專利名稱：移載容器及應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
移載容器及應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)城本實(shí)用新型屬于一種用于半導(dǎo)體制程中移載容器內(nèi)部承托物件的技術(shù) 領(lǐng)域，具體而言是一種可減少承托接觸面積、且提供二次承托的移栽容器 承托結(jié)構(gòu)，借以減少物件與承托結(jié)構(gòu)因摩擦產(chǎn)生微粒的現(xiàn)象，且進(jìn)一步可 防止物件因滑脫撞擊而破裂。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，受到電子產(chǎn)品不斷朝向輕薄短小、高頻、高效能等特性發(fā)展 的影響，用于電子產(chǎn)品中的核心晶片就必需更進(jìn)一步的微小化與高效能化， 而欲使晶片微小化與具高效能則需使晶片上的集成電路線徑微細(xì)化，以容設(shè)更多的集成電路及元件，因此現(xiàn)有的集成電路線徑已由早期的0."微米 往90 - 45納米等制程發(fā)展，而晶片上集成電路線徑微細(xì)化的成敗關(guān)鍵，主要是在于半導(dǎo)體制程中的黃光微影制程技術(shù)，而其關(guān)鍵設(shè)備是在掃描步進(jìn) 機(jī)(Scanner)與光掩模(Reticle)的使用，因此一旦黃光微影制程中的物件，如光掩?；蚓A表面存在有微粒或水氣等，其會(huì)直接、且嚴(yán)重的影 響到制造的良率。故黃光微影制程需在極高等級(jí)的無(wú)塵室中進(jìn)行，為了解 決這些問(wèn)題，業(yè)界開(kāi)發(fā)有如美國(guó)專利第US 4， 532， 970號(hào)與美國(guó)專利第US 4，534， 389號(hào)的晶圓、光掩^f莫密閉移轉(zhuǎn)系統(tǒng)，以確保周圓環(huán)境的微:粒、水氣 或有害物質(zhì)不致進(jìn)入緊鄰光掩模與晶圓的環(huán)境中。然以現(xiàn)有的光掩模盒為例，請(qǐng)參照?qǐng)Dl所示，該光掩模盒10包含一框 體11、 一底座12、 一殼體13、數(shù)個(gè)導(dǎo)正臂14及數(shù)個(gè)推抵臂15。該底座12 可選擇性地拆卸或扣合于該連接殼體13的框體11內(nèi)，且該底座12是借由 數(shù)個(gè)承托塊16承托一光掩模20的下表面，該承托塊16具有一承載光掩模 20的水平承托面160;前述光掩模盒10的底座12是以具承托面160的承托塊16頂持該光掩 模20，由于承托面160與光掩模20的接觸面積大，且其硬度與耐磨性不足， 因此容易因磨擦產(chǎn)生微粒,甚至磨損破壞光掩模2 0底面圖形線路的遮蔽層， 而這些微粒會(huì)影響到光掩模膝光時(shí)的對(duì)焦，進(jìn)而造成不良品的產(chǎn)生，直接 影響到生產(chǎn)的效率。因此當(dāng)微粒達(dá)到一定數(shù)量時(shí)，需進(jìn)行光掩模盒10與光 掩模20的清洗，甚至重新更換光掩模20護(hù)膜或重新制作光掩模20圖形， 而增加營(yíng)運(yùn)的成本，無(wú)形間會(huì)間接的降低代工廠的竟?fàn)幜εc經(jīng)濟(jì)效益。為此，曾有業(yè)者開(kāi)發(fā)一種如中國(guó)臺(tái)灣專利公告第TWI224719號(hào)"光革支架的裝置"，其主要^t術(shù)是于光掩模盒內(nèi)設(shè)計(jì)有一利用聚醚醚酮(PEEK) 所制成的凸頂塊來(lái)頂持光掩模，且凸頂塊頂緣形成有一朝向中央傾斜、并 呈微弧的頂持部，該專利前案的設(shè)計(jì)，雖可克服傳統(tǒng)者易產(chǎn)生微粒的問(wèn)題， 但其接觸面積仍然過(guò)大，且其與底座的結(jié)合力性不佳，在冷熱交換的環(huán)境 中，容易因熱脹冷縮的變化而松脫，造成使用上的不便與困擾。再者，不論是現(xiàn)有的或前述專利的光掩^f莫盒于使用過(guò)程中，假使是采 用人為放置方式將該光掩才莫20置放于該底座12的承托塊16或凸頂塊時(shí)， 則容易因放置時(shí)的視線受阻或偏位等影響，導(dǎo)致該光掩模16置放后的位置 產(chǎn)生極大誤差，造成該光掩模16的一側(cè)自其中一承托塊16或凸頂塊上掉 落，使該光掩模20的底面是容易直接碰撞該底座12的上表面，進(jìn)而導(dǎo)致 該光掩模20的底面因碰撞而損壞。g用^f力《本實(shí)用新型的目的在于，提供一種新型結(jié)構(gòu)的移栽容器及應(yīng)用于移栽 容器的承托結(jié)構(gòu)，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其避免承托物件直接滑落撞擊， 使得物件可獲得額外的防護(hù)，從而更加適于實(shí)用。本實(shí)用新型的另一目的在于，提供一種可減少磨擦面積的移栽容器及 應(yīng)用于移栽容器的承托結(jié)構(gòu)，借以減少微粒產(chǎn)生，且能避免刮傷物件。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。 依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種移載容器，該移栽容器用于容置半導(dǎo)體光掩才莫 或晶圓等物件，其包含有 一底座，其頂面兩側(cè)的兩端分別設(shè)有一承托物 件的承托件，兩端的兩側(cè)承托件并排列于同一直線上，各承托件的頂緣具 有一第一凸片與一第二凸片，其中第一凸片與第二凸片彼此之間形成一預(yù) 定間隔距離，且第一凸片較第二凸片的高度更高，又同一側(cè)的承托件是令 較低的第二凸片位于相對(duì)的內(nèi)側(cè)； 一殼罩，其可選擇性與前述底座相對(duì)覆蓋或分離。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。前述的移載容器，其中所述的底座周緣形成有復(fù)數(shù)定位槽，而殼罩內(nèi) 部底緣設(shè)有復(fù)數(shù)對(duì)應(yīng)的卡扣件，供殼罩選擇性與底座覆蓋嵌卡或分離。前述的移栽容器，其中所述的底座頂面設(shè)有兩個(gè)相互對(duì)應(yīng)、且平行排 列的承抵座，而承托件則分沒(méi)于該兩承抵座的兩端。前述的移栽容器，其中所述的殼罩是由一具把手的塑膠外殼與一全屬 內(nèi)襯所組成。前述的移栽容器，其中所述的底座頂面設(shè)有兩個(gè)相互對(duì)應(yīng)、且平行排 列的承抵座，而承托件則分設(shè)于該兩承抵座的兩端，且承抵座的外側(cè)緣分別具有復(fù)數(shù)供貼抵物件兩側(cè)緣的凸片，而底座頂面并于兩承抵座一端間設(shè) 有一具供物件貼抵凸片的抵靠件，而殼罩內(nèi)緣則設(shè)有復(fù)數(shù)可壓箄與抵掣光掩模的壓抵件，且其中異于前述抵靠件的壓抵件并具有一推抵片，供利用 推抵片壓推導(dǎo)正光掩模定位于底座的承抵座與抵靠件上。前述的移載容器，其中所述的承托件的第一、二凸片的頂端是形成圓 弧狀的弧緣，以減少承托該光掩模時(shí)所產(chǎn)生的接觸面積。前述的移載容器，其中所述的承托件后方形成有一固定塊，該固定塊 兩側(cè)分別形成有一凹陷的頸槽，使得承托件可于承4氐座射出成.時(shí)，緊固于 該承抵座上，防止承托件任意松脫。前述的移載容器，其中所述的承托件是選自聚醚醚酮、聚酰亞胺樹(shù)脂 等耐磨性佳與高;t變的材質(zhì)所制成。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。 依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)棉，其是設(shè)于移栽容 器內(nèi)，用于承托放置半導(dǎo)體中如光掩?；蚓A等物件，該承托結(jié)構(gòu)是由一 承托件所構(gòu)成，承托件的頂緣具有一第一凸片與一第二凸片，其中第一凸 片與第二凸片彼此之間形成一預(yù)定間隔距離，且第 一凸片較第二凸片的高度更高，供提供二次防護(hù)之用，承托件的第一、二凸片的頂端是形成圓弧 狀的弧緣，以減少承托物件時(shí)所的接觸面積。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。前述的應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)，其中所述的承托件后方形成有一 固定塊，該固定塊兩側(cè)分別形成有一凹陷的頸槽，使得承托件可于承抵座 射出成時(shí)，緊固于該承4氐座上，防止承托件任意松脫。前述的應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)，其中所述的承托件是選自聚醚醚 酮、聚酰亞胺樹(shù)脂等耐磨性佳與高硬度的材質(zhì)所制成。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。由以上技術(shù)方案可知，本實(shí)用新型的移載容器包含有 一底座及一殼罩，其中底座上設(shè) 有由兩承抵座與抵靠件組成的"n"型支撐體，且兩側(cè)承抵座相對(duì)內(nèi)緣兩 端分別設(shè)有一承托件，該承托件是由耐磨性、高硬度的材質(zhì)制成，且各承托 件分別具有一較高的第一凸片與一較低的第二凸片，第一、二凸片頂端并形 成有一弧緣，使供減少頂撐物件的接觸面積，且同一承抵座的兩承托件是 令較低的第二凸片設(shè)于相對(duì)內(nèi)側(cè)，使得物件偏位滑離較高的第一凸片時(shí)， ,仍可由較低的第二凸片承托。通過(guò)本實(shí)用新型前述技術(shù)手段的具體展現(xiàn)，使得其在承托物件時(shí)，如 物件偏位滑離較高的第一凸片時(shí)，仍可由較低的第二凸片承托，形成二次 防護(hù)，避免物件直接滑落撞擊，再者可減少物件與承托件的摩擦面積，以減少;f鼓粒的產(chǎn)生與刮傷現(xiàn)象，以提高整體的制造良率，而能增加產(chǎn)品的附 加價(jià)值，同時(shí)提升其竟?fàn)幜εc經(jīng)濟(jì)效益。綜上所述，本實(shí)用新型特殊結(jié)構(gòu)的移載容器及應(yīng)用于移栽容器的承托 結(jié)構(gòu)，其具有上述諸多的優(yōu)點(diǎn)及實(shí)用價(jià)值，并在同類產(chǎn)品中未見(jiàn)有類似的 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)公開(kāi)發(fā)表或使用而確屬創(chuàng)新，其不論在產(chǎn)品結(jié)構(gòu)或功能上皆有較 大的改進(jìn)，在技術(shù)上有較大的進(jìn)步，并產(chǎn)生了好用及實(shí)用的效果，從而更 加適于實(shí)用，而具有產(chǎn)業(yè)的廣泛利用價(jià)值，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的新 設(shè)計(jì)。上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí) 用新型的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施 例，并配合附圖，詳細(xì)il明如下。附困說(shuō)明


圖1現(xiàn)有光掩模盒的組合剖視示意圖。 圖2本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的立體分解示意圖。 圖3本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的底座立體分解示意圖。 圖4本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的底座局部放大示意圖。 圖5本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的殼罩與底座未結(jié)合前的平面剖視圖。 圖6A本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的承托件頂撐光掩模的前視平面示意圖。 圖6B本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的承托件頂撐光掩模的側(cè)視平面示意圖。 圖7本實(shí)用新型較佳實(shí)施例于光掩模偏移滑落后的剖視圖，用以說(shuō)明 其防止光掩模直接撞擊抵持件的狀態(tài)。10:光掩模盒11:框體12:底座13:殼體14:導(dǎo)正臂15:推抵臂16:承托塊160:承托面20:光掩模5:移載容器50:底座51:定位槽52:承抵座53:凸片54:貼抵片55:承托件551:第一承片552:弧緣553:第二承片554:弧緣56:固定塊560:頸槽58:抵靠件59:凸片60:殼罩61:外殼62 :把手 65 :內(nèi)襯 67 :推抵片63 :卡扣件 66 :壓抵件 70 :光掩模具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定實(shí)用新型目的所采取的技術(shù)手 段及功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的移栽容器 及應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳 細(xì)說(shuō)明如后。本實(shí)用新型是一種用于半導(dǎo)體制程中如光掩?；蚓A等物件的移栽容 器承托結(jié)構(gòu)，請(qǐng)參照?qǐng)D2所揭示的，本實(shí)用新型較佳實(shí)施例是以容置光掩 模70的移栽容器5為主要實(shí)施例，該移栽容器5包含一底座50及一殼罩 60。光掩模70是承托置放于底座50上，且殼罩60是用以覆蓋結(jié)合該底座 50以構(gòu)成一移載容器5。再請(qǐng)參照?qǐng)D2、圖3所顯示，本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的底座50周緣形 成有復(fù)數(shù)供殼罩60覆蓋嵌卡的定位槽，又底座50頂面設(shè)有兩個(gè)相互對(duì)應(yīng)、 且平行排列的承抵座52，兩承抵座52的外側(cè)緣分別設(shè)有復(fù)數(shù)凸片53，且 各凸片53并具有向內(nèi)側(cè)凸伸的倒L型貼抵片54，供相對(duì)夾設(shè)光掩模70的 相對(duì)邊緣，又底座50頂面并于兩承抵座52—端間設(shè)有一抵靠件58，該抵 靠件58外側(cè)緣并向上凸伸有復(fù)數(shù)供光掩模70貼抵的凸片59，使光掩模70 可受承抵座52與抵靠件58作用定位于底座50上。再者兩承抵座52于相 對(duì)內(nèi)側(cè)緣的兩端分別設(shè)有一承托件55,用以確實(shí)承托該光掩模70。如進(jìn)一步參照?qǐng)D4、圖5、圖6所示，該承托件55是由如聚醚醚酮(PEEK) 或聚酰亞胺樹(shù)脂(VESPEL)等耐磨性佳與高硬度的材質(zhì)所制成，承托件55 的頂緣具有一第一凸片551與一第二凸片553，其中第一凸片551與第二凸 片553彼此之間形成一預(yù)定間隔距離，且第一凸片551較第二凸片553的 高度更高，又同一承抵座52兩端的承托件55是令較低的第二凸片553位 于相對(duì)的內(nèi)側(cè)，借由該第一凸片551與該第二凸片553的高度差設(shè)計(jì)，使 該光掩模70的一側(cè)自其中一承抵座52上掉落時(shí)，可防止該光掩模70直接 碰撞該底座50的承抵座52上表面(如圖7所示)。再者第一、二凸片551、 553的頂端是形成圓弧狀的弧緣552、 554,以減少承托該光掩模70時(shí)所產(chǎn) 生的接觸面積。又承托件55后方形成有一固定塊56，該固定塊56兩側(cè)于 鄰近承托件55背面處形成有一凹陷的頸槽560,使得承托件55可于承抵座 52射出成時(shí)，緊固于該承抵座52上，防止承托件55任意松脫，延長(zhǎng)其使 用壽命；又殼罩60是由一塑膠外殼61及一金屬內(nèi)襯65所組成，其中具把手62的外殼61內(nèi)部底緣具有對(duì)應(yīng)前述底座50定位槽51的卡扣件63,供殼罩 60利用卡扣件63選擇性與底座50嵌卡或分離，而內(nèi)襯65內(nèi)緣則設(shè)有復(fù)數(shù) 可壓掣與抵掣光掩模70的壓抵件66，且其中異于底座50抵靠件58的壓抵 件66并具有一推抵片67，供利用推抵片67壓推導(dǎo)正光掩模70定位于底座 50的承抵座52與抵靠件58上，且配合壓抵件66的作用，讓殼罩60覆蓋 于底座50上時(shí)，可導(dǎo)正光掩模70、且讓光掩模70不致滑移偏位。借此，組構(gòu)成一接觸面積小、且具二次防護(hù)作用的移載容器的承托結(jié)構(gòu)。通過(guò)前述的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，本實(shí)用新型于具體實(shí)施時(shí)，則請(qǐng)參照?qǐng)D5、圖6 A、圖6B及圖7所示，當(dāng)本實(shí)用新型移載容器5欲提供該光掩模70置放時(shí)，可利用人為放置方式或機(jī)械手臂自動(dòng)載入或其他適當(dāng)方式將該光掩模 70置放于該底座50的承抵座52承托件55上，并利用各承托件55較高的 第一凸片551托抵于該光掩模70的下表面，并使該光掩模70相對(duì)位于殼 罩60壓抵件66的推抵片67與底座50抵靠件58的凸片59間，以防止該 光掩模70水平位移。借此，本實(shí)用新型移載容器5可提供該光掩模70置 放其內(nèi)部，并提供該光掩模70適當(dāng)?shù)臍w位調(diào)整功能。且如上所述，相較于
圖1的現(xiàn)有光掩模盒，本實(shí)用新型底座50承抵座 52的承托件55于承托該光掩模70時(shí)，由于其僅利用較高的第一凸片551 來(lái)接觸，且第一凸片551頂緣具有呈圓弧狀的弧緣552,因此其與光掩^莫 70是呈弧型的點(diǎn)接觸，可大幅的減少接觸面積，而能減少因磨擦所產(chǎn)生的 微粒，同時(shí)避免光掩模70刮傷，防止影響到制造的良率。再者，當(dāng)光掩模 70因不同因素而向一側(cè)偏移掉落時(shí)，亦可借由該承托件55較低的第二凸片 553來(lái)輔助承接該光掩模70，形成二次防護(hù)，以避免該光掩模70的底面直 接碰撞該底座50或承抵座52的上表面，其確實(shí)可達(dá)到防止該光掩模70的 底面碰撞損壞的功能。更進(jìn)一步而言，本實(shí)用新型的承托件55具有一固定塊56,且承托件 55是于承抵座52射出成型時(shí)， 一體包覆于承托件55的固定塊56,而大幅 提升承托件55與承抵座52的結(jié)合力，避免承托件55因制程中的冷熱交換 而松脫，延長(zhǎng)其使用壽命。以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作 任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非 用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技 術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同 變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用 新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均 仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、 一種移載容器，該移載容器用于容置半導(dǎo)體光掩?；蚓A等物件，其特征在于其包含有一底座，其頂面兩側(cè)的兩端分別設(shè)有一承托物件的承托件，兩端的兩側(cè)承托件并排列于同一直線上，各承托件的頂緣具有一第一凸片與一第二凸片，其中第一凸片與第二凸片彼此之間形成一預(yù)定間隔距離，且第一凸片較第二凸片的高度更高，又同一側(cè)的承托件是令較低的第二凸片位于相對(duì)的內(nèi)側(cè)；一殼罩，其可選擇性與前述底座相對(duì)覆蓋或分離。
2、 如權(quán)利要求1所述的移栽容器，其特征在于其中該底座周緣形成有 復(fù)數(shù)定位槽，而殼罩內(nèi)部底緣設(shè)有復(fù)數(shù)對(duì)應(yīng)的卡扣件，供殼罩選擇性與底 座覆蓋嵌卡或分離。
3、 如權(quán)利要求1所述的移載容器，其特征在于其中該底座頂面設(shè)有兩 個(gè)相互對(duì)應(yīng)、且平行排列的承抵座，而承托件則分設(shè)于該兩承抵座的兩端。
4、 如權(quán)利要求1所述的移載容器，其特征在于其中該殼罩是由一具把 手的塑膠外殼與 一金屬內(nèi)襯所組成。
5、 如權(quán)利要求l所述的移載容器，其特征在于其中該底座頂面設(shè)有兩 個(gè)相互對(duì)應(yīng)、且平行排列的承抵座，而承托件則分i殳于該兩承抵座的兩端， 且承抵座的外側(cè)緣分別具有復(fù)數(shù)供貼抵物件兩側(cè)緣的凸片，而底座頂面并 于兩承抵座一端間設(shè)有一具供物件貼抵凸片的抵靠件，而殼罩內(nèi)緣則設(shè)有 復(fù)數(shù)可壓掣與抵掣光掩模的壓抵件，且其中異于前述抵靠件的壓抵件并具 有一推抵片，供利用推抵片壓推導(dǎo)正光掩模定位于底座的承抵座與抵靠件 上。
6、 如權(quán)利要求1所述的移載容器，其特征在于其中該承托件的第一、 二凸片的頂端是形成圓弧狀的弧緣，以減少承托該光掩模時(shí)所產(chǎn)生的接觸 面積。
7、 如權(quán)利要求1所述的移載容器，其特征在于其中該承托件后方形成 有一固定塊，該固定塊兩側(cè)分別形成有一凹陷的頸槽，使得承托件可于承 抵座射出成時(shí)，緊固于該承抵座上，防止承托件任意松脫。
8、 如權(quán)利要求1或6或7所述的移載容器，其特征在于其中該承托件 是選自聚醚醚酮、聚酰亞胺樹(shù)脂的耐磨性佳與高硬度的材質(zhì)所制成。
9、 一種應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)，其是^:于移載容器內(nèi)，用于^c托 放置半導(dǎo)體中如光掩?；蚓A等物件，其特征在于該承托結(jié)構(gòu)是由一承托 件所構(gòu)成，承托件的頂緣具有一第一凸片與一第二凸片，其中第一凸片與 第二凸片彼此之間形成一預(yù)定間隔距離，且第一凸片較第二凸片的高度更高，供提供二次防護(hù)之用，承托件的第一、二凸片的頂端是形成圓弧狀的 弧緣，以減少承托物件時(shí)所的接觸面積。
10、 如權(quán)利要求9所述的應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)，其特征在于其 中該承托件后方形成有一固定塊，該固定塊兩側(cè)分別形成有一凹陷的頸槽， 4吏得承托件可于承抵座射出成時(shí)，緊固于該承抵座上，防止承托件任意松 脫。
11、 如權(quán)利要求9或10所述的應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)，其特征在 于其中該承托件是選自聚醚醚酮、聚酰亞胺樹(shù)脂的耐磨性佳與高硬度的材 質(zhì)所制成。
專利摘要本實(shí)用新型關(guān)于一種移載容器及應(yīng)用于移載容器的承托結(jié)構(gòu)，用于承置半導(dǎo)體制程中物件的移載容器內(nèi)，該移載容器包含有一底座及一殼罩，其中底座上設(shè)有由兩承抵座與抵靠件組成的“ㄇ”型支撐體，且兩側(cè)承抵座相對(duì)內(nèi)緣兩端分別設(shè)有一承托件，該承托件是由耐磨性、高硬度的材質(zhì)制成，且各承托件分別具有一較高的第一凸片與一較低的第二凸片，第一、二凸片頂端并形成有一弧緣，使供減少頂撐物件的接觸面積，且同一承抵座的兩承托件是令較低的第二凸片設(shè)于相對(duì)內(nèi)側(cè)，使得物件偏位滑離較高的第一凸片時(shí)，仍可由較低的第二凸片承托，如此可減少物件與承托件的摩擦面積，以避免產(chǎn)生微粒，且防止物件瞬間滑落撞擊，造成物件的破損，以提高半導(dǎo)體的制造良率。
文檔編號(hào)G03F1/66GK201134423SQ200720127319
公開(kāi)日2008年10月15日 申請(qǐng)日期2007年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月10日
發(fā)明者廖莉雯, 陳俐慇 申請(qǐng)人:億尚精密工業(yè)股份有限公司