專利名稱：光學(xué)掃描裝置,遮光材料,遮擋亮光的方法以及圖像形成設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及了一種光學(xué)掃描裝置，遮光材料，遮擋亮光的方法以及圖像形成設(shè)備。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的，在安裝在電子照相圖像形成設(shè)備，比如激光打印機(jī)，復(fù)印機(jī)以及類似儀器上 的光學(xué)掃描裝置中，從包括激光源的光束發(fā)射裝置發(fā)射的根據(jù)圖像信號(hào)的光束被使用包括 諸如旋轉(zhuǎn)式多角鏡(多角鏡)的偏轉(zhuǎn)裝置周期性地進(jìn)行偏轉(zhuǎn)。被偏轉(zhuǎn)的光束利用掃描光學(xué) 系統(tǒng)在感光性的記錄介質(zhì)(光導(dǎo)鼓)的掃描表面上成像。從該圖像進(jìn)行圖像記錄。特別的，圖l是顯示了傳統(tǒng)的光學(xué)掃描裝置的示意性平面圖。在圖1中，從光束發(fā)射 裝置101到104發(fā)出的光束照射到諸如多角鏡的偏轉(zhuǎn)裝置105的偏轉(zhuǎn)表面(反射表面)上。 通過(guò)偏轉(zhuǎn)裝置105的偏轉(zhuǎn)表面上反射或偏轉(zhuǎn)的光束通過(guò)掃描光學(xué)系統(tǒng)109和IIO被引導(dǎo)到 光導(dǎo)鼓108和111的掃描表面。通過(guò)旋轉(zhuǎn)偏轉(zhuǎn)裝置105，就有可能在光導(dǎo)鼓的掃描表面進(jìn) 行光學(xué)掃描，從而傳輸或記錄圖像信息。在圖1中，四個(gè)光束照射到偏轉(zhuǎn)裝置105上，并 且四個(gè)被偏轉(zhuǎn)的光束都用于光學(xué)掃描。但是，兩對(duì)掃描光學(xué)系統(tǒng)互相重疊，從而僅僅只要 闡明兩個(gè)掃描光學(xué)系統(tǒng)。在這種情況下，在以相對(duì)的方式布置的掃描光學(xué)系統(tǒng)中的每個(gè)掃 描透鏡中，部分投影光束被反射到透鏡的表面，并且分散為亮光。當(dāng)亮光投影到相對(duì)的掃 描光學(xué)系統(tǒng)的掃描透鏡上時(shí)，光通過(guò)掃描光學(xué)系統(tǒng)被引導(dǎo)到相對(duì)側(cè)的掃描表面上，并且在 要被記錄的圖像信息中產(chǎn)生了噪聲，從而在形成的圖像中產(chǎn)生條紋狀的污點(diǎn)或重像?；蛘?， 對(duì)亮光的覆蓋產(chǎn)生背景瑕疵或污點(diǎn)。這就會(huì)導(dǎo)致圖像質(zhì)量的退化。在某些情況下，在每個(gè) 掃描光學(xué)系統(tǒng)中布置復(fù)數(shù)個(gè)掃描透鏡。但是，在本發(fā)明中，除非另外說(shuō)明，掃描透鏡是指 來(lái)自偏轉(zhuǎn)裝置的光束將首先投影到的那個(gè)掃描透鏡?？紤]到這些，已知在掃描透鏡的表面附著(deposited)防反射層，從而減少亮光。進(jìn) 一步的，出現(xiàn)了為外殼提供遮光功能的技術(shù)，用于控制隨著多角鏡高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的噪聲， 其中容器被制成不透明的，除了用于投影到多角鏡的光和反射到多角鏡上的光的窗口外。 然而，在使用強(qiáng)烈的光束以及需要高質(zhì)量的成像情況下，即使是輕微的亮光也會(huì)導(dǎo)致圖像
形成的相當(dāng)大的退化。為了阻止這樣的亮光進(jìn)入相對(duì)的掃描透鏡中，揭示了一種遮光材料(參考專利文件1)。 圖2顯示了一個(gè)例子。雖然圖2顯示的光學(xué)掃描裝置幾乎與圖1中相同，在圖2中，兩個(gè) 遮光材料89和90被布置在反射裝置62的附近。遮光材料89和90的兩面都可以遮住亮 光，亮光被從以相對(duì)的方式布置的掃描透鏡63和64反射。例如，在遮光材料89中，從 掃描透鏡63發(fā)射的亮光被在圖中右側(cè)的表面遮擋，且從掃描透鏡64反射的亮光被在圖中 左側(cè)的表面遮擋。通過(guò)這樣的方式，就可以使用兩遮光材料遮擋四個(gè)位置的亮光，并且有 效地遮擋亮光。專利文件2揭示了一種光學(xué)掃描裝置，其中，用于遮擋亮光的遮光材料布置在不活躍 區(qū)域(不作為光束的光路的區(qū)域)，從而阻止亮光進(jìn)入相對(duì)的掃描透鏡，不活躍區(qū)域位于 投影到偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面上的光流的光路和在偏轉(zhuǎn)面上偏轉(zhuǎn)的掃描光流的光路之間。專利文件1:日本平開(kāi)專利申請(qǐng)No. 2002-196269專利文件2:日本平開(kāi)專利申請(qǐng)No. 2003-202512如上所述，提出了設(shè)置有用于遮擋亮光的遮光材料的光學(xué)掃描裝置，并且遮擋亮光的 效果已經(jīng)被充分的證明。然而，當(dāng)遮光材料如上所述布置在偏轉(zhuǎn)裝置附近時(shí)，伴隨著偏轉(zhuǎn) 裝置的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流噪聲的聲音就會(huì)增加并且在某些情況下會(huì)引起問(wèn)題。這種來(lái)自偏轉(zhuǎn) 裝置的氣流噪聲的聲音是有問(wèn)題的，并且使用例如偏轉(zhuǎn)裝置的外殼來(lái)減小這種聲音。但是， 當(dāng)遮光材料被放置在距離偏轉(zhuǎn)裝置很近時(shí)，這下遮光材料就起到了反射板的功能，并且氣 流噪聲的聲音就可能提高。然而，在專利文件1和2揭示的方法中，除非遮光材料布置在 偏轉(zhuǎn)裝置的附近，否則遮擋亮光的效果就變的不夠?？紤]這些情況，就需要開(kāi)發(fā)帶有能足 夠遮擋亮光的遮光材料的光學(xué)掃描裝置，或者帶有遮光結(jié)構(gòu)而且不會(huì)增加氣流噪聲聲音的 光學(xué)掃描裝置。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的主要目的是提供一種被改進(jìn)的并且實(shí)用的光學(xué)掃描裝置，遮光材料，遮擋亮 光的方法，以及上面提到的問(wèn)題都被消除了的光學(xué)掃描裝置的圖像形成設(shè)備。本發(fā)明的更特殊的目的是提供一種光學(xué)掃描裝置，遮光材料，遮擋亮光的方法，以及 使用該光學(xué)掃描裝置的圖像形成設(shè)備，其中遮光材料和偏轉(zhuǎn)裝置的噪聲都被降低了，遮光 材料遮擋了來(lái)自掃描透鏡的亮光，并且在具有以相對(duì)方式布置的掃描光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)掃描裝置中有效地執(zhí)行對(duì)亮光的遮擋。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種光學(xué)掃描裝置，包括發(fā)射光束的數(shù)個(gè)光束發(fā)射裝 置；偏轉(zhuǎn)裝置，將從光束發(fā)射裝置發(fā)射的復(fù)數(shù)個(gè)的光束偏轉(zhuǎn)到基本相反的方向上；相對(duì)于 作為中心的偏轉(zhuǎn)裝置基本以相對(duì)方式布置的掃描光學(xué)系統(tǒng)，每個(gè)掃描光學(xué)系統(tǒng)都使用由偏 轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束對(duì)掃描表面進(jìn)行掃描；且至少一個(gè)遮光材料遮擋掃描光學(xué)系統(tǒng)中第一掃 描透鏡發(fā)出的亮光，從而阻止亮光投影到基本相對(duì)的掃描光學(xué)系統(tǒng)的第二掃描透鏡上，其 中遮擋從第一掃描透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料布置在與第一掃描透鏡相比更接近第二掃 描透鏡的位置。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，當(dāng)從偏轉(zhuǎn)裝置的軸向觀察光學(xué)掃描裝 置時(shí)，相對(duì)于通過(guò)連接第一掃描透鏡中心和第二掃描透鏡中心限定的線，遮擋從第一掃描 透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料被布置在發(fā)射要被投影到第二掃描透鏡上的光束的光束發(fā)射 裝置的相同一側(cè)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，當(dāng)從偏轉(zhuǎn)裝置的軸向觀察光學(xué)掃描裝 置時(shí)，相對(duì)于從光束發(fā)射裝置發(fā)射到偏轉(zhuǎn)裝置并投影到第二掃描透鏡上光束的光路，遮擋 從第一掃描透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料布置在第二掃描透鏡側(cè)的區(qū)域，并且在相對(duì)于從偏 轉(zhuǎn)裝置射在第二掃描透鏡上的光束的光路，遮光材料布置在光束光路側(cè)的區(qū)域。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，當(dāng)從偏轉(zhuǎn)裝置的軸向觀察光學(xué)掃描裝 置時(shí)，相對(duì)于通過(guò)連接第一掃描透鏡中心和第二掃描透鏡中心限定的線，遮擋從第一掃描 透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料被布置在發(fā)射要被投影到第二掃描透鏡的光束的光束發(fā)射裝 置相反的一側(cè)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，遮光材料具有盤狀外形并被布置為使 得包括遮光表面的平面不和偏轉(zhuǎn)裝置的中心軸線交叉。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，當(dāng)特定的遮光材料面對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置的偏 轉(zhuǎn)面開(kāi)始接觸的角時(shí)，布置其它的遮光材料以使它們不面對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)面開(kāi)始接觸的 角。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，遮光材料有彎曲形狀，從而能夠圍繞 偏轉(zhuǎn)裝置。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在光學(xué)掃描裝置中，遮光材料被固定在包含偏轉(zhuǎn)裝置的容 器上。 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，布置在光學(xué)掃描裝置上的遮光材料包括發(fā)射光束的復(fù)數(shù) 個(gè)光束發(fā)射裝置；偏轉(zhuǎn)裝置，將從光束發(fā)射裝置發(fā)出的復(fù)數(shù)個(gè)的光束偏轉(zhuǎn)到基本相反的方 向；相對(duì)于作為中心的偏轉(zhuǎn)裝置基本以相對(duì)的方式布置的掃描光學(xué)系統(tǒng)，每個(gè)掃描光學(xué)系 統(tǒng)利用由偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束來(lái)對(duì)掃描表面進(jìn)行掃描，遮光材料包括狹縫，其中遮光材 料遮擋了基本以相對(duì)方式布置的掃描光學(xué)系統(tǒng)中以相對(duì)方式布置的掃描透鏡中的一個(gè)掃 描透鏡發(fā)出的亮光。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，上述光學(xué)掃描裝置中的任何一個(gè)包括前述的遮光材料。 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，用于在光學(xué)掃描裝置中遮擋亮光的方法包括復(fù)數(shù)個(gè)光束 發(fā)射裝置發(fā)射光束；偏轉(zhuǎn)裝置將從光束發(fā)射裝置發(fā)出的復(fù)數(shù)個(gè)光束偏轉(zhuǎn)到基本相反的方 向；掃描光學(xué)系統(tǒng)利用通過(guò)偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束來(lái)對(duì)掃描表面進(jìn)行掃描，這種方法包括下 面步驟將至少一個(gè)遮擋從掃描透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料布置在相比于發(fā)出亮光的掃描 透鏡更接近被亮光遮蔽的掃描透鏡。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，在遮擋亮光的方法中，狹縫被布置在遮光材料上。 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，包含光學(xué)掃描裝置的圖像形成設(shè)備包括任何一個(gè)上述的 光學(xué)掃描裝置。根據(jù)本發(fā)明的一種光學(xué)掃描裝置，遮光材料，遮擋亮光的方法，從掃描透鏡產(chǎn)生的亮 光被有效的遮擋了，并且被阻止投影到以相對(duì)方式布置的掃描透鏡上。進(jìn)一步的，還可能 減少由遮光材料和偏轉(zhuǎn)裝置產(chǎn)生的噪聲。而且，根據(jù)本發(fā)明的圖像形成設(shè)備能夠進(jìn)行清晰 的圖像形成并且減少了從光學(xué)掃描裝置產(chǎn)生的噪聲。當(dāng)結(jié)合附圖閱讀下面詳細(xì)的描述時(shí)，本發(fā)明的其它目的，特征和優(yōu)勢(shì)就變得更加明顯。


圖1是顯示沒(méi)有遮光材料的傳統(tǒng)的光學(xué)掃描裝置的平面圖；圖2是顯示傳統(tǒng)的光學(xué)掃描裝置的簡(jiǎn)圖；圖3是顯示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的平面圖；圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的橫截面視圖；圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的內(nèi)部透視圖；圖6是顯示噪聲等級(jí)的比較的曲線圖；圖7A是顯示遮光材料的位置和它的效果的簡(jiǎn)圖7B是顯示遮光材料的位置和它的效果的簡(jiǎn)圖； 圖7C是顯示遮光材料的位置和它的效果的簡(jiǎn)圖； 圖7D是顯示遮光材料的位置和它的效果的簡(jiǎn)圖； 圖8是顯示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的平面圖； 圖9是顯示噪聲等級(jí)的比較的曲線圖； 圖IO是顯示遮光材料的橫截面視圖； 圖ll是顯示遮光材料的橫截面視圖；以及 圖12是顯示圖像形成設(shè)備的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面，參考附圖來(lái)描述本發(fā)明的實(shí)施例。本實(shí)施例中的光學(xué)掃描裝置包括偏轉(zhuǎn)裝置， 用于將來(lái)自光束發(fā)射裝置的復(fù)數(shù)個(gè)光束相對(duì)于偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)到的兩個(gè)基本相反的方向；以 及光束掃描系統(tǒng)，用于將通過(guò)偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的用于掃描的復(fù)數(shù)個(gè)光束引導(dǎo)到每個(gè)對(duì)應(yīng)的掃 描表面從而執(zhí)行成像。光束發(fā)射裝置，偏轉(zhuǎn)裝置以及光學(xué)掃描裝置都包含在單個(gè)的外殼中。 光束發(fā)射裝置包括用于發(fā)射光束的光學(xué)系統(tǒng)，設(shè)置有諸如激光源的光源，以及平行光管透 鏡，平行光管透鏡用于將來(lái)自光源的光束作為基本平行的光束照射到偏轉(zhuǎn)裝置或柱面透鏡 上。偏轉(zhuǎn)裝置通常包括復(fù)數(shù)個(gè)旋轉(zhuǎn)的多角鏡，振動(dòng)反射鏡，或類似裝置。旋轉(zhuǎn)的多角鏡具 有作為中心軸的旋轉(zhuǎn)中心。振動(dòng)反射鏡也有旋轉(zhuǎn)中心，并且在旋轉(zhuǎn)時(shí)進(jìn)行振動(dòng)，因此在下 面的敘述中旋轉(zhuǎn)中心就被認(rèn)為是中心軸。掃描光學(xué)系統(tǒng)包括用于在掃描面上聚集光束的掃 描透鏡，光路轉(zhuǎn)換鏡，以及類似裝置。雖然原理上可以使用單個(gè)的掃描透鏡，但是許多情 況下都使用復(fù)數(shù)個(gè)的掃描透鏡。在這種情況下，本發(fā)明描述的掃描透鏡是指從偏轉(zhuǎn)裝置發(fā) 出的光束首先被投影到其上的掃描透鏡。掃描表面是光電導(dǎo)體表面，比如光導(dǎo)鼓。在光學(xué)掃描裝置中，用于遮擋來(lái)自掃描光學(xué)系統(tǒng)的掃描透鏡的反射或發(fā)散光(亮光) 的遮光材料被布置在偏轉(zhuǎn)裝置附近，并且在利用偏轉(zhuǎn)裝置的光束偏轉(zhuǎn)和掃描區(qū)域之外，也 就是，在從光束發(fā)射裝置發(fā)出，經(jīng)過(guò)偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)，并且投影到掃描光學(xué)系統(tǒng)上的光束的 光路之外。通過(guò)將遮光材料布置在光束偏轉(zhuǎn)和掃描區(qū)域之外，遮光材料被配置為不阻擋光 束的傳播。于是，遮光材料就關(guān)于產(chǎn)生亮光的掃描透鏡(此后稱為第一掃描透鏡)布置， 并且更接近相反的掃描透鏡(此后稱為第二掃描透鏡)。通過(guò)以這種方式將遮光材料布置 為接近每一個(gè)相對(duì)的掃描透鏡，就可能阻止從每個(gè)掃描透鏡中產(chǎn)生的亮光通過(guò)相對(duì)的掃描
光學(xué)系統(tǒng)照射到掃描表面上。與此一致的是，就可能阻止記錄在光電導(dǎo)體上的重像，和產(chǎn) 生諸如條紋狀污點(diǎn)和；類似瑕疵的圖像質(zhì)量的退化。另一方面，通過(guò)這種方式構(gòu)造光學(xué)掃 描裝置，遮光材料被布置在被從第一掃描透鏡產(chǎn)生的亮光遮蔽的掃描透鏡(第二掃描透鏡) 的附近，從而遮光材料相對(duì)的遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)裝置。因此，當(dāng)遮光材料的位置靠近偏轉(zhuǎn)裝置時(shí)， 就可能阻止從偏轉(zhuǎn)裝置產(chǎn)生的噪聲的增加。進(jìn)一步的，由于諸如遮光材料而產(chǎn)生的對(duì)反射 面或類似物的損壞的可能性通過(guò)制造光學(xué)掃描裝置或故障的發(fā)生而被減小。下面，將會(huì)結(jié)合圖3來(lái)描述具體的例子，圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的平 面圖。在光學(xué)掃描裝置中，掃描光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)于作為中心的偏轉(zhuǎn)裝置62以基本對(duì)稱的方 式布置。單個(gè)的偏轉(zhuǎn)裝置62將四道光束偏轉(zhuǎn)到兩個(gè)基本相反的方向中的每個(gè)方向中的兩組光流中，用于掃描。此外，兩對(duì)掃描光學(xué)系統(tǒng)在平面圖的正交方向上的圖的前后都互相 重疊，從而只有兩個(gè)掃描光學(xué)系統(tǒng)被顯示出來(lái)。在這種情況下，來(lái)自彼此相對(duì)的掃描光學(xué) 系統(tǒng)的亮光就會(huì)引起圖像失真的問(wèn)題，比如相對(duì)的掃描光學(xué)系統(tǒng)上的重像。例如，如果遮光材料89a沒(méi)有被布置，當(dāng)光束被反射和發(fā)散到用于成像的掃描透鏡的入射面時(shí)，反射和 發(fā)散的光(亮光)在相反的掃描透鏡64的方向上傳播，并且進(jìn)入了包括掃描透鏡64的掃 描光學(xué)系統(tǒng)66。進(jìn)入掃描光學(xué)系統(tǒng)66的亮光通過(guò)掃描光學(xué)系統(tǒng)66發(fā)射到圖像載體68上。 當(dāng)亮光發(fā)射在圖像載體68上時(shí)，在形成的圖像上就會(huì)產(chǎn)生條紋狀污點(diǎn)和重像。或者，由 于覆蓋亮光產(chǎn)生了背景瑕疵或污點(diǎn)。這就會(huì)導(dǎo)致圖像質(zhì)量的退化。遮光材料89a和遮光材 料89b被布置為阻止亮光進(jìn)入用于在相反側(cè)成像的掃描透鏡64，并且阻止亮光發(fā)射在圖像 載體的掃描表面上。另一方面，當(dāng)遮光材料被接近偏轉(zhuǎn)裝置布置時(shí)，雖然亮光被遮擋，但 是由于偏轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流由于遮光材料被干擾了，從而噪聲的增加就成了問(wèn)題。 考慮到這些，在本實(shí)施例中，相對(duì)于產(chǎn)生亮光的掃描透鏡63，遮光材料被布置為更接近從 亮光遮蔽的透鏡64。與此一致的是，當(dāng)提供遮擋亮光的效果的同時(shí)，可能將遮光材料布置 在遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)裝置的位置。當(dāng)以遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)裝置的方式布置遮光材料時(shí)，偏轉(zhuǎn)裝置對(duì)由偏轉(zhuǎn)裝 置的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的噪聲沒(méi)有影響。在這種情況下，當(dāng)以盡可能遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)裝置的方式布置遮 光材料時(shí)，就有必要阻止遮光材料被布置過(guò)于靠近掃描透鏡64，并且阻止由光束發(fā)射裝置 發(fā)出，由偏轉(zhuǎn)裝置62偏轉(zhuǎn)，并投影到掃描透鏡64上的光束的光路。圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置的橫截面視圖。圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué) 掃描裝置的內(nèi)部透視圖。如這些附圖所示，安裝在普通的彩色圖像形成設(shè)備上的光學(xué)掃描 裝置使用用于掃描的四個(gè)光束來(lái)支持四種顏色的成像。然而，在圖4的橫截面圖上重疊的
光束和光學(xué)系統(tǒng)有基本相同的操作和功能，因此，主要基于單個(gè)的光學(xué)掃描裝置來(lái)進(jìn)行描 述并且省略了用于四種顏色的光學(xué)掃描裝置的描述。但是，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)掃描裝置并 不局限于這兩種光學(xué)掃描裝置。雖然對(duì)遮光材料89a和89b進(jìn)行了描述，但是對(duì)于投影到掃描光學(xué)系統(tǒng)65的掃描透鏡 63上的亮光，提供了相同的效果。在這種情況下，遮擋來(lái)自掃描透鏡64的亮光的遮光材 料90a和90b就具有遮擋亮光的功能。進(jìn)一步的， 一般來(lái)說(shuō)，以相對(duì)的方式布置的掃描透 鏡63和64相對(duì)于作為點(diǎn)的偏轉(zhuǎn)裝置的中心軸線并不對(duì)稱。如圖3所示，雖然掃描透鏡63 和64是雙向?qū)ΨQ的，掃描透鏡63和64被偏移到圖像的上部，也就是說(shuō)，光束發(fā)射裝置 52到54處。換句話說(shuō)，偏轉(zhuǎn)裝置62相對(duì)于掃描透鏡63和64被相對(duì)地移動(dòng)到圖像的下部。 因此，相對(duì)于通過(guò)連接掃描透鏡63中心和掃描透鏡64中心限定的線，亮光有可能從上側(cè) 泄露，也就是說(shuō)，在許多情況下從光束發(fā)射裝置52到54的一側(cè)并投影到相對(duì)的掃描透鏡。 考慮到這些，較好的是，作為遮光材料89a和90a的遮光材料相對(duì)于通過(guò)連接掃描透鏡63 中心和掃描透鏡64中心限定的線布置在上側(cè)，也就是說(shuō)，在圖中所示的光束發(fā)射裝置52 到54的一側(cè)。更好的是，作為遮光材料89b和90b的遮光材料被布置在上述一側(cè)的相反 一側(cè)，也就是說(shuō)，在光束發(fā)射裝置52到54的相反一側(cè)。更可取的是，在光學(xué)掃描裝置中，布置在如上所述的圖3中的相對(duì)于通過(guò)連接掃描透 鏡63中心和掃描透鏡64中心限定的線的上側(cè)的遮光材料89a，相對(duì)于圖3中從光束發(fā)射 裝置54或55射向偏轉(zhuǎn)裝置62并將被投影在被要從亮光被遮蔽的掃描透鏡64上的光束的 光路，遮光材料89a布置在掃描透鏡64的一側(cè)。相對(duì)于從偏轉(zhuǎn)裝置62射出到掃描透鏡64 上的光束的光路(這種情況下圖像最上方向上的用于掃描的被偏轉(zhuǎn)光束的光路)，遮光材 料89a同樣被布置在光束發(fā)射裝置54和55的區(qū)域。這個(gè)區(qū)域在來(lái)自光束發(fā)射裝置54和 55的光束的光路之外，同樣也在從偏轉(zhuǎn)裝置62到掃描透鏡64的光束的光路之外。進(jìn)一步 的，這個(gè)區(qū)域靠近掃描透鏡64，能夠有效的遮擋來(lái)自相對(duì)的掃描透鏡63的亮光，并且相 對(duì)遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)裝置62,從而這個(gè)區(qū)域不太可能對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置的噪聲產(chǎn)生影響。圖6是顯示當(dāng)遮 光材料被靠近偏轉(zhuǎn)裝置布置時(shí)和被相對(duì)遠(yuǎn)離偏轉(zhuǎn)裝置布置時(shí)的噪聲等級(jí)的圖表。從圖中可 以看到，當(dāng)遮光板靠近偏轉(zhuǎn)裝置時(shí)，在每一個(gè)頻帶處都產(chǎn)生噪聲等級(jí)急劇升高的尖峰。這 被認(rèn)為是噪聲增加的因素。當(dāng)遮光材料被布置為不會(huì)對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置產(chǎn)生的氣流噪聲的聲音產(chǎn)生影響時(shí)，較好地，遮 光材料的遮光表面是平坦的，并且包括遮光表面的平面不和偏轉(zhuǎn)裝置的中軸線相交。雖然如上所述指定了布置遮光材料的區(qū)域，但是在某些情況下，遮光材料需要被定位為靠近偏 轉(zhuǎn)裝置直到遮光材料對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置的噪聲產(chǎn)生影響的程度，從而使遮光材料具有完全遮光的 效果。在這種情況下，如上所述，當(dāng)遮光材料的遮光表面是平坦的，并且遮光表面不和包 括偏轉(zhuǎn)裝置的軸線的平面重疊時(shí)，隨著偏轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流不太可能被干擾，從 而隨著氣流產(chǎn)生的噪聲不會(huì)增加。 一般地，遮光材料是盤狀的，并且最好盤的平面不和包 括偏轉(zhuǎn)裝置的軸線的平面重疊。如圖7A和7B所示，當(dāng)遮光材料89是平坦的時(shí)，通過(guò)布 置遮光材料89從而使之與包含偏轉(zhuǎn)裝置62a的軸線的平面重疊，當(dāng)伴隨著偏轉(zhuǎn)裝置62a 的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流經(jīng)過(guò)遮光材料89時(shí)就可能產(chǎn)生噪聲。相反的，如圖7C和7D所示，即 使當(dāng)遮光材料89是平坦的時(shí)，通過(guò)布置遮光材料89從而使之不與包含偏轉(zhuǎn)裝置62a的軸 線的平面重疊，當(dāng)伴隨著偏轉(zhuǎn)裝置62a的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流經(jīng)過(guò)遮光材料89時(shí)就不太可能產(chǎn) 生噪聲。特別的，當(dāng)偏轉(zhuǎn)裝置是旋轉(zhuǎn)的多角鏡時(shí)，通過(guò)在偏轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)方向上傾斜遮光 材料，如圖7C和7D所示，對(duì)伴隨著偏轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流的干擾會(huì)減小，從而可能 較小噪聲或振動(dòng)的產(chǎn)生。遮光材料被布置在偏轉(zhuǎn)裝置的外周部以及偏轉(zhuǎn)裝置的光束偏轉(zhuǎn)和掃描區(qū)域之外。當(dāng)一 個(gè)遮光材料面對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角(邊緣部分)時(shí)，也就是說(shuō)，當(dāng)面對(duì)偏 轉(zhuǎn)裝置的遮光材料的末端在連接偏轉(zhuǎn)裝置的軸線和與偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角 的線上時(shí)，較好地，其它遮光材料被布置為不面對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角。當(dāng) 偏轉(zhuǎn)裝置旋轉(zhuǎn)時(shí)，在遮光材料面對(duì)與偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角時(shí)，噪聲可能會(huì)增 加。因此，噪聲增加的時(shí)刻會(huì)轉(zhuǎn)移到每個(gè)遮光材料中。換句話說(shuō)，當(dāng)一個(gè)遮光材料被布置 在連接偏轉(zhuǎn)裝置的軸線和偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角的直線上時(shí)，且當(dāng)其它遮光材 料同樣被布置在連接偏轉(zhuǎn)裝置的軸線和偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角的直線上時(shí)，伴 隨偏轉(zhuǎn)裝置旋轉(zhuǎn)和每個(gè)遮光材料產(chǎn)生的氣流的干擾就會(huì)增加，并且噪聲產(chǎn)生的時(shí)刻變得相 同，從而整體的噪聲也增加了。在本發(fā)明中，就可能阻止這種噪聲增加的倍數(shù)效果。當(dāng)構(gòu)造不太可能對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置引起的氣流噪聲的聲音產(chǎn)生影響的遮光材料時(shí)，較好地， 遮光材料的內(nèi)側(cè)是彎曲的并且遮光材料被布置為通過(guò)彎曲的表面圍繞偏轉(zhuǎn)裝置。圖8顯示 了光學(xué)掃描裝置5的一個(gè)例子，其中布置了彎曲的遮光材料。圖8中的光學(xué)掃描裝置5與 圖6中的光學(xué)掃描裝置5是不同的，其中布置了遮光材料96而不是遮光材料89b和90b。 這樣的話，當(dāng)遮光材料是彎曲的從而圍繞偏轉(zhuǎn)裝置時(shí)，較好地，遮光材料的內(nèi)側(cè)與偏轉(zhuǎn)裝 置的軸線有固定的距離，伴隨著偏轉(zhuǎn)裝置62的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生在遮光材料內(nèi)側(cè)的氣流不太可
能被干擾。雖然在遮光材料96中連接了對(duì)應(yīng)遮光材料89b的部分和對(duì)應(yīng)遮光材料90b的 部分，伹是只要得到足夠的遮擋亮光的效果就不必連接這些部分。然而，如果這些部分與 遮光材料96的中心部分被分開(kāi)，伴隨著偏轉(zhuǎn)裝置62的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流可能被干擾。當(dāng) 氣流被干擾時(shí)，噪聲可能增加，從而為了降低噪聲最好連接這些部分。在圖8中，雖然只 有一側(cè)的遮光材料是彎曲的，但是另一側(cè)的遮光材料也可以是彎曲的。圖9顯示了當(dāng)偏轉(zhuǎn)裝置高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，圖3中顯示的光學(xué)掃描裝置和圖8中顯示的光學(xué) 掃描裝置的噪聲等級(jí)的比較。從圖9中可以看到，如圖8所示的使用彎曲遮光材料構(gòu)成的 彎曲遮光板的光學(xué)掃描裝置的噪聲等級(jí)小于如圖3所示的使用不彎曲遮光板的光學(xué)掃描裝 置的噪聲等級(jí)。由于旋轉(zhuǎn)，偏轉(zhuǎn)裝置會(huì)產(chǎn)生氣流并且這可能引起噪聲，因此在許多情況下偏轉(zhuǎn)裝置被 包含在外殼中。在這種情況下，較好地，遮光材料最好和外殼是以一體的方式形成，從而 遮光材料被固定在外殼上。這樣，就可能減小遮光材料的振動(dòng)并且阻止在偏轉(zhuǎn)裝置的外周 部由被干擾的氣流產(chǎn)生的噪聲的增加。此外，當(dāng)遮光材料是和外殼以一體方式形成時(shí)，要 制造的部件的數(shù)目不會(huì)增加，因此從光學(xué)掃描裝置的制造看，這種遮光材料也是較好的。 圖5顯示了遮光材料被固定在外殼上的例子。遮光材料89a和90a被固定在偏轉(zhuǎn)裝置62 的外殼51的底部。圖10和圖11顯示了與偏轉(zhuǎn)裝置62的外殼51以一體的方式形成的遮光 材料89和89a的例子。該例子中的外殼是用不透明的樹(shù)脂制造的。圖10顯示了與外殼51 的底部以一體的方式形成的遮光材料89。圖11顯示了與外殼51的蓋子部分88a以一體的 方式形成的遮光材料89a。當(dāng)布置不超過(guò)三個(gè)掃描光學(xué)系統(tǒng)且布置了旋轉(zhuǎn)裝置的復(fù)數(shù)個(gè)旋轉(zhuǎn)的多角鏡時(shí)，以相對(duì) 的方式定位的一組透鏡可以被看作一個(gè)透鏡，并且每一組上可以布置一個(gè)遮光材料。例如， 如圖5所示，布置了掃描光學(xué)系統(tǒng)的四個(gè)掃描透鏡并且布置了偏轉(zhuǎn)裝置62的兩個(gè)旋轉(zhuǎn)的 多角鏡，在垂直方向上重疊的兩對(duì)掃描透鏡被看作一組透鏡65和66，并且遮光材料89a 和90a中的每一個(gè)都被布置在每一對(duì)掃描透鏡上。較好地，遮光材料89a和90a的遮光部 分的寬度確定為使其能夠遮擋可能投影在相對(duì)側(cè)的透鏡上的亮光，且在其它部分布置縫隙 從而形成用于伴隨偏轉(zhuǎn)裝置旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的氣流的路徑。偏轉(zhuǎn)裝置以高速旋轉(zhuǎn)并且在偏轉(zhuǎn)裝 置的外周部產(chǎn)生氣流，因此當(dāng)遮光材料被布置在偏轉(zhuǎn)裝置附近時(shí)，氣流通過(guò)偏轉(zhuǎn)裝置并且 可能產(chǎn)生噪聲或振動(dòng)。然而，如圖5所示，遮光材料設(shè)置有僅供遮擋可能在相對(duì)的掃描透 鏡聚集的亮光的寬度，并且布置了縫隙的其它部分形成了用于泄漏氣流的路徑。這樣，氣
流的干擾被減小了并且減小了噪聲或振動(dòng)的產(chǎn)生。圖10和圖11顯示了這種縫隙的較好的 例子。 一般的，遮光材料89的面對(duì)偏轉(zhuǎn)裝置62a和62b的部分是必要的，并且在許多情況 下，對(duì)應(yīng)于縫隙部91的部分不是用于遮擋向相對(duì)的掃描透鏡的亮光。在這種情況下，如 圖10和11所示，通過(guò)在遮光材料89和89a的部分上布置縫隙91，就可能在不減小遮光 效果的情況下減小在偏轉(zhuǎn)裝置外周部的由氣流產(chǎn)生的噪聲。圖12顯示了根據(jù)本發(fā)明的圖像形成設(shè)備的實(shí)施例。圖像形成設(shè)備100包括根據(jù)本發(fā) 明的上述的光學(xué)掃描裝置5。其它部分，也就是說(shuō)，紙張托盤23和24，顯影裝置18到21， 轉(zhuǎn)印裝置22，定影裝置26，以及圖像記錄托盤29，和類似的裝置與傳統(tǒng)圖像形成設(shè)備的 這些結(jié)構(gòu)是相同的。雖然圖像形成設(shè)備100包括四個(gè)光學(xué)掃描裝置，但是根據(jù)本發(fā)明的圖 像形成設(shè)備中的元件相同。盡管圖像形成設(shè)備100包括四個(gè)光學(xué)掃描裝置，根據(jù)本發(fā)明的 圖像形成設(shè)備可以包括相對(duì)于作為中心的偏轉(zhuǎn)裝置以基本相對(duì)的方式布置的不低于兩個(gè) 的光學(xué)掃描裝置。本發(fā)明并不僅僅局限于特定揭示的實(shí)施例，在不背離本發(fā)明的范圍的情況下可以進(jìn)行 變化和改進(jìn)。本申請(qǐng)基于2006年9月19號(hào)提交的日本在先申請(qǐng)No.2006-253501，這里通過(guò)引用結(jié) 合了該申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)掃描裝置，其特征在于，包括復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)射光束的光束發(fā)射裝置；偏轉(zhuǎn)裝置，該偏置裝置用來(lái)將從所述光束發(fā)射裝置發(fā)射的復(fù)數(shù)個(gè)光束偏轉(zhuǎn)到基本相反的方向；掃描光學(xué)系統(tǒng)，該掃描光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)于作為中心的所述偏轉(zhuǎn)裝置基本以相對(duì)的方式布置，且每個(gè)所述掃描光學(xué)系統(tǒng)使用由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束對(duì)掃描表面進(jìn)行掃描；以及至少一個(gè)遮光材料，該遮光材料遮擋從所述掃描光學(xué)系統(tǒng)中的第一掃描透鏡發(fā)出的亮光，從而阻止亮光投影到基本相對(duì)的所述掃描光學(xué)系統(tǒng)的第二掃描透鏡上，其中遮擋從所述第一掃描透鏡發(fā)出的亮光的所述遮光材料被布置為離所述第二掃描透鏡比離所述第一掃描透鏡更近。
2. 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中 從所述偏轉(zhuǎn)裝置的軸向來(lái)觀察所述光學(xué)掃描裝置時(shí)，相對(duì)于通過(guò)連接所述第一掃描透 鏡的中心和所述第二掃描透鏡的中心限定的直線，遮擋從所述第一掃描透鏡發(fā)出的亮 光的遮光材料布置在與發(fā)射出要被投影在所述第二掃描透鏡上光束的所述光束發(fā)射裝 置相同的一側(cè)。
3. 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中 從所述偏轉(zhuǎn)裝置的軸向來(lái)觀察所述光學(xué)掃描裝置時(shí)，相對(duì)于從所述光束發(fā)射裝置發(fā)射 到所述偏轉(zhuǎn)裝置并投影到所述第二掃描透鏡上的光束的光路，遮擋從所述第一掃描透 鏡發(fā)出的亮光的遮光材料布置在所述第二掃描透鏡側(cè)的區(qū)域，并且相對(duì)于從所述偏轉(zhuǎn) 裝置發(fā)射到所述第二掃描透鏡的光束的光路，該遮光材料布置在所述光束的光路側(cè)的 區(qū)域。
4. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中 從所述偏轉(zhuǎn)裝置的軸向來(lái)觀察所述光學(xué)掃描裝置時(shí)，相對(duì)于通過(guò)連接所述第一掃描透 鏡的中心和所述第二掃描透鏡的中心限定的直線，遮擋從所述第一掃描透鏡發(fā)出的亮 光的遮光材料布置在發(fā)射要被投影到所述第二掃描透鏡上的光束的所述光束發(fā)射裝置 的相反側(cè)。
5. 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中 所述遮光材料有盤狀的外形，并且被布置為包括遮光表面的平面不和所述偏轉(zhuǎn)裝置的中心軸相交。
6. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中當(dāng)特定的遮光材料面對(duì)所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角時(shí)，其它的遮光材料被 布置為不面對(duì)所述偏轉(zhuǎn)裝置的偏轉(zhuǎn)表面開(kāi)始接觸的角。
7. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中-所述遮光材料有彎曲的外形，從而能夠圍繞所述偏轉(zhuǎn)裝置。
8. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，其中 所述遮光材料被固定在包含所述偏轉(zhuǎn)裝置的外殼上。
9. 一種布置在光學(xué)掃描裝置上的遮光材料，其特征在于，包括復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)射光束的光束發(fā)射裝置；偏轉(zhuǎn)裝置，該偏置裝置用來(lái)將從所述光束發(fā)射裝置發(fā)射的復(fù)數(shù)個(gè)光束偏轉(zhuǎn)到基本相反 的方向；以及掃描光學(xué)系統(tǒng)，該掃描光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)于作為中心的所述偏轉(zhuǎn)裝置基本以相對(duì)的方式布 置，且每個(gè)所述掃描光學(xué)系統(tǒng)使用由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束對(duì)掃描表面進(jìn)行掃描， 所述遮光材料包括 縫隙，其中所述遮光材料遮擋從掃描透鏡中的一個(gè)發(fā)出的亮光，所述掃描透鏡以相對(duì)的方式布置 在所述掃描光學(xué)系統(tǒng)中，該掃描光學(xué)系統(tǒng)基本以相對(duì)的方式布置。
10. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)掃描裝置，其特征在于，包括 具有縫隙的遮光材料，其中所述遮光材料遮擋從所述掃描透鏡中的一個(gè)發(fā)出的亮光，所述掃描透鏡以相對(duì)的方式 布置在所述掃描光學(xué)系統(tǒng)中，該掃描光學(xué)系統(tǒng)基本以相對(duì)的方式布置。
11. 一種用于在光學(xué)掃描裝置中遮擋亮光的方法，其特征在于，包括 復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)射光束的光束發(fā)射裝置；偏轉(zhuǎn)裝置，該偏置裝置用來(lái)將從所述光束發(fā)射裝置發(fā)射的復(fù)數(shù)個(gè)光束偏轉(zhuǎn)到基本相反 的方向；以及掃描光學(xué)系統(tǒng)，該掃描光學(xué)系統(tǒng)使用由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的每個(gè)光束對(duì)掃描表面進(jìn)行 掃描，這種方法包括以下步驟將至少一個(gè)遮擋從掃描透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料布置為離從所述亮光要被遮蔽的掃描透鏡比離發(fā)出所述亮光的掃描透鏡更近。
12. 如權(quán)利要求ll所述的遮擋亮光的方法，其特征在于，其中 縫隙被布置在遮光材料上。
13. —種包括光學(xué)掃描裝置的圖像形成設(shè)備，其特征在于，包括 復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)射光束的光束發(fā)射裝置；偏轉(zhuǎn)裝置，該偏置裝置用來(lái)將從所述光束發(fā)射裝置發(fā)射的復(fù)數(shù)個(gè)光束偏轉(zhuǎn)到基本相反 的方向；掃描光學(xué)系統(tǒng)，該掃描光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)于作為中心的所述偏轉(zhuǎn)裝置基本以相對(duì)的方式布 置，且每個(gè)所述掃描光學(xué)系統(tǒng)使用由所述偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束對(duì)掃描平面進(jìn)行掃描 以及至少一個(gè)遮光材料，該遮光材料遮擋從所述掃描光學(xué)系統(tǒng)中的第一掃描透鏡發(fā)出的亮 光，從而阻止亮光投影到基本相對(duì)的所述掃描光學(xué)系統(tǒng)的第二掃描透鏡上，其中 遮擋從所述第一掃描透鏡發(fā)出的亮光的所述遮光材料被布置為離所述第二掃描透鏡比 離所述第一掃描透鏡更近。
全文摘要
揭示了一種光學(xué)掃描裝置包括復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)射光束的光束發(fā)射裝置；偏轉(zhuǎn)裝置，用來(lái)將從光束發(fā)射裝置發(fā)射的復(fù)數(shù)個(gè)光束偏轉(zhuǎn)進(jìn)基本相對(duì)的方向；相對(duì)于作為中心的偏轉(zhuǎn)裝置基本以相對(duì)的方式布置的掃描光學(xué)系統(tǒng)，每個(gè)掃描光學(xué)系統(tǒng)使用由偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束對(duì)掃描表面進(jìn)行掃描；以及至少一個(gè)遮擋從掃描光學(xué)系統(tǒng)中的第一掃描透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料，從而阻止亮光投影到基本相對(duì)的掃描光學(xué)系統(tǒng)的第二掃描透鏡上。遮擋從第一掃描透鏡發(fā)出的亮光的遮光材料被布置為離第二掃描透鏡比離第一掃描透鏡更近。
文檔編號(hào)G02B26/10GK101149477SQ200710147500
公開(kāi)日2008年3月26日 申請(qǐng)日期2007年9月19日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月19日
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