專利名稱：一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是涉及浸沒式光刻(ImmersionLithography)系統(tǒng)中的浸沒流場穩(wěn)定 裝置，特別是涉及一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)代光刻設(shè)備以光學(xué)光刻為基礎(chǔ)，它利用光學(xué)系統(tǒng)把掩膜版上的圖形精確 地投影曝光到涂過光刻膠的襯底(如硅片)上。它包括一個(gè)紫外光源、 一個(gè) 光學(xué)系統(tǒng)、 一塊由芯片圖形組成的投影掩膜版、 一個(gè)對準(zhǔn)系統(tǒng)和一個(gè)覆蓋光敏 光刻膠的襯底。
浸沒式光刻系統(tǒng)在投影透鏡和襯底之間的縫隙中填充某種液體，通過提高 該縫隙中介質(zhì)的折射率(n)來提高投影透鏡的數(shù)值孔徑(NA)，從而提高光刻 的分辨率和焦深。
在光刻過程中，為防止浸沒液體中的氣泡等污染物附著在硅片或透鏡表面 上，并使浸沒液體中的污染物和曝光熱量及時(shí)被帶走，必須保持浸沒液體處于 連續(xù)的流動狀態(tài)，通常采用正壓注液和負(fù)壓回收相結(jié)合以實(shí)現(xiàn)液體更新。同時(shí)， 為了保證生產(chǎn)效率，襯底需要進(jìn)行高速的掃描和步進(jìn)運(yùn)動。注液、回收以及襯 底運(yùn)動三者的協(xié)調(diào)，較大程度的決定了流場內(nèi)部穩(wěn)定性，并成為影響最終納米 級曝光精度的重要因素之一。
在控制流場穩(wěn)定性方面，當(dāng)前研究主要存在以下不足 (1)襯底高速運(yùn)動狀態(tài)下，由于分子附著力的作用，靠近襯底的液體將隨 襯底發(fā)生牽拉運(yùn)動，并由此導(dǎo)致流場邊界形態(tài)迅速發(fā)生變化；這種變化在不同 邊界位置均不一樣，通常采用的均壓密封方式無法對流場邊界進(jìn)行自適應(yīng)補(bǔ)償， 因而難以有效避免由此帶來的一系列問題。
流場邊界形態(tài)的變化主要由于襯底高速運(yùn)動牽拉液體所致，表現(xiàn)在動態(tài)接 觸角大小的變化，即與襯底運(yùn)動方向相同的前進(jìn)接觸角將變大，而與襯底運(yùn) 動方向相反的后退接觸角將變小。前進(jìn)接觸角變大，使得外界氣體更易被巻吸 到流場中形成氣泡，從而影響流場的均一性和曝光成像質(zhì)量。后退接觸角變小， 使得邊界液體更容易牽拉到流場外圍導(dǎo)致液體泄漏，并由此形成一系列缺陷(如 水跡)。同時(shí)，泄漏的液體還可能使得光刻設(shè)備某些部件無法正常工作，比如， 監(jiān)測襯底位置的干涉儀。(2)由于襯底牽拉形成的內(nèi)部流場波動，同樣也會形成對注液及回收口的 沖擊，從而改變注液及回收的流場及壓力特性，加劇了注液及回收二者協(xié)調(diào)控 制的難度。并易導(dǎo)致供液不足或者液體無法有效回收，前者易形成流場的萎縮
并引發(fā)氣泡的滲入，后者將增加迫使液體向外APRB泄漏的內(nèi)在動力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置，在襯底和投影 裝置的末端元件之間填充液體的同時(shí)，根據(jù)縫隙流場的形態(tài)變化與壓力波動進(jìn) 行自適應(yīng)緩沖或補(bǔ)償，維持縫隙流場的穩(wěn)定性。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下
本發(fā)明在投影透鏡組和待曝光襯底之間設(shè)置的流場穩(wěn)定裝置。所述的流場 穩(wěn)定裝置，由管路連接體，主體結(jié)構(gòu)，自適應(yīng)滑塊組，滑塊組通道組成；其中
1) 管路連接體由中心向外依次均開有四個(gè)等分分布的內(nèi)隔離腔連通大氣 通孔、注液口、回收口和外隔離腔連通大氣通孔；
2) 主體結(jié)構(gòu)由中心向外四個(gè)依次對稱開有矩形柱狀腔體，分別為內(nèi)隔離 腔、注液腔、回收腔和外隔離腔，四個(gè)腔體垂直向上，分別連通管路連接體的 內(nèi)隔離腔連通大氣通孔、注液口，回收口和外隔離腔連通大氣通孔；內(nèi)隔離腔 和外隔離腔槽的截面從上向下為大槽、小槽和大槽構(gòu)成，在內(nèi)隔離腔和外隔離 腔小槽之間，平行于襯底開有四組滑塊組通道；
3) 自適應(yīng)滑塊組每紐由內(nèi)向外自適應(yīng)滑塊組由內(nèi)滑塊和外滑塊組成，與 滑塊組通道采用間隙配合；外滑塊為截面為平行四邊形的棱柱，外滑塊外側(cè)面 與外隔離腔外壁面用彈簧連接；內(nèi)滑塊為截面為平行四邊形的棱柱，該組棱柱 在底面和頂面之間開有一矩形空腔，空腔槽寬與注液腔槽寬相等，內(nèi)滑塊的內(nèi) 側(cè)面與內(nèi)隔離腔內(nèi)壁面用彈簧連接。
所述外滑塊棱柱外側(cè)面與頂面角度為30度 60度，棱柱內(nèi)側(cè)面與底面角度 為30度 60度，棱柱長度比回收腔與外隔離腔之間壁面厚度長5 10mm。
所述內(nèi)滑塊棱柱外側(cè)面與底面角度為30度 60度，棱柱內(nèi)側(cè)面與頂面角度 為30度 60度，棱柱長度比內(nèi)隔離腔與回收腔之間的厚度長5 10mm。
本發(fā)明具有的有益效果是 (1)根據(jù)襯底的不同運(yùn)動方向，自動對縫隙流場進(jìn)行緩沖及補(bǔ)償。當(dāng)液體 由于襯底牽拉形成對密封結(jié)構(gòu)沖擊時(shí)，大部分運(yùn)動的液體將流入內(nèi)隔離腔和外 隔離腔，釋放了液體沖擊，極大的減少了液體向外泄漏可能性，以及由于運(yùn)動 受到阻礙形成的液體回流；另一方面，當(dāng)襯底牽拉液體遠(yuǎn)離密封結(jié)構(gòu)之時(shí)，內(nèi)隔離腔和外隔離腔內(nèi)的液體將跟隨進(jìn)入縫隙流場，抑制了由于邊界液體的缺失 引起的氣泡巻吸，部分可能從外界滲入的氣體將從外隔離腔連通大氣接口中得 到釋放。
(2)抑制流場波動對注液及回收的干擾。當(dāng)襯底牽拉流場形成的內(nèi)部波動 時(shí)，自適應(yīng)滑塊組因所受壓力失衡發(fā)生壓力左右移動，自動改變注液腔最小口 徑通路或回收腔最小口徑通路大小以避免內(nèi)部壓力波動影響注液及回收的穩(wěn)定 性及可靠性。


圖l是本發(fā)明與投影透鏡組相裝配的簡化示意圖。 圖2是本發(fā)明的P-P剖面視圖。 圖3是本發(fā)明主體結(jié)構(gòu)的G-G剖面視圖。 圖4是本發(fā)明自適應(yīng)滑塊組的受力及運(yùn)動方向分析圖。 圖4是表征襯底由中心向外部運(yùn)動時(shí)的流場自適應(yīng)穩(wěn)定原理圖。 圖5是表征襯底由外部向中心運(yùn)動時(shí)的流場自適應(yīng)穩(wěn)定原理圖。 圖6是示意性地表征襯底由外部向中心運(yùn)動時(shí)的流場自適應(yīng)穩(wěn)定原理圖。 圖中1、投影透鏡組，2、浸沒流場穩(wěn)定裝置，2A、管路連接體，2B、主 體結(jié)構(gòu)，2C、自適應(yīng)滑塊組，2D、滑塊組通道，3、襯底，4A、內(nèi)隔離腔，4B、 內(nèi)隔離腔連通大氣接口， 4C、內(nèi)隔離腔最小口徑通路，5A、注液腔，5B、正壓 注液口， 5C、注液腔最小口徑通路，6A、回收腔，6B、負(fù)壓回收口， 6C、回收 腔最小口徑通路，7A、外隔離腔，7B、外隔離腔連通大氣接口， 7C、外隔離腔 最小口徑通路，8、密封結(jié)構(gòu)，9、縫隙流場，10、內(nèi)滑塊，11、外滑塊，F(xiàn)l、 彈簧力，F(xiàn)2、壁面力，F(xiàn)3、回收腔液體吸力，F(xiàn)4、外隔離腔液體推力，F(xiàn)5、內(nèi) 隔離腔液體推力，VI、外滑塊運(yùn)動方向，V2內(nèi)滑塊運(yùn)動方向
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
如圖1、圖2、圖3所示本發(fā)明在投影透鏡組1和待曝光襯底3之間設(shè)置的 流場穩(wěn)定裝置2。所述的流場穩(wěn)定裝置2，由管路連接體2A，主體結(jié)構(gòu)2B，自 適應(yīng)滑塊組2C，滑塊組通道2D組成；其中
1) 管路連接體2A:由中心向外依次均開有四個(gè)等分分布的內(nèi)隔離腔連通 大氣通孔4B、注液口5B、回收口6B和外隔離腔連通大氣通孔7B;
2) 主體結(jié)構(gòu)2B:由中心向外四個(gè)依次對稱開有矩形柱狀腔體，分別為內(nèi)隔 離腔4A、注液腔5A、回收腔6A和外隔離腔7A，四個(gè)腔體垂直向上，分別連 通管路連接體2A的內(nèi)隔離腔連通大氣通孔4B、注液口 5B,回收口 6B和外隔離腔連通大氣通孔7B;內(nèi)隔離腔4A和外隔離腔7A槽的截面從上向下為大槽、 小槽和大槽構(gòu)成，在內(nèi)隔離腔4A和外隔離腔7A小槽之間，平行于襯底3開有 四組滑塊組通道2D;
3)自適應(yīng)滑塊組2C:每紐由內(nèi)向外自適應(yīng)滑塊組2C由內(nèi)滑塊和外滑塊組 成，與滑塊組通道2D采用間隙配合；外滑塊為截面為平行四邊形的棱柱，外滑
塊外側(cè)面與外隔離腔7A外壁面用彈簧連接；內(nèi)滑塊為截面為平行四邊形的棱
柱，該組棱柱在底面和頂面之間開有一矩形空腔，空腔槽寬與注液腔5A槽寬相 等，內(nèi)滑塊的內(nèi)側(cè)面與內(nèi)隔離腔4A內(nèi)壁面用彈簧連接。
所述外滑塊棱柱外側(cè)面與頂面角度為30度 60度，棱柱內(nèi)側(cè)面與底面角度 為30度 60度，棱柱長度比回收腔6A與外隔離腔7A之間壁面厚度長5 10mm。
所述內(nèi)滑塊棱柱外側(cè)面與底面角度為30度 60度，棱柱內(nèi)側(cè)面與頂面角度 為30度 60度，棱柱長度比內(nèi)隔離腔4A與回收腔6A之間的厚度長5 10mm。
管路連接體2A與主體結(jié)構(gòu)2B的連接方式采用粘接或者螺栓緊固。
圖1示意性地表示了本發(fā)明實(shí)施方案的流場穩(wěn)定裝置2與投影透鏡組1的 裝配，本裝置可以在分步重復(fù)或者步進(jìn)掃描式光刻設(shè)備中應(yīng)用。在曝光過程中， 從光源(圖中未給出)發(fā)出的光(如ArF或F2準(zhǔn)分子激光)通過對準(zhǔn)的掩模版 (圖中未給出)，投影透鏡組l和充滿浸沒液體的透鏡一襯底間縫隙場，對襯底 3表面的光刻膠進(jìn)行曝光。
圖2、圖3所示，本發(fā)明實(shí)施方案裝置是由管路連接體2A，主體結(jié)構(gòu)2B， 自適應(yīng)滑塊組2C和滑塊組通道2D組成。主體結(jié)構(gòu)2B中心開有用于安裝投影 透鏡的圓柱形通孔，自通孔向外，依次開有內(nèi)隔離腔4A，注液腔5A，回收腔 6A和外隔離腔7A，四個(gè)腔體垂直向上，通過管路連接體2A的對應(yīng)接口與外接 供水供氣系統(tǒng)連接；其中，回收腔6A與注液腔5A之間的腔壁，及外隔離腔7A 兩側(cè)腔壁下表面比主體結(jié)構(gòu)2B的下表面高0.3 lmm，從而使得由注液腔5A 注入的液體，能夠輕易地充滿整個(gè)縫隙流場9。
內(nèi)隔離腔4A、注液腔5A、回收腔6A和外隔離腔7A的腔壁上開有滑塊組 通道2D，自適應(yīng)滑塊組2C用間隙配合方式，內(nèi)嵌安裝在滑塊組通道2D內(nèi)，通 過水平滑移加以運(yùn)動，自適應(yīng)滑塊組2C利用浸沒液體實(shí)現(xiàn)自潤滑。自適應(yīng)滑塊 組2C與主體結(jié)構(gòu)2B之間使用彈簧連接，以實(shí)現(xiàn)自適應(yīng)滑塊組2C的正常工作 及復(fù)位。在外隔離腔7A外圍設(shè)置密封結(jié)構(gòu)8，其密封形式可采用氣體密封、液 體密封或者僅依靠張力抑制液體泄漏。管路連接體2A安裝在主體結(jié)構(gòu)2B上部，密封結(jié)構(gòu)8安裝在主體結(jié)構(gòu)2B外側(cè)，兩者的結(jié)合面均為平面，連接方式采用粘 接或者螺栓緊固。
圖4示意性地表征自適應(yīng)滑塊組2C的受力及運(yùn)動方向分析圖。圖4a所示， 當(dāng)襯底靜止時(shí)，外滑塊11左右兩側(cè)分別受到彈簧力Fl和回收腔液體吸力F3， 并且這兩力在水平方向達(dá)到平衡，因此外滑塊11靜止不動；內(nèi)滑塊10左右兩 側(cè)分別受到回收腔液體吸力F3和彈簧力Fl，并且這兩力在水平方向達(dá)到平衡， 因此內(nèi)滑塊10靜止不動。圖4b所示，當(dāng)襯底由中心向外部運(yùn)動時(shí)，由于縫隙 流場9內(nèi)部分液體進(jìn)入回收腔6A和外隔離腔7A，導(dǎo)致回收腔6A對外滑塊11 水平向右的液體吸力相應(yīng)增大，同時(shí)外滑塊11在外隔離腔7A受到水平向左的 外隔離腔液體推力F4，外滑塊ll在兩者合力作用下，沿水平方向向左運(yùn)動，直 至左側(cè)彈簧力Fl與兩者合力達(dá)成新的平衡；由于縫隙流場9內(nèi)部分液體進(jìn)入回 收腔6A和內(nèi)隔離腔4A，導(dǎo)致回收腔6A對內(nèi)滑塊10水平向左的液體吸力相應(yīng) 增大，同時(shí)內(nèi)滑塊110在內(nèi)隔離腔4A受到水平向右的內(nèi)隔離腔液體推力F5， 內(nèi)滑塊10在兩者合力作用下，沿水平方向向右運(yùn)動，直至右側(cè)彈簧力F1與兩 者合力達(dá)成新的平衡。同理，當(dāng)襯底由外部向中心運(yùn)動時(shí)外滑塊11和內(nèi)滑塊10 的運(yùn)動方向與圖4b相反。
圖5示意性地表征襯底3由中心向外部運(yùn)動時(shí)的流場自適應(yīng)穩(wěn)定原理圖。 液體受到襯底3高速牽拉向外運(yùn)動，從而導(dǎo)致縫隙流場9內(nèi)部分液體進(jìn)入內(nèi)隔 離腔4A、注液腔5A、回收腔6A和外隔離腔7A，并分別作用在自適應(yīng)滑塊組 2C側(cè)壁面上，導(dǎo)致自適應(yīng)滑塊組2C產(chǎn)生產(chǎn)生如圖箭頭所示方向運(yùn)動，從而實(shí) 時(shí)改變四個(gè)腔體內(nèi)的流量及壓力。在襯底3高速牽拉液體向外運(yùn)動過程中，大 部分運(yùn)動的液體將流入內(nèi)隔離腔4A和外隔離腔7A，從而釋放了液體沖擊，減 少了液體向外泄漏可能性，以及由于運(yùn)動受到阻礙形成的液體回流。同時(shí)，安 裝在內(nèi)外隔離腔的自適應(yīng)滑塊組2C將會自動發(fā)生移動，以增大內(nèi)隔離腔最小口 徑通路4C和外隔離腔最小口徑通路7C的口徑，使得液體更順利地進(jìn)入隔離腔 內(nèi)，減少了流向密封結(jié)構(gòu)8的液體，從根本上降低了發(fā)生泄漏的內(nèi)在動力。
襯底3向外牽拉迫使內(nèi)部流體向外運(yùn)動，從而分別減少和增大了注液腔5A 和回收腔6A液體的流量及壓力。此時(shí)安裝在回收腔6A和注液腔5A內(nèi)的自適 應(yīng)滑塊組2C將如圖示運(yùn)動，從而實(shí)時(shí)減小回收腔最小口徑通路6C的口徑，并 增大注液腔最小口徑通路5C的口徑，因而有效對注液及回收管路進(jìn)行補(bǔ)償，使 得回收腔6A回收液體、注液腔5A注入液體更平穩(wěn)，防止因回收過大和注液過 小而導(dǎo)致的流場萎縮及氣泡滲入。圖6示意性地表征襯底3由外部向中心運(yùn)動時(shí)的流場自適應(yīng)穩(wěn)定原理圖。
液體受到襯底3高速牽拉向內(nèi)運(yùn)動，從而導(dǎo)致內(nèi)隔離腔4A、注液腔5A、回收 腔6A和外隔離腔7A內(nèi)的部分液體流出腔體進(jìn)入縫隙流場9，并分別作用在自 適應(yīng)滑塊組2C側(cè)壁面上，導(dǎo)致自適應(yīng)滑塊組2C產(chǎn)生如圖箭頭所示方向運(yùn)動， 從而實(shí)時(shí)改變四個(gè)腔體內(nèi)的流量及壓力。內(nèi)隔離腔4C的液體首先流出并補(bǔ)充流 場內(nèi)因受牽拉而被抽走的液體，緩解了回收腔6A和注液腔5A底部流場受到的 牽拉作用，儲存在外隔離腔7A的液體同時(shí)也因牽拉作用實(shí)現(xiàn)流場補(bǔ)償；經(jīng)過內(nèi) 外隔離腔的雙重作用，抑制了由于邊界液體的缺失引起的氣泡巻吸。同時(shí)，安 裝在內(nèi)外隔離腔的自適應(yīng)滑塊組2C將會自動發(fā)生移動，以減小內(nèi)隔離腔最小口 徑通路4C和外隔離腔最小口徑通路7C的口徑，使得縫隙流場被牽拉的阻力增 大，更有效地防止液體因被襯底3牽拉產(chǎn)生高速運(yùn)動而拉扯液面形成巻吸作用 帶入氣泡。
襯底3向外牽拉迫使外部流體向內(nèi)運(yùn)動，從而分別增大和減小了注液腔5A 和回收腔6A液體的流量及壓力。此時(shí)安裝在回收腔6A和注液腔5A內(nèi)的自適 應(yīng)滑塊組2C將如圖示運(yùn)動，從而實(shí)時(shí)增大回收腔最小口徑通路6C的口徑，并 減小注液腔最小口徑通路5C的口徑，因而有效對注液及回收管路進(jìn)行補(bǔ)償，使 得回收腔6A回收液體、注液腔5A注入液體更平穩(wěn)，抑制了因回收小和注液過 大而迫使液體向外泄漏的內(nèi)在動力。
8
權(quán)利要求
1. 一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置，在投影透鏡組(1)和待曝光的襯底(3)之間設(shè)置的流場穩(wěn)定裝置(2)；其特征在于所述的流場穩(wěn)定裝置(2)，由管路連接體(2A)，主體結(jié)構(gòu)(2B)，自適應(yīng)滑塊組(2C)，滑塊組通道(2D)組成；其中1)管路連接體(2A)由中心向外依次均開有四個(gè)等分分布的內(nèi)隔離腔連通大氣通孔(4B)、注液口(5B)、回收口(6B)和外隔離腔連通大氣通孔(7B)；2)主體結(jié)構(gòu)(2B)由中心向外四個(gè)依次對稱開有矩形柱狀腔體，分別為內(nèi)隔離腔(4A)、注液腔(5A)、回收腔(6A)和外隔離腔(7A)，四個(gè)腔體垂直向上，分別連通管路連接體(2A)的內(nèi)隔離腔連通大氣通孔(4B)、注液口(5B)，回收口(6B)和外隔離腔連通大氣通孔(7B)；內(nèi)隔離腔(4A)和外隔離腔(7A)槽的截面從上向下為大槽、小槽和大槽構(gòu)成，在內(nèi)隔離腔(4A)和外隔離腔(7A)小槽之間，平行于襯底(3)開有四組滑塊組通道(2D)；3)自適應(yīng)滑塊組(2C)每紐由內(nèi)向外自適應(yīng)滑塊組(2C)由內(nèi)滑塊和外滑塊組成，與滑塊組通道(2D)采用間隙配合；外滑塊為截面為平行四邊形的棱柱，外滑塊外側(cè)面與外隔離腔(7A)外壁面用彈簧連接；內(nèi)滑塊為截面為平行四邊形的棱柱，該組棱柱在底面和頂面之間開有一矩形空腔，空腔槽寬與注液腔(5A)槽寬相等，內(nèi)滑塊的內(nèi)側(cè)面與內(nèi)隔離腔(4A)內(nèi)壁面用彈簧連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置，其特征在 于所述外滑塊棱柱外側(cè)面與頂面角度為30度 60度，棱柱內(nèi)側(cè)面與底面角度 為30度 60度，棱柱長度比回收腔(6A)與外隔離腔(7A)之間壁面厚度長 5 10mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置，其特征在 于所述內(nèi)滑塊棱柱外側(cè)面與底面角度為30度 60度，棱柱內(nèi)側(cè)面與頂面角度 為30度 60度，棱柱長度比內(nèi)隔離腔(4A)與回收腔(6A)之間的厚度長5 10mm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于光刻機(jī)的浸沒流場穩(wěn)定裝置。浸沒流場穩(wěn)定裝置是在投影透鏡組和襯底之間設(shè)置的裝置，所述的浸沒流場穩(wěn)定裝置由管路連接體、主體結(jié)構(gòu)、自適應(yīng)滑塊組組成。當(dāng)襯底高速運(yùn)動牽拉液體，導(dǎo)致縫隙流場發(fā)生波動時(shí)，自適應(yīng)滑塊組能實(shí)時(shí)調(diào)整位置以改變內(nèi)隔離腔，外隔離腔，注液腔和回收腔的流道大小，降低沖擊強(qiáng)度；內(nèi)外隔離腔的液體將實(shí)時(shí)補(bǔ)償流場的波動，自動對縫隙流場進(jìn)行緩沖及補(bǔ)償，吸收襯底牽拉形成的液力沖擊，抑制并控制流場的不穩(wěn)定性；注液腔和回收腔的流道大小也將在襯底高速運(yùn)動過程中實(shí)時(shí)改變，在縫隙流場的波動沖擊下，維持注液腔和回收腔的流量及壓力特性穩(wěn)定，維持注液及回收過程的穩(wěn)定性及可靠性。
文檔編號G03F7/20GK101477310SQ20081016417
公開日2009年7月8日 申請日期2008年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月29日
發(fā)明者新 傅, 李小平, 王利軍, 阮曉東, 穎 陳 申請人:浙江大學(xué);上海微電子裝備有限公司