面形成感光層，然后使用曝光頭(其中，該曝光頭為具備光照射機(jī)構(gòu)以及光調(diào)制機(jī)構(gòu)的曝光頭且被配置成所述描繪部的列方向相對(duì)掃描方向呈規(guī)定的設(shè)定傾斜角度θ)，對(duì)于所述曝光頭，利用使用描繪部指定機(jī)構(gòu)，相對(duì)于對(duì)該感光層，指定用于N重曝光(其中，N為2以上的整數(shù))的所述描繪部，利用描繪部控制機(jī)構(gòu)，進(jìn)行所述描繪部的控制，使得只有被指定的所述描繪部參與曝光，相對(duì)于所述感光層，使所述曝光頭向掃描方向相對(duì)地移動(dòng)，從而進(jìn)行曝光、顯影。文檔編號(hào)G03F7/20GK101189557SQ200680019820公開(kāi)日2008年5月28日申請(qǐng)日期2006年6月8日優(yōu)先權(quán)日2005年6月28日發(fā)明者古和田一輝,植村隆之,角克人,鈴木一誠(chéng),高島正伸申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社