專利名稱：：將涂覆或未涂覆的薄膜施用到透鏡基底上的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及將至少一個涂層轉(zhuǎn)移到或?qū)⑼扛不蛭赐扛驳谋∧訅旱酵哥R基底的至少一個幾何限定的表面上的改進(jìn)的工藝或方法，其可以在透鏡基底無任何變形危險的情況下在短時間內(nèi)完成，并獲得通過均勻厚度的粘合層粘附到該透鏡基底上的涂層或涂覆或未涂覆的薄膜。此外，本發(fā)明的工藝或方法能夠?qū)⑼繉愚D(zhuǎn)移到或?qū)⑼扛不蛭赐扛驳谋∧訅旱酵哥R基底的粗糙表面上，即已形成表面和精制但未經(jīng)拋光的透鏡基底表面，或已形成表面(切削)(通常通過數(shù)字表面成形)但未經(jīng)拋光的表面。
背景技術(shù)：
：本領(lǐng)域的常規(guī)做法是用數(shù)個涂層涂布透鏡基底(例如眼科透鏡或透鏡毛坯)的至少一個主表面，以使得最終透鏡具有附加或改進(jìn)的光學(xué)或機(jī)械性質(zhì)。這些涂層通常被稱作功能涂層。因此，一般做法是從透鏡基底的表面開始，依次用耐沖擊涂層(耐沖擊底涂層)、耐磨和/或耐劃傷涂層(硬涂層)、抗反射涂層和任選地防污外涂層涂布通常由有機(jī)玻璃材料制成的透鏡基底的至少一個主表面。也可以在透鏡基底的一個或兩個表面上施用其它涂層，例如偏振涂層、光致變色或染色涂層。已經(jīng)提出并公開了許多用于涂布眼科透鏡表面的工藝和方法。美國專利6，562，466描述了將涂層從至少一個模具部件轉(zhuǎn)移到透鏡毛坯的至少一個幾何限定的表面上的工藝或方法，其包括-提供具有至少一個幾何限定的表面的透鏡毛坯；-提供具有帶涂層的內(nèi)表面和外表面的載體或模具部件；-在所述透鏡毛坯的所述幾何限定的表面上或在所述涂層上沉積預(yù)測量的可固化粘合劑組合物；-使透鏡毛坯和該載體相對于彼此移動，以使該涂層與可固化粘合劑組合物接觸或使該可固化粘合劑組合物與該透鏡毛坯的幾何限定的表面接觸；-在載體外表面上施用足夠壓力，以致一旦可固化組合物固化，最終粘合層的厚度小于100微米；-使粘合劑組合物層固化；和-移除該載體或模具部件，以回收具有粘附到所述透鏡毛坯的幾何限定的表面上的涂層的透鏡毛坯。美國專利6，562，466使用液態(tài)的光或可熱固化粘合劑組合物以便將涂層從載體轉(zhuǎn)移到透鏡基底的表面上。該液態(tài)可固化粘合劑組合物需要既粘結(jié)到該載體上的暴露涂層上，又粘結(jié)到該透鏡基底的幾何限定的表面上。該方法要求精確滴加該液態(tài)粘合劑組合物，需要避免太多或太少的液態(tài)粘合劑，這使該方法較復(fù)雜且成本效率較低。此外，當(dāng)該液態(tài)粘合劑組合物沒有非常均勻地在透鏡曲面上鋪開時，尤其當(dāng)該透鏡表面具有多重曲線時，該方法可能造成光學(xué)畸變。特別地，當(dāng)利用施用在撓性涂層載體上的氣壓(可膨脹膜裝置)使該液態(tài)粘合劑組合物鋪開時，施用的壓力通常在整個載體表面上不均勻，以造成該液態(tài)粘合劑組合物的不均勻鋪展并產(chǎn)生具有一定的厚度變化的最終固化粘合層。公開的美國專利申請2006-0219347公開了將至少一個涂層從載體轉(zhuǎn)移到透鏡基底的幾何限定的表面上的工藝或方法，其包括下述步驟-(a)獲得具有帶有至少一個功能涂層的主表面的載體；-(b)獲得具有至少一個幾何限定的表面的透鏡基底；-(c)在所述至少一個功能涂層或該透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面上沉積粘合劑組合物層；-(d)使所述粘合劑組合物層達(dá)到該層在工藝條件下變得不流動的狀態(tài)，如果所述層在步驟(C)結(jié)束時尚未處于該狀態(tài)的話；-(e)使該載體和該透鏡基底相對于彼此移動，以使該粘合劑組合物層與該透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面或所述至少一個功能涂層直接接觸；-(f)將該粘合劑組合物層與所述至少一個功能涂層或該透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面壓在一起；-(g)任選地，在加壓步驟(f)中施加熱；-(h)停止加壓步驟(f)；和-(i)移除載體，以回收涂有通過透明粘合劑組合物層粘附到所述至少一個幾何限定的表面上的所述至少一個功能涂層的透鏡基底。所述粘合劑組合物選自壓敏粘合劑(PSA)和熱熔性粘合劑(HMA)。但是，仍然需要更好地控制粘合層的厚度和使整個基底表面上的粘合層厚度變化最小化。也仍需要用粘合層更好地覆蓋透鏡基底粗糙表面，即已經(jīng)形成表面和精制但未經(jīng)拋光的表面，該粘合劑材料填補(bǔ)表面缺陷，或已通過數(shù)字表面成形法形成表面但未經(jīng)拋光的透鏡基底。此外，還需要改進(jìn)最終產(chǎn)品的性能，例如耐熱性。美國專利5，128，388公開了可通過紫外線照射交聯(lián)的熱熔性粘合劑(HMA)，其包含熱熔性粘合劑基料、在分子中含有至少一個丙烯?；蕴峁┛赏ㄟ^紫外光照射而交聯(lián)的能力的飽和烴低聚物、以及光聚合引發(fā)劑。該HMA基料是嵌段熱塑性彈性體，包含聚苯乙烯嵌段和聚丁二烯或聚異戊二烯或乙烯_丁烯共聚物嵌段。US5，128，388還公開了制備光盤的方法，其包括在一對基底之一上施用所述可紫外線交聯(lián)的HMA，用紫外線照射該施用的HMA，然后將另一基底置于HMA表面上。發(fā)明概要因此，本發(fā)明的一個目的是提供將涂層轉(zhuǎn)移到或?qū)⑼扛不蛭赐扛驳谋∧訅旱酵哥R基底的幾何限定的表面上的工藝或方法，其產(chǎn)生涂覆的透鏡基底，其中該涂層或該涂覆或未涂覆的薄膜通過厚度非常均勻的粘合層粘附到該透鏡基底表面上，以充分實(shí)現(xiàn)該透鏡光學(xué)設(shè)計(jì)。進(jìn)一步目的是提供如上所述的工藝或方法，其還能夠?qū)⑼繉愚D(zhuǎn)移到或?qū)⑼扛不蛭赐扛驳谋∧訅旱酵哥R基底的粗糙表面上。另一目的是改進(jìn)最終透鏡基底性能，尤其是耐熱性。根據(jù)本發(fā)明，提供了將涂覆或未涂覆的薄膜施用到透鏡基底的至少一個幾何限定的表面上的方法，其包括下述步驟(a)提供液體熱熔性粘合劑(HMA)組合物，其包含1.至少一種HMA基聚合物，其具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg和任選地熔融溫度Tm，其中Tg<Tm；2.至少一種可聚合的、更優(yōu)選為可紫外線聚合的單體、低聚物或聚合物；和3.任選地，至少一種與所述至少一種聚合物和所述至少一種可聚合單體、低聚物或聚合物均相容的液體溶劑；(b)提供具有兩個相對主表面的薄膜任選地帶有至少一個功能涂層的第一主表面，和第二主表面；(c)提供具有至少一個幾何限定的表面的透鏡基底；(d)將所述液體HMA組合物施用到所述薄膜的表面或所述至少一個幾何限定的表面上；(e)將施用的液體HMA組合物干燥，以形成與所述薄膜的所述至少一個主表面或該透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面接觸的HMA干燥層；(f)使所述薄膜和透鏡基底相對于彼此移動，以使該HMA干燥層與所述透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面或所述薄膜的所述主表面之一接觸；(g)在薄膜上施加壓力；(h)加熱，以達(dá)到等于或高于玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg但如果所述聚合物表現(xiàn)出Tm則低于熔融溫度Tm的溫度TΛλ4Μ，所述單體或低聚物在該溫度1±<415下為液體；(i)在保持壓力和加熱的同時使所述單體、低聚物或聚合物聚合；(j)除去施加在所述載體上的壓力，并回收具有粘附到所述透鏡基底主表面上的薄膜的透鏡基底。在本發(fā)明的方法中，T最大處理優(yōu)選低于130°C，優(yōu)選低于120°C，更優(yōu)選低于110°C，更好低于或等于90°C。在本發(fā)明中，術(shù)語“聚合物”包括均聚物和共聚物。在本發(fā)明中，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)和熔融溫度(Tm)是通過差示掃描量熱法(DSC)測定的。優(yōu)選地，所述HMA基聚合物是熱塑性聚合物另外，優(yōu)選地，所述HMA基聚合物具有-60V至90°C、更優(yōu)選0°C至90°C、更好為40°C至90°C的Tg。另外，優(yōu)選地，所述HMA基聚合物具有<80°C的Tg。在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案中，所述薄膜的第一主表面帶有至少一個功能涂層。在更優(yōu)選的實(shí)施方案中，在步驟d)至f)中，所述薄膜的主表面是第二主表面，且所得透鏡基底以下述次序具有下述結(jié)構(gòu)透鏡基底/HMA固化層/薄膜/功能涂層。在本發(fā)明的方法的另一和優(yōu)選實(shí)施方案中，所述薄膜(優(yōu)選撓性薄膜或載體)的主表面帶有至少一個、優(yōu)選數(shù)個功能涂層的疊層，它們被轉(zhuǎn)移到透鏡基底上。當(dāng)然，然后相對于涂層疊層在透鏡基底上的所需次序，將這些涂層逆序施用在載體表面上。在所述后一實(shí)施方案中，步驟d)包括將所述液體HMA組合物施用到透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面或所述薄膜的所述第一主表面的所述功能涂層上。優(yōu)選地，步驟d)包括將液體HMA組合物施用到所述薄膜的所述第一主表面的所述功能涂層上。本發(fā)明的方法然后包括附加步驟k)移除所述薄膜或載體，以回收涂有通過HMA固化層粘附到所述至少一個幾何限定的表面上的至少一個功能涂層的透鏡基底。在本說明書的其余部分中，當(dāng)涉及轉(zhuǎn)移過程時，使用詞語“載體”取代“薄膜”。優(yōu)選地，將所述至少一個功能涂層轉(zhuǎn)移到或?qū)⑼扛不蛭赐扛驳谋∧訅旱剿鐾哥R基底的背面的幾何限定的表面上。在這種情況下，涂層轉(zhuǎn)移過程被稱為BST(背面轉(zhuǎn)移)法。當(dāng)然，可以使用本發(fā)明的方法涂布該透鏡基底的正面、或者背面以及正面的幾何限定的表面。透鏡基底的背面(通常為凹面)是該透鏡基底在使用時最接近佩戴者眼睛的表面。透鏡基底的正面(通常為凸面)是該透鏡基底在使用時距佩戴者眼睛最遠(yuǎn)的表面?？捎帽景l(fā)明方法處理的眼科制品是優(yōu)選包含透明聚合物基底的成品或半成品。將要在本發(fā)明中涂布的透鏡基底的幾何限定的表面可以是球形曲面、復(fù)曲面或累進(jìn)表面(progressivesurface)，條件是使用適當(dāng)?shù)目汕蛐巫冃位驌闲员∧ぁ１景l(fā)明還包括下述情況在薄膜的第一主表面或薄膜的第二主表面所帶的功能涂層上、或在透鏡基底的幾何限定的表面上預(yù)先沉積HMA組合物層，并將其干燥至該層不能流動的狀態(tài)，可以將其儲存并然后用在本發(fā)明的工藝步驟中。根據(jù)下述詳述，本發(fā)明的其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)會變得顯而易見。但是應(yīng)該理解，盡管指出了本發(fā)明的具體實(shí)施方案，但該詳述和具體實(shí)施例僅作為舉例說明給出，因?yàn)楦鶕?jù)這種詳述，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以看出在本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和保護(hù)范圍內(nèi)的各種變動和修改。附圖簡述當(dāng)與文中附圖結(jié)合考慮時，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀下文的詳述后容易看出本發(fā)明的前述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下述描述將更具體涉及涂層轉(zhuǎn)移方面的實(shí)施方案，S卩，其中使HMA可固化膠與要轉(zhuǎn)移的涂層接觸，并在工藝結(jié)束時移除被稱作載體的薄膜，以回收涂有通過HMA固化層粘合到至少一個幾何限定的表面上的所述至少一個功能涂層的透鏡基底。但是，相同工藝條件和HMA可固化膠可用于下述層壓實(shí)施方案使HMA可固化膠與和包含功能涂層的薄膜第一主表面相反的該薄膜的第二主表面接觸。圖IA至ID是用于將至少一個涂層轉(zhuǎn)移到透鏡基底的至少一個幾何限定的表面上的本發(fā)明方法第一實(shí)施方案主要步驟的示意圖，其中HMA組合物層被沉積在至少一個功能涂層上。本發(fā)明和優(yōu)選實(shí)施方案的詳述在本專利申請中，當(dāng)提及載體的基礎(chǔ)曲率時，是指載體工作面(即帶有要在移除載體后轉(zhuǎn)移至透鏡基底的幾何限定的表面上的涂層的表面)的基礎(chǔ)曲率。同樣地，透鏡基底的基礎(chǔ)曲率是指帶有將被轉(zhuǎn)移的涂層的表面的基礎(chǔ)曲率。在本申請中，基礎(chǔ)曲率具有下述定義對具有曲率半徑R的球面而言，基礎(chǔ)曲率(或基礎(chǔ))=530/R(R的單位為_)。該定義在本領(lǐng)域中相當(dāng)?shù)湫?。對?fù)曲面而言復(fù)曲面具有半徑為R和r的兩條主子午線，其中R>r，可以計(jì)算分別與限定該復(fù)曲面的曲率半徑R和r對應(yīng)的兩個基礎(chǔ)曲率BLR和BLr(BLR<BLr)?；A(chǔ)曲率(或基礎(chǔ))是指比率530/曲率半徑(單位為mm)。因此<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula>R和r以mm為單位。優(yōu)選地，本發(fā)明中所用的載體具有球形并具有基礎(chǔ)曲率BC。上述復(fù)曲面的基礎(chǔ)曲率BLR和BLr以及載體的基礎(chǔ)曲率BC應(yīng)滿足下述關(guān)系a)如果BLr-BLR彡3.50<BC-BLR<3且|BC-BLr|<1優(yōu)選地0.2<BC-BLR<2.5且|BC-BLr|<0.5b)如果BLr-BLR>3.5BLR<BC<BLr當(dāng)使用剛性載體時，載體的基礎(chǔ)曲率優(yōu)選與透鏡基底的基礎(chǔ)曲率相同。優(yōu)選地，當(dāng)使載體和透鏡基底相對于彼此移動時，首先在載體的中心部分上施加壓力，并在第二步驟中朝透鏡基底邊緣徑向增大壓力。在是撓性載體和在透鏡基底背面上轉(zhuǎn)移涂層的情況下，該載體的凸起正面的曲率半徑可以比要涂布的透鏡基底的凹面的曲率半徑短。在中心施加壓力，然后使該載體變形以便與該透鏡基底的幾何限定的表面共形。載體的直徑可以大于透鏡毛坯的直徑，或小于透鏡毛坯的直徑。用于本方法的透鏡基底可以是任何透明基底，優(yōu)選為光學(xué)領(lǐng)域中常用的任何塑料透明基底。該透鏡基底通常是透鏡或透鏡毛坯，優(yōu)選為眼科透鏡或透鏡毛坯，更優(yōu)選為透鏡毛坯。傳統(tǒng)上對眼科透鏡毛坯(例如由透明塑料制成的透鏡毛坯)的主表面施以表面機(jī)械處理。這種機(jī)械處理包括制得透鏡毛坯的一系列操作，其主表面被完美拋光并具有所需曲率(屈光力)。機(jī)械處理通常包括三個連續(xù)的步驟研磨、精細(xì)研磨(也稱精制)和拋光。研磨是要在該透鏡毛坯面上制造曲率的機(jī)械加工步驟。研磨后進(jìn)行的精細(xì)研磨(精制)進(jìn)一步改變透鏡毛坯的處理過的表面的幾何，但產(chǎn)生了半透明的透鏡毛坯，其處理過的表面仍表現(xiàn)出顯著的表面粗糙度。最后，拋光是相對較長的機(jī)械加工步驟，通常不改變處理過的表面的幾何，盡可能除去殘留的粗糙以產(chǎn)生最終的透明透鏡毛坯。本發(fā)明中所用的透鏡基底可以是拋光的，或僅精制而未被拋光。本發(fā)明中所用的透鏡毛坯可以是成品透鏡，即以其最終確定形狀獲得的透鏡，其兩個主表面都已表面成形或澆鑄成所需幾何。其通常如下制造在具有所需表面幾何的兩個模具之間澆注可聚合組合物，然后聚合。該透鏡毛坯也可以是半成品透鏡，即在模制后只有一個主表面已表面成形或澆鑄成所需幾何的透鏡，且其中優(yōu)選地該透鏡的一個面、優(yōu)選透鏡正面已預(yù)先用合適的涂層(抗反射、硬涂層、底涂層、耐沖擊涂層等)處理，另一面、優(yōu)選透鏡背面，使用本發(fā)明的方法涂布。其第二個面必須然后按需要進(jìn)行表面拋光。該透鏡毛坯也可以是偏光鏡片或光致變色鏡片。涂層待轉(zhuǎn)移至其上的透鏡基底的幾何限定的表面(優(yōu)選背面，或凹面)可以是球面、復(fù)表面或累進(jìn)表面。透鏡基底的幾何限定的表面是指光學(xué)表面，即具有所需幾何和平滑度的表面，或具有所需幾何但仍表現(xiàn)出一定粗糙度的表面，例如已研磨和精制但未拋光的表面。本發(fā)明可以有利地用于將涂層轉(zhuǎn)移到或?qū)⑼扛不蛭赐扛驳谋∧訅旱揭阎苯有纬杀砻娴淳坪臀磼伖獾耐哥R上。此類表面成形工藝通常被稱作數(shù)字表面成形、或直接表面成形或自由形式表面成形。與具有球形或圓柱形表面且只能在透鏡背面上工作的傳統(tǒng)透鏡表面成形工具相反，數(shù)字、自由形式或直接表面成形能夠按需要研磨透鏡毛坯的正面、背面或者這兩面，以產(chǎn)生復(fù)雜的透鏡設(shè)計(jì)。數(shù)字表面成形使用能夠局部切削該表面的工具，通常為金剛石基刀具。通常，計(jì)算機(jī)數(shù)字控制(CNC)的自由形式發(fā)生器根據(jù)所需參數(shù)制造透鏡表面，這些參數(shù)可包括超出普通球體、圓柱體和指定軸外的光學(xué)作用變量。一旦該表面已被“數(shù)字化”切削，精制步驟通常是不必要的。然后通常使用計(jì)算機(jī)控制的軟海綿系統(tǒng)將該透鏡拋光，以確保在保持表面曲線完整性的同時實(shí)現(xiàn)最佳透明度。常見的CNC機(jī)是Schneider公司以商品名HSC(HighSpeedCutting)提供的那些，例如HSC100。精制但未拋光的透鏡基底表面的狀態(tài)也可以以Rq表示。通常，精制表面(傳統(tǒng)表面成形工藝)的Rq高于或等于0.01微米，優(yōu)選為0.01微米至1.5微米，更優(yōu)選為0.05至1.0微米。在數(shù)字表面成形后、未精制且在拋光前的表面的Rq通常高于0.05微米且低于1微米，優(yōu)選低于0.6微米，更好低于0.4微米。通常，透鏡毛坯的拋光面的表面粗糙度Rq低于0.01微米，優(yōu)選大約0.005微米。如下測定Rq:有利地，使用TAYLORHOBSONFTS(來自TalysurfSeries2)表面光度儀/粗糙度測量系統(tǒng)測定該表面的均方根輪廓高度Rq(2DRq，此前也稱作粗糙度Rq)。該系統(tǒng)包括激光頭(例如，產(chǎn)品編號為112/2033-541)和具有2mm半徑球形/錐形頭的70毫米長探頭(產(chǎn)品編號112/1836)。該系統(tǒng)測量所選剖面中的二維輪廓以獲得曲線Z=f(x)。輪廓是在20毫米的距離上獲取的?？捎纱溯喞崛「鞣N表面特征，特別是其形狀、起伏和粗糙度。因此，為了測定Rq，對輪廓施以兩種不同的處理，即形狀提取和濾波，其相當(dāng)于中線提取。測定這種參數(shù)Rq的各種步驟如下-獲取輪廓Z=f(x)，-形狀提取，-濾波(中線提取)，和-確定參數(shù)Rq。輪廓獲取步驟包括，將前述系統(tǒng)的觸針在所述透鏡的表面上移動，以作為位移χ的函數(shù)儲存表面高度Z。在形狀提取步驟中，將前面步驟中獲得的輪廓與理想球面(即相對于球面具有最小輪廓差異的球面)建立關(guān)系。此處選擇的模式是LS弧形模式(最佳圓弧提取)。這提供了代表在起伏和粗糙度方面的表面輪廓特征的曲線。濾波步驟僅保留與特定波長對應(yīng)的缺陷。目的在于排除起伏，即波長高于粗糙度所致缺陷的波長的缺陷形式。在此，濾波器是高斯類型的且所用取舍點(diǎn)為0.25毫米。使用下述等式由所得曲線測定Rq<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>其中Zn是對于各個點(diǎn)相對于濾波過程中計(jì)算的中線的代數(shù)差Z。透鏡基底的表面可以是裸表面，即沒有任何沉積涂層的表面，或可以是已被一個或多個功能涂層、特別是底涂層覆蓋的表面。盡管透鏡基底可以由無機(jī)玻璃或有機(jī)玻璃制成，但其優(yōu)選由有機(jī)玻璃制成。該有機(jī)玻璃可以是熱塑性材料，例如聚碳酸酯和熱塑性聚氨基甲酸酯，或熱固性(交聯(lián))材料，例如二甘醇雙(烯丙基碳酸酯)聚合物和共聚物(特別是來自PPGIndustries的CR39)、熱固性聚氨基甲酸酯、聚硫氨酯、聚環(huán)氧化物、聚環(huán)硫化物、聚(甲基)丙烯酸酯、聚硫代(甲基)丙烯酸酯、以及其共聚物及其共混物。用于透鏡基底的優(yōu)選材料是聚碳酸酯和二甘醇雙(烯丙基碳酸酯)共聚物，特別是由聚碳酸酯制成的基底。優(yōu)選對要涂布的透鏡基底的幾何限定的表面預(yù)處理，以促進(jìn)粘合劑組合物層的粘合?？梢允褂萌魏挝锢砘蚧瘜W(xué)的促粘預(yù)處理步驟，例如溶劑處理、NaOH處理或電暈放電處理。優(yōu)選通過電暈放電對要涂布的透鏡基底的幾何限定的表面預(yù)處理。在載體所帶的涂層或涂層疊層上，或在涂層要轉(zhuǎn)移至其上的透鏡基底幾何限定的表面上，優(yōu)選在載體的涂層或涂層疊層上形成粘合劑組合物層。本發(fā)明方法的一個重要特征在于，使HMA組合物層達(dá)到該層在工藝條件下變得不可流動的狀態(tài)。這意味著，至少在移動步驟(f)和加壓步驟(g)之前，已將該HMA組合物層干燥至硬化態(tài)，以致該層不可顯著鋪展，特別是在本發(fā)明方法的加壓和加熱步驟下。盡管(最終)回收的涂覆的透鏡基底中HMA組合物層的厚度可以與最初沉積在功能涂層或透鏡基底的幾何限定的表面上的干燥HMA組合物層厚度有非常輕微的差異，但該HMA層的硬化(不可流動)態(tài)使得該層在該工藝過程中受壓和受熱時不會在該透鏡基底表面上流動。另一重要特征在于，干燥的HMA組合物層和要與該干燥的HMA層接觸的表面之間存在直接接觸。特別地，在干燥的HMA組合物層和要與該粘合層接觸的表面之間不存在液體層，尤其是不存在水基液體。在優(yōu)選實(shí)施方案中，本發(fā)明方法提供了回收的涂覆的透鏡基底，其中干燥的HMA組合物層具有均勻厚度。均勻厚度是指在整個層區(qū)域內(nèi)基本恒定的厚度，以使該層的厚度變化不會影響成品透鏡的屈光力。更確切地，當(dāng)層的最大厚度與最小厚度差不超過2.0微米，優(yōu)選不超過1.0微米且更優(yōu)選不超過0.65微米時，無論該透鏡曲面是球形、復(fù)曲面形還是具有累進(jìn)曲面形狀，層厚度都可以被視為均勻。由于該均勻預(yù)施用的HMA組合物層，涂層轉(zhuǎn)移過程引發(fā)的光學(xué)畸變風(fēng)險大大降低。這樣，可以在所有類型的屈光力透鏡、包括具有光學(xué)性能極精確的累進(jìn)表面的透鏡上轉(zhuǎn)移涂層。通常，一旦達(dá)到所述層在工藝條件下變得不可流動的狀態(tài)，粘合劑組合物層的厚度為0.5至30微米，優(yōu)選0.5至20微米，更優(yōu)選1至20微米，更好為1至10微米，最好為5至10微米。HMA組合物層的沉積可以通過本領(lǐng)域已知的任何技術(shù)進(jìn)行，例如浸涂、流涂、旋涂或干轉(zhuǎn)移，優(yōu)選旋涂和噴涂。旋涂是優(yōu)選的，因?yàn)槠淠軌颢@得具有非常均勻厚度的HMA層。“熱熔性粘合劑HMA”是指室溫固體但撓性的粘合劑，其在加熱時熔融或粘度降低，并在冷卻時快速凝固以形成粘合。本發(fā)明中所用的HMA甚至在步驟h)的加熱后也不可流動，因?yàn)槠湎仍诜浅＞o密的狀態(tài)下層壓。因此，當(dāng)涂層轉(zhuǎn)移時，最終透鏡中HMA層的厚度變化通常小于2微米。如前所述，本發(fā)明的最終固化的HMA層是由HMA組合物獲得的，該HMA組合物包含至少一種具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg和任選地熔融溫度Tm(其中Tg<Tm)的HMA基聚合物、至少一種可聚合、優(yōu)選可光聚合的單體、低聚物或聚合物和任選地至少一種與所述聚合物和所述可聚合單體、低聚物或聚合物均相容的溶劑。優(yōu)選的HMA基聚合物具有低于90°C、優(yōu)選_60°C至90°C、更優(yōu)選0°C至90°C、更好為40°C至90°C的Tg。當(dāng)該聚合物具有Tg時，如果該聚合物的Tg低于40°C，尤其是如果該聚合物的Tg低于0°C，甚至低于-60°c，所得HMA層往往較不穩(wěn)定。如果該聚合物的Tg高于90°C，則該方法變得難以實(shí)施。HMA基聚合物可以是用于配制熱熔性粘合劑的任何已知聚合物，但優(yōu)選為熱塑性聚合物。因此，HMA基聚合物可以選自聚烯烴、聚酰胺、聚氨基甲酸酯、聚氨基甲酸酯/脲、聚乙烯基吡咯烷酮、聚酯、聚酯酰胺、聚(噁唑啉)和聚(甲基)丙烯酸體系。優(yōu)選的HMA基聚合物是聚(噁唑啉)、聚(甲基)丙烯酸類、聚氨基甲酸酯、聚氨基甲酸酯(脲)、聚烯烴、由烯烴和聚乙烯基吡咯烷酮形成的共聚物、聚酯酰胺、聚酯。合適的聚烯烴特別公開在美國專利5，128，388中。優(yōu)選的聚烯烴是嵌段熱塑性彈性體，例如包含聚苯乙烯嵌段、聚丁二烯嵌段、聚異戊二烯嵌段或乙烯_丁烯共聚物嵌段的嵌段彈性體。HMA基聚合物可以是聚氨基甲酸酯，特別是干燥聚氨基甲酸酯膠乳，例如Baxenden以商品名W-240和W-234出售的膠乳。優(yōu)選類型的HMA基聚合物由聚(甲基)丙烯酸體系構(gòu)成。可以使用干燥聚(甲基)丙烯酸膠乳，例如Zeneca以ACRYLICLATEXA-639為名銷售的丙烯酸酯膠乳。在優(yōu)選的聚(甲基)丙烯酸體系中，可以提及聚((甲基)丙烯酸烷基酯)，特別是聚(甲基丙烯酸烷基酯)，例如聚(甲基丙烯酸甲酯)和聚(甲基丙烯酸丁酯)。特別優(yōu)選的聚(甲基)丙烯酸乳狀液是Joncryl乳狀液之類的乳狀液，如Joncryl1532、8383、1919、1980、1972、1992。其它優(yōu)選的膠乳是核/殼膠乳，例如美國專利6，503，631中描述的那些，尤其是基于(甲基)丙烯酸烷基酯(例如丙烯酸丁酯或甲基丙烯酸丁酯)的膠乳。另一類優(yōu)選的HMA基聚合物由聚(噁唑啉)構(gòu)成。這些聚合物包含下式的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>其中R是烷基，優(yōu)選C1-C4烷基，或芳基，優(yōu)選苯基。優(yōu)選的聚(噁唑啉)是聚(2-乙基-2-噁唑啉)和聚(2-乙基-2-苯基-噁唑啉)。此類聚(噁唑啉)可以以商品名AQUAZOL(聚(2-乙基噁唑啉))和AQUAZOLHP/HVIS(聚(2-乙基-2-苯基-2"噁唑啉))購自PolymerChemistryInnovationsInc0最優(yōu)選的HMA基聚合物是聚((甲基)丙烯酸烷基酯)，特別是聚(甲基丙烯酸丁酯)，和聚(噁唑啉)，特別是聚(烷基噁唑啉)，尤其是聚(2-乙基-2-噁唑啉)。HMA組合物的第二重要成分是可聚合的、優(yōu)選可紫外線聚合的單體、低聚物、聚合物或此類單體、低聚物或聚合物的混合物。優(yōu)選的第二組分是可聚合單體、低聚物或此類組分的混合物。在HMA組合物中可以使用任何可光聚合的單體和/或低聚物。優(yōu)選地，它們在單獨(dú)與HMA基聚合物混合、或與適當(dāng)溶劑一起與HMA基聚合物混合時不會引起相分離。在優(yōu)選的可光聚合單體和低聚物中，可以提及包含至少一個、優(yōu)選兩個或更多個可光聚合官能團(tuán)(例如(甲基)丙烯酸酯基、羥基和羧基)的單體和低聚物。優(yōu)選的單體和低聚物是單(甲基)丙烯酸酯和多(甲基)丙烯酸酯化合物。多(甲基)丙烯酸酯化合物優(yōu)選是二(甲基)丙烯酸酯和三(甲基)丙烯酸酯化合物。單(甲基)丙烯酸酯和聚(甲基)丙烯酸酯化合物的混合物，特別是單(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯和/或三(甲基)丙烯酸酯的混合物是優(yōu)選的。在單(甲基)丙烯酸酯化合物中，可以提及2，4，6_三溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯。在二(甲基)丙烯酸酯化合物中，可以提及環(huán)己烷二甲醇二丙烯酸酯和雙酚A二甲基丙烯酸酯。在三丙烯酸酯化合物中，可以提及三(2-羥乙基)異氰脲酸酯三丙烯酸酯。重要的要求是所述可聚合單體和低聚物在溫度下必須為液體形式。所述可聚合單體和低聚物在環(huán)境溫度(即20至25°C的溫度)可以是液體，在此情況下，HMA基聚合物可直接合并到該單體和低聚物中。這些可光聚合單體和低聚物在環(huán)境溫度可以是固體，因此可以使用溶劑或溶劑混合物制備所述HMA組合物。所述溶劑或溶劑混合物必須與所述HMA基聚合物以及所述單體和低聚物都相容。合適的溶劑是i.a.水、醇(例如鏈烷醇)、酮(例如甲乙酮)、酯(例如烷基乙酸酯)、THF等。通常，可聚合單體和/或低聚物/HMA基聚合物的重量比為955至595，優(yōu)選8020至2080，更好4060至6040。所述HMA組合物還可以包括至少一種聚合弓I發(fā)劑，特別是熱聚合弓I發(fā)劑或紫外線聚合引發(fā)劑。重要的是，在等于或高于所述HMA基聚合物的Tg溫度的溫度下引發(fā)聚合。在第一實(shí)施方案中，所述單體或低聚物是可熱聚合的。推薦的熱引發(fā)劑是過氧化二酰，例如過氧化月桂酰(商品名LuperoxLP)、過氧化苯甲酰(商品名=LuperoxA98)，過氧二碳酸酯，例如過氧二碳酸二正丙酯(商品名Luperox221)、過氧二碳酸二仲丁酯(商品名Luperox225V60)、過氧二碳酸二(2-乙基己酯)(商品名Luperox223S)，過氧酯，例如過氧新癸酸叔丁酯Luperox10，2，5-二(2-乙基己酰過氧)-2，5-二甲基己烷，例如Luperox256。也可以使用如AIBN(偶氮二異丁腈)之類的經(jīng)典熱引發(fā)劑。熱引發(fā)劑以通常量加入，即HMA基聚合物以及所述可熱聚合單體和低聚物總重量的0.1至5重量份，優(yōu)選1至5重量份，在第二和優(yōu)選的實(shí)施方案中，所述單體或低聚物是可光聚合的。作為光聚合引發(fā)劑，可以無限制地使用為使可聚合單體光聚合而加入的任何公知化合物。在適用于本發(fā)明的光聚合引發(fā)劑中，可以提及二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、α-二羰基化合物、?；趸⒒衔?、雙酰基氧化膦化合物及其混合物。更具體而言，光引發(fā)劑化合物可以由下式表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>其中R1和R2是烷基，它們在一起可以形成環(huán)己烷環(huán)，R13是烷基或氫原子，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>其中R4相同或不同，并且是甲基、甲氧基或氯原子，e是2或3，R5是苯基或甲氧基，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>可優(yōu)選用于本發(fā)明的光聚合引發(fā)劑的實(shí)例如下所述苯乙酮聚合引發(fā)劑1)1-苯基-2-羥基-2-甲基丙-1-酮，2)1-羥基環(huán)己基苯基酮，和3)1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙酮。α-二羰基化合物1)1，2-二苯基乙二酮，和2)甲基苯基乙醛酸。?；趸⒐饩酆弦l(fā)劑1)2，6-二甲基苯甲酰基二苯基氧化膦，2)2，4，6-三甲基苯甲?；交趸ⅲ?)2，4，6-三甲基苯甲?；交鶃嗢⑺峒柞?，4)2，6-二氯苯甲?；交趸?，和5)2，6-二甲氧基苯甲?；交趸?。這些光聚合弓I發(fā)劑可以以單種使用，或以兩種或多種種類的組合使用。雙?；趸⒐饩酆弦l(fā)劑1)雙(2，6_二甲氧基苯甲?；?-2，4，4_三甲基戊基氧化膦。優(yōu)選的光引發(fā)劑包括下述光引發(fā)劑Irgacure500二苯甲酮和1-羥基環(huán)己基苯基的1/1混合物。Irgacure184<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>Irgacure1850<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>在本發(fā)明中，光引發(fā)劑以通常量加入，即HMA基聚合物以及可光聚合單體和低聚物總重量的0.1至5重量份，優(yōu)選1至5重量份。通常，紫外線功率為40毫瓦至140毫瓦，紫外線固化時間為20秒至10分鐘，這取決于所用的紫外線強(qiáng)度。帶有要轉(zhuǎn)移的涂層的載體是剛性或撓性載體，優(yōu)選撓性載體。撓性載體是可移除載體，即要在涂層轉(zhuǎn)移過程結(jié)束時被移除的基底，以便在該過程結(jié)束后只有涂層或涂層疊層轉(zhuǎn)移到該透鏡基底的幾何限定的表面上。優(yōu)選的撓性載體可以是由塑料、尤其是熱塑性材料制成的薄支承元件?？捎糜谥圃煸撦d體的熱塑性(共)聚合物的實(shí)例是聚砜、脂族聚(甲基)丙烯酸酯(例如聚(甲基)丙烯酸甲酯)、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、SBM(苯乙烯-丁二烯-甲基丙烯酸甲酯)嵌段共聚物、聚苯硫醚、亞芳基多氧化物、聚酰亞胺、聚酯、聚碳酸酯(例如雙酚A聚碳酸酯)、PVC、聚酰胺(例如尼龍)、其它共聚物及其混合物。優(yōu)選的熱塑性材料是聚碳酸酯。此類可移除的撓性載體通常具有0.2至5毫米、優(yōu)選0.5至2毫米的厚度。眾所周知，普通功能涂層包括防污外涂層、抗反射涂層、耐磨和/或耐劃傷涂層、耐沖擊涂層、偏振涂層、光致變色涂層、染色涂層、印刷層、微結(jié)構(gòu)化層。優(yōu)選地，本發(fā)明中所用的功能涂層選自防污外涂層、抗反射涂層、耐磨和/或耐劃傷涂層和耐沖擊涂層。通常，載體的主表面帶有數(shù)個功能涂層的疊層。理想地，所述幾個功能涂層的疊層從載體主表面開始包括防污外涂層、抗反射涂層(AR涂層)、耐磨和/或耐劃傷涂層(硬涂層)和任選地耐沖擊底涂層，這些層以所述這種次序(與光學(xué)制品上的最終次序相反)沉積。值得注意的是，透明粘合劑組合物層可有利地充當(dāng)耐沖擊底涂層。隨之，其優(yōu)選如下所述滿足耐沖擊底涂層的優(yōu)選要求，例如低于30°C的Tg。同樣值得注意的是，該涂層或該涂層疊層的最外涂層可以涂有保護(hù)和防粘涂層，其用于保護(hù)該涂層或涂層疊層，且必須在實(shí)施本發(fā)明的方法之前除去。所述防污外涂層(其在成品光學(xué)制品中構(gòu)成透鏡基底上的最外涂層)旨在改進(jìn)成品光學(xué)制品、特別是抗反射涂層的耐污跡性。如本領(lǐng)域已知的那樣，防污外涂層是其中與去離子水的靜態(tài)接觸角為至少60°、優(yōu)選至少75°、更優(yōu)選至少90°、更好高于100°的層。最有效的防污外涂層具有110°或更高的靜態(tài)水接觸角。靜態(tài)接觸角是根據(jù)液滴法測定的，其中在光學(xué)制品上形成直徑小于2毫米的水滴并測量接觸角。優(yōu)選用于本發(fā)明的防污外涂層是表面能小于14毫焦耳/平方米的那些。當(dāng)使用表面能小于13毫焦耳/平方米且更好小于12毫焦耳/平方米的防污外涂層時，本發(fā)明特別有益。上文提及的表面能值根據(jù)下述文獻(xiàn)中描述的OwensWendt法計(jì)算=Owens,D.K.；Wendt,R.G."Estimationofthesurfaceforceenergyofpolymers",J.App1.Polym.Sci.1969,51，1741-1747。此類防污外涂層是本領(lǐng)域公知的，通常由氟代硅氧烷或氟代硅氮烷(即帶有含氟基團(tuán)的硅氧烷或硅氮烷)制成，它們既疏水又疏油。優(yōu)選的防污外涂層材料的實(shí)例是ShinEtsu以KP801M為名出售的產(chǎn)品?？梢允褂萌魏蔚湫统练e法將該外涂層沉積到載體上，但優(yōu)選使用熱蒸發(fā)技術(shù)。防污外涂層的厚度通常為1至30納米，優(yōu)選1至15納米，更優(yōu)選1至5納米。抗反射涂層及其制造方法是本領(lǐng)域公知的。抗反射涂層可以是提高成品光學(xué)制品的抗反射性質(zhì)的任何層或疊層。該抗反射涂層優(yōu)選由介電材料(例如SiO、SiO2,Si3N4,TiO2,ZrO2,A1203、MgF2或Ta2O5或其混合物)的單層或多層膜構(gòu)成。特別可以根據(jù)下述技術(shù)之一通過真空沉積法施用該抗反射涂層1)-通過蒸發(fā)，任選地離子束輔助的蒸發(fā)；2)_通過使用離子束的噴涂；3)_通過陰極濺射；或4)-通過等離子體輔助的氣相化學(xué)沉積?？梢酝ㄟ^施用液體溶液、優(yōu)選通過旋涂法施用該抗反射涂層。在抗反射涂層包括單層的情況下，其光學(xué)厚度必須等于λ/4，其中λ是450至650納米的波長。該抗反射涂層優(yōu)選是包含三個或更多個交替具有高和低折射率的介電材料層的多層膜。當(dāng)然，該多層抗反射涂層的介電層以與它們在成品光學(xué)制品上的存在次序相反的次序沉積在該載體或該防污外涂層上。優(yōu)選的抗反射涂層可以包含由真空沉積形成的四個層的疊層，例如光學(xué)厚度為大約100至160納米的第一SiO2層，光學(xué)厚度為大約120至190納米的第二&02層，光學(xué)厚度為大約20至40納米的第三SiO2層和光學(xué)厚度為大約35至75納米的第四&02層。優(yōu)選地，在沉積四層抗反射疊層后，可以沉積1至50納米厚(物理厚度)的SiO2薄層。該層促進(jìn)該抗反射疊層與通常之后沉積的耐磨和/或耐劃傷涂層之間的粘合，但不是光學(xué)活性的。要沉積的下一層是耐磨和/或耐劃傷涂層。可以使用任何已知的光學(xué)耐磨和/或耐劃傷涂料組合物形成該耐磨和/或耐劃傷涂層。例如，該耐磨和/或耐劃傷涂料組合物可以是可紫外線固化和/或可熱固化的組合物。耐磨和/或耐劃傷涂層在定義上是與相同的但沒有耐磨和/或耐劃傷涂層的光學(xué)制品相比提高了成品光學(xué)制品的耐磨和/或耐劃傷性的涂層。優(yōu)選的耐磨和/或耐劃傷涂層是通過使包括環(huán)氧烷氧基硅烷或其水解產(chǎn)物、任選地膠態(tài)礦物填料和固化催化劑的前體組合物固化而制成的那些。此類組合物的實(shí)例公開在美國專利4，211，823、WO專利94/10230、美國專利5，015，523、歐洲專利614957中。最優(yōu)選的耐磨和/或耐劃傷涂料組合物是包含下述材料作為主要成分的那些環(huán)氧烷氧基硅烷，例如Y-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GLYMO)，和二烷基二烷氧基硅烷，例如二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)，膠態(tài)二氧化硅和催化量的固化催化劑，例如乙酰丙酮化鋁或其水解產(chǎn)物，該組合物的其余部分基本由常用于配制這些組合物的溶劑構(gòu)成。為了提高該耐磨和/或耐劃傷涂層與之后沉積的耐沖擊底涂層或與透明粘合劑組合物層的粘合，可以在該耐磨和/或耐劃傷涂料組合物中加入有效量的至少一種偶聯(lián)齊。優(yōu)選的偶聯(lián)劑是環(huán)氧烷氧基硅烷和優(yōu)選包含末端烯屬雙鍵的不飽和烷氧基硅烷的預(yù)縮合溶液。環(huán)氧烷氧基硅烷的實(shí)例是GLYM0、Y-環(huán)氧丙氧丙基五甲基二硅氧烷、Y_環(huán)氧丙氧丙基-甲基-二異丙烯氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧丙基_甲基-二乙氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧丙基-二甲基-乙氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧丙基-二異丙基-乙氧基硅烷和Y-環(huán)氧丙氧丙基-雙(三甲基甲硅烷氧基)甲基硅烷。優(yōu)選的環(huán)氧烷氧基硅烷是GLYM0。不飽和烷氧基硅烷可以是乙烯基硅烷、烯丙基硅烷、丙烯酸硅烷或甲基丙烯酸硅焼。乙烯基硅烷的實(shí)例是乙烯基三(2_甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基三異丁氧基硅烷、乙烯基三叔丁氧基硅烷、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基甲基二乙酰氧基-硅烷、乙烯基雙(三甲基甲硅烷氧基)硅烷和乙烯基二甲氧基乙氧基硅烷。烯丙基硅烷的實(shí)例是烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷和烯丙基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷。丙烯酸類硅烷的實(shí)例是3-丙烯酰氧基丙基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷、3-丙烯酰氧基_丙基_三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基-丙基甲基-二甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基-甲基雙(三甲基甲硅烷氧基)硅烷、3-丙烯酰氧基丙基-二甲基甲氧基硅烷、Ν-(3-丙烯酰氧基-2-羥基丙基)-3-氨基丙基-三乙氧基硅烷。甲基丙烯酸硅烷的實(shí)例是3-甲基丙烯酰氧基丙基三(乙烯基二甲氧基甲硅烷氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三(三甲基甲硅烷氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基-丙基-三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-五甲基-二硅氧烷、3-甲基-丙烯酰氧基-丙基-甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基-丙基甲基-二乙氧基-硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基_二甲基_甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基_丙基-二甲基乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基_丙烯基-三甲氧基_硅烷和3-甲基丙烯酰氧基_丙基雙(三甲基甲硅烷氧基)甲基硅烷。優(yōu)選的硅烷是丙烯酰氧基丙基-三甲氧基硅烷。用于偶聯(lián)劑制備的環(huán)氧烷氧基硅烷和不飽和烷氧基硅烷的量優(yōu)選使得重量比R=環(huán)氧烷氧基硅烷的重量不飽和烷氧基硅烷的重量符合條件0.8彡R彡1.2。偶聯(lián)劑優(yōu)選包含至少50重量％、更優(yōu)選至少60重量％的來自該環(huán)氧烷氧基硅烷和不飽和烷氧基硅烷的固體材料。該偶聯(lián)劑優(yōu)選包含少于40重量％、更優(yōu)選少于35重量％的液體水和/或有機(jī)溶劑。措辭“來自環(huán)氧烷氧基硅烷和不飽和烷氧基硅烷的固體材料的重量”是指來自這些硅烷的理論干提取物，其是單元QkSi0(4_k)/2的計(jì)算重量，其中Q是帶有環(huán)氧基或不飽和基團(tuán)的有機(jī)基團(tuán)，且QkSi0(4_k)/2來自QkSiR’0(4_k)/2，其中Si-R’在水解時反應(yīng)生成Si-OH。k是1至3的整數(shù)，優(yōu)選等于1。R’優(yōu)選是烷氧基，例如0CH3。上文提到的水和有機(jī)溶劑來自在該偶聯(lián)劑組合物中最初加入的那些，和由該偶聯(lián)劑組合物中存在的烷氧基硅烷的水解和縮合獲得的水和醇。偶聯(lián)劑的優(yōu)選制備方法包括1)將烷氧基硅烷混合2)優(yōu)選通過加入酸(例如鹽酸)使該烷氧基硅烷水解3)攪拌該混合物4)任選加入有機(jī)溶劑5)加入一種或數(shù)種催化劑，例如乙酰丙酮化鋁6)攪拌(典型持續(xù)時間整夜)。通常，加入該耐劃傷涂料組合物中的偶聯(lián)劑的量為組合物總重量的0.1至15重量％，優(yōu)選1至10重量％?？梢允褂萌魏蝹鹘y(tǒng)方法，例如旋涂、浸涂或流涂法，在抗反射涂層上施用該耐磨和/或耐劃傷涂料組合物。該耐磨和/或耐劃傷涂料組合物可以簡單干燥，或任選在施用后繼耐沖擊底涂層(其可以是透明的粘合劑組合物層)或?qū)嵤┍景l(fā)明方法之前預(yù)固化。根據(jù)該耐磨和/或耐劃傷涂料組合物的性質(zhì)，可以采用熱固化、紫外線固化或二者的組合。該耐磨和/或耐劃傷涂層在固化后的厚度通常為1至15微米，優(yōu)選2至6微米，優(yōu)選3至5微米。在耐劃傷涂層上施用耐沖擊底涂層之前，可以對該耐劃傷涂層的表面施以電暈處理或真空等離子體處理以改進(jìn)粘合。所述耐沖擊底涂層可以是常用于提高成品光學(xué)制品的耐沖擊性的任何涂層。該涂層也通常提高耐劃傷涂層在成品光學(xué)制品上的粘合。耐沖擊底涂層在定義上是與相同的但沒有該耐沖擊底涂層的光學(xué)制品相比提高了成品光學(xué)制品的耐沖擊性的涂層。典型的耐沖擊底涂層是(甲基)丙烯酸基涂層和聚氨基甲酸酯基涂層。(甲基)丙烯酸基耐沖擊涂層尤其公開在美國專利5，015，523和6，503，631中，而熱塑性和交聯(lián)基聚氨基甲酸酯樹脂涂層尤其公開在日本專利63-141001和63-87223、歐洲專利0404111和美國專利5，316，791中。特別地，本發(fā)明的耐沖擊底涂層可以由膠乳組合物(例如聚(甲基)丙烯酸膠乳、聚氨基甲酸酯膠乳或聚酯膠乳)制成。在優(yōu)選的(甲基)丙烯酸基耐沖擊底涂層組合物中，可以提及聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯基組合物，例如四甘醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、聚乙二醇(400)二丙烯酸酯、聚乙二醇(600)二(甲基)丙烯酸酯，以及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及其混合物。該耐沖擊底涂層優(yōu)選具有低于30°C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)。在優(yōu)選的耐沖擊底涂層組合物中，可以提及Zeneca以AcryliclatexA-639為名出售的丙烯酸膠乳和Baxenden以W-240和W-234為名出售的聚氨基甲酸酯膠乳。在優(yōu)選實(shí)施方案中，該耐沖擊底涂層還可以包括有效量的偶聯(lián)劑以促進(jìn)該底涂層與光學(xué)基底和/或與耐劃傷涂層的粘合。與用于耐劃傷涂料組合物的相同量的相同偶聯(lián)劑可用于該耐沖擊涂料組合物。可以使用任何傳統(tǒng)方法，例如旋涂、浸涂或流涂法，在耐劃傷涂層上施用該耐沖擊底涂層組合物。該耐沖擊底涂層組合物可以在光學(xué)基底成形之前簡單干燥或任選預(yù)固化。根據(jù)該耐沖擊底涂層組合物的性質(zhì)，可以采用熱固化、紫外線固化或二者的組合。該耐沖擊底涂層的厚度在固化后通常為0.05至30微米，優(yōu)選0.5至20微米，更特別為0.6至15微米，更好為0.6至5微米。由于要在本方法完成時移除所述功能涂層的撓性載體，因此可以先用隔離劑層將其涂布，任選在本發(fā)明的方法結(jié)束時除去該隔離劑層。在一個實(shí)施方案中，上文描述的防污外涂層有利地充當(dāng)不可除去的隔離劑層。本發(fā)明方法的加壓步驟(g)中施用的力可以通過對該載體施加壓力、特別是空氣壓力、或真空來獲得。外加壓力通常為0.35至4.2巴(5至60psi)、優(yōu)選0.35至3巴，更好為0.35至2.1巴(5至30psi)。當(dāng)利用真空產(chǎn)生外加力時，通常施用的力高于5牛頓，優(yōu)選高于10牛頓，更優(yōu)選高于15牛頓。可以使用如國際專利申請WO03/004255中公開的可膨脹的膜裝置施用空氣壓力。能夠轉(zhuǎn)移涂層的真空結(jié)構(gòu)的一般描述可見于美國專利4，242，162。為了改進(jìn)載體與必須將涂層轉(zhuǎn)移至其上的透鏡基底表面的共形性，尤其是如果在該透鏡基底的正面上實(shí)施轉(zhuǎn)移的話，可以使用附加工具以提高載體上的壓力。通常，可以使用襯墊，任選為可變形的，該襯墊可以與載體的大致形狀共形并提高施用到該載體上的壓力。現(xiàn)在參照附圖，特別是圖IA至1D，將具有凹面2的透鏡基底1置于支承元件(未顯示)上，其凹面(背面)2朝上。將主表面已預(yù)先涂有至少一種功能涂層4和本發(fā)明的干燥的HMA組合物層5的撓性載體3置于支承元件(未顯示)上，該HMA組合物層朝下?？梢酝ㄟ^光學(xué)領(lǐng)域中使用的任何常見沉積法，例如真空沉積、旋涂、流涂、浸涂等進(jìn)行至少一個功能涂層4和HMA組合物層5在撓性載體3表面上的沉積。當(dāng)然，沉積法取決于在撓性載體3表面上沉積的涂層和HMA組合物層的性質(zhì)。然后，使支承元件相對于彼此移動以使HMA組合物層5與透鏡基底表面2直接接觸，然后以外加壓力不足以造成透鏡基底1的任何變形的方式將它們壓在一起。在加壓步驟(g)中施加熱。熱源可以是空氣烘箱、熱水浴、紅外熱源或微波源。加熱時間可以是數(shù)分鐘至30分鐘，例如施熱3至30分鐘。如圖IC中所示，然后用紫外線照射由透鏡基底1、HMA組合物層5、至少一個功能涂層4和撓性載體3構(gòu)成的組件，以使可光聚合單體和低聚物聚合。在照射后，釋放壓力，移除撓性載體3，并如圖ID中所示回收具有至少一個通過粘合劑組合物層5粘附到其凹面2上的功能涂層4的透鏡基底1?？梢允褂枚讨芷诘臒峁袒妥贤饩€固化。加熱和紫外線固化步驟通?？煞謩e在2分鐘和1分鐘內(nèi)完成。轉(zhuǎn)移或?qū)訅簵l件的短周期的實(shí)例如下膨脹模式120秒達(dá)到24PSI(165.47千帕)。撓性載體的溫度80°C加壓過程中在該溫度下的時間2分鐘紫外線曝光1分鐘紫外線強(qiáng)度30至31毫瓦/平方厘米紫外線源=Dymax5000EC探照燈(400瓦金屬鹵化物燈泡)。本發(fā)明的一個優(yōu)點(diǎn)在于在移除所述載體之前無需等待成品透鏡降溫，因此該過程更快。下述實(shí)施例舉例說明本發(fā)明。實(shí)施例Ml^在實(shí)施例中，載體是在其凸面上帶有涂層疊層的聚碳酸酯(PC)載體，該涂層疊層從該載體開始包括防污外涂層、抗反射涂層和耐磨和/或耐劃傷涂層。在耐磨和/或耐劃傷涂層上形成透明粘合劑組合物層，該透明粘合劑組合物層也充當(dāng)耐沖擊底層組合物。所述涂層疊層與透明粘合劑組合物層的組件被稱作“HMC涂層”。帶有該HMC涂層的PC載體被稱作“HMC載體”。步驟1保護(hù)和隔離涂層的沉積該保護(hù)和隔離涂層的組成如下表1<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>1360(有機(jī)硅六丙烯酸酯，Radcure)θΤθCoat-O-Sil3503(反應(yīng)性流動添加劑)θΓθ6光引發(fā)劑Ο20使用肥皂水清洗該P(yáng)C載體，并用壓縮空氣干燥。然后通過以600rpm的涂施速度旋涂3秒和1200rpm的速度干燥6秒在載體凸面上涂布上述保護(hù)涂層組合物。用FusionSystemH+燈泡以1.524米/分鐘(每分鐘5英尺)的速率使該涂層固化。該保護(hù)和隔離涂層不轉(zhuǎn)移，并在轉(zhuǎn)移HMC涂層后保留在載體上。^m2^vrnrnm,RMm^ma^CT,在沉積保護(hù)涂層后，如下真空涂布PC載體A/標(biāo)準(zhǔn)真空AR處理在標(biāo)準(zhǔn)箱式涂布機(jī)中采用公知真空蒸發(fā)方法實(shí)施真空AR處理。下面是在載體上獲得VAR的一種程序1.將具有已施用在表面上的保護(hù)涂層的載體裝入標(biāo)準(zhǔn)箱式涂布機(jī)中，并用泵將該室抽吸至高真空水平。2.采用熱蒸發(fā)技術(shù)將防污涂層(化學(xué)品=ShinEtsuKP801M)沉積到該載體表面上，至2至15納米的厚度。3.然后以與正常次序相反的次序沉積由一疊高折射率材料和低折射率材料的子層構(gòu)成的介電多層AR涂層。該沉積的詳情如下交替的低折射率層和高折射率層的光學(xué)厚度顯示在下表中(它們從載體表面上開始以所述次序沉積)表2<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>低折射率103-162納米低折射率19-37納米高折射率37-74納米在實(shí)施例中沉積的優(yōu)選疊層是其中低折射率材料為SiO2且高折射率材料為&02的疊層。B/在四層抗反射疊層沉積完成后，沉積物理厚度為1至50納米的SiO2薄層。該層用于促進(jìn)氧化物抗反射疊層與之后沉積在該涂覆的載體上的漆質(zhì)硬涂層之間的粘合。步驟3硬涂層(HC)和膠乳底涂層的沉積所述硬涂層的組成如下表3<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>所述粘合劑與耐沖擊底涂層的組成如下表4<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>該底涂層組合物在下述實(shí)施例中用作熱熔性粘合劑組合物。然后用HC溶液以600rpm/1200rpm將在步驟1和2中沉積了保護(hù)涂層、防污涂層和AR涂層后的所述PC載體旋涂，并在80°C預(yù)固化10分鐘，再以相同速度用粘合劑和耐沖擊底層組合物溶液旋涂，并在80°C后固化1小時。這提供了厚度大約1.8至2微米的干膠乳層。所述偶聯(lián)劑是下述組分的預(yù)縮合溶液表5<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>測試和檢驗(yàn)程序-根據(jù)ISTM02010，使用SMSCOTCHD!!。600透明膠帶，使用交叉網(wǎng)格粘合試驗(yàn)測量干粘合。形成25個正方形。如下評定粘合表6<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>用于檢驗(yàn)的稱為R-17的試驗(yàn)實(shí)際上是WO2006/136757(光學(xué)缺陷測量方案)中詳述的透射試驗(yàn)，該文獻(xiàn)經(jīng)此引用并入本文。除該方案外，WO2006/136757詳細(xì)描述了用于該檢驗(yàn)的設(shè)備。使用BulbtronicsInc.制造的BTXL75/LIS//燈進(jìn)行弧光燈檢驗(yàn)。來自上述燈的光線射向透鏡，反射光投射在屏幕上。肉眼檢驗(yàn)屏幕上的透鏡影像以觀察是否存在光學(xué)缺陷。關(guān)于實(shí)現(xiàn)HMC轉(zhuǎn)移過程的實(shí)施例的綜述。1.將HMA基聚合物溶解在溶劑中，然后混合可光聚合單體/低聚物以獲得溶液，由此制備液體HMA組合物。在某些情況下，如果需要，加入光引發(fā)劑。2.以400rpm2秒和1500rpm8秒的旋涂條件，將所述液體HMA組合物旋涂到HMC載體所帶的功能涂層的暴露表面上。在室溫下干燥數(shù)小時后，所得的厚度非常均勻的層是干燥的，并略微發(fā)粘，可用于實(shí)施該方法的后續(xù)步驟。3.然后使用帶有干燥的可光聚合(可紫外線聚合)HMA層的HMC載體將HMC涂層轉(zhuǎn)移到透鏡的凹進(jìn)主表面上。該主表面是粗糙表面，即經(jīng)研磨、精細(xì)研磨但未拋光的表面。使用如WO03/004255中公開的膨脹膜設(shè)備實(shí)施轉(zhuǎn)移。4.除非另行指明，施用的壓力為大約1.38巴(20psi)，加熱溫度為大約80°C，加熱時間為大約30分鐘。5.除非另行指明，輻射是80毫瓦/平方厘米的紫外線輻射，持續(xù)時間大約1分鐘。實(shí)施例1(轉(zhuǎn)移法)制備0.55克聚甲基丙烯酸丁酯、5.0克三(2_羥乙基)異氰脲酸酯三丙烯酸酯、2.ο克2，4，6-三溴苯基乙氧基丙烯酸酯和在4.ο克MEK中的ο.ι克光引發(fā)劑Igacure819的混合物溶液。使用該溶液在基弧為6的載體的凸起HMC側(cè)上旋涂涂層。干燥后，將涂覆的載體置于通過Schneider機(jī)直接切削的未拋光的粗糙不透明〇nna透鏡(+2.00)上，然后用膨脹膜加壓裝置層壓這兩片。在1.38巴(20psi)壓力下，將透鏡以及載體上的涂覆層在80°C加熱30分鐘。用120W原位紫外線固化1.5分鐘后，取出組件并冷卻。在移除膨脹膜裝置和BST載體后，獲得沒有肉眼或在弧光燈中可見的任何表面劃痕的光學(xué)透明的透鏡。該過程后的透鏡具有與之前由Humphery檢測出的相同的屈光力+2.00。表7顯示了該過程之前和之后透鏡的濁度和表面透明度。表7<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>HMA層的厚度8微米Orma透鏡由來自PPGIndustries的CR-39(乙二醇雙(烯丙基碳酸酯)的聚合物)制成的透鏡。實(shí)施例2(轉(zhuǎn)移過程)制備0.5克聚甲基丙烯酸丁酯、7.0克三(2-羥乙基)異氰脲酸酯三丙烯酸酯、2.5克2，4，6-三溴苯基乙氧基丙烯酸酯和在5.ο克THF中的ο.ι克光引發(fā)劑Igacure819的混合物溶液。使用該溶液在基弧為7的載體的凸起HMC側(cè)上旋涂涂層。干燥后，將涂覆的載體置于用V-95切削并用15微米墊細(xì)磨且未拋光的Onna透鏡的精制表面(-2.oo)上，然后放置在膨脹膜裝置中。在1.38巴(20psi)的壓力下，將所述組件加熱至80至85°C之間的溫度30分鐘。原位紫外線固化1分鐘后，取出該器件并冷卻。在移除膨脹膜裝置和載體后，獲得沒有肉眼可見的刮痕和沒有在弧光燈中可見的涂料流痕的透明光學(xué)透鏡。通過顯微鏡測量，該HMA層的厚度為5微米，整個透鏡表面上的厚度變化低于1微米。實(shí)施例3至9(轉(zhuǎn)移過程)表8列出在僅用15微米、最后9微米墊細(xì)磨的^j^sg透鏡上測試的實(shí)驗(yàn)配方。與實(shí)施例1-2類似地進(jìn)行BST轉(zhuǎn)移過程。所得透鏡看上去非常清澈透明，在R-17檢查、弧光燈和微點(diǎn)光源(mini-spot)中沒有觀察到任何細(xì)痕或粗糙表面。所得HMC轉(zhuǎn)移的透鏡具有非常好的粘合，交叉網(wǎng)格分?jǐn)?shù)為0。它們還具有良好的硬度。表8<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>Aquazol5(分子量5000)Aquazol200(分子量200，000)BP-ADMAc=雙酚-A二甲基丙烯酸酯SR368=三(2_羥乙基)異氰脲酸酯三丙烯酸酯⑶406=環(huán)己烷二甲醇二丙烯酸酯BR31=三溴苯基乙氧基丙烯酸酯Aquazol聚(2_乙基-2-噁唑啉)Aquazol5和Aquazol200的Tg相同(Tg=69至71°C)。工藝參數(shù)透鏡CR-39,5.5基礎(chǔ)后弧線曲率，通過LOH切削和精制機(jī)僅用9微米墊細(xì)磨，無拋光步驟。載體6.O基弧HMC壓力1·38巴(20psig)(僅細(xì)磨的透鏡)溫度85°C，30分鐘，然后紫外線燈功率80毫瓦/平方厘米1分鐘實(shí)施例10至15(轉(zhuǎn)移過程)如實(shí)施例1和2中那樣在未拋光的CR-39數(shù)字表面成形透鏡上用表9的HMA組合物進(jìn)行涂層轉(zhuǎn)移。所得透鏡看上去非常清澈透明，在R-17檢查、弧光燈和微點(diǎn)光源(mini-spot)中沒有觀察到任何細(xì)痕或粗糙表面。表9<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>實(shí)施例16(轉(zhuǎn)移過程)重復(fù)實(shí)施例12，不同的是使用傳統(tǒng)的精制和拋光過的+0.75D屈光力的Orma透鏡。所得透鏡表現(xiàn)出非常好的粘合性(干交叉網(wǎng)格0-1)。由于HMA-UV粘合層使該AR疊層在AR涂層轉(zhuǎn)移過程中受壓，透鏡還表現(xiàn)出非常好的AR疊層耐熱性(熱臨界溫度/Tc為80°C)，其遠(yuǎn)高于使用傳統(tǒng)膠粘法時的溫度。實(shí)施例17(轉(zhuǎn)移過程)重復(fù)實(shí)施例16，不同的是使用傳統(tǒng)的精制和拋光過的-2.OOD屈光力的聚碳酸酯透鏡。所得透鏡表現(xiàn)出非常好的粘合和良好的光學(xué)性能。實(shí)施例18(轉(zhuǎn)移過程)重復(fù)實(shí)施例16，不同的是使用傳統(tǒng)的精制和拋光過的Thin&Lightl.67平光透鏡和Thin&Light1.67透鏡，并在涂層轉(zhuǎn)移過程前通過電暈預(yù)處理該聚硫氨酯透鏡材料的表面。所得透鏡也表現(xiàn)出非常好的粘合和良好的光學(xué)性能。實(shí)施例19(層壓過程，制造層壓透鏡)將實(shí)施例12的HMAUV配制物旋涂到聚氨基甲酸酯PU平光薄膜上，厚度0.86毫米，基弧6。干燥后，將具有HMAUV粘合層的該薄膜層壓到+0.75D屈光力的Orma透鏡上。層壓條件與實(shí)施例12相同。加熱、固化和磨邊后，獲得具有良好光學(xué)性能(層壓后為+0.78D)和美容性的層壓了PU薄膜的Orma透鏡。對比例對比例1將含有100%的Aquazol5的聚合物薄膜溶液旋涂到HMC載體上。干燥后，對涂覆的HMC載體施以實(shí)施例1-2的轉(zhuǎn)移過程，不同的是不采用紫外線輻射。所得透鏡具有非常粗糙、有皺紋的HMC轉(zhuǎn)移。這表明紫外線固化單體在HMC層轉(zhuǎn)移過程中賦予薄膜均勻性方面是重要的。對比例2使用來自DymaxCo的市售丙烯酸UV膠制劑(0P-40)代替實(shí)施例16中所用的HMA粘合劑。以與實(shí)施例16相同的方式進(jìn)行固化過程，但不加熱，因?yàn)樵谧贤饩€固化過程中無需加熱。所得透鏡表現(xiàn)出非常好的AR轉(zhuǎn)移和良好的干粘合，但具有低的AR疊層耐熱性(Tc為大約50至60°C)。實(shí)施例20至21重復(fù)實(shí)施例1，不同的是-將HMA粘合劑換成包含按重量計(jì)11的可紫外線固化的低聚物混合物(可紫外線固化的聚氨基甲酸酯分散體-水基，可獲自Bayer的BayhydrolUV2282)的組合物。-在80°C在2分鐘內(nèi)進(jìn)行加熱。在1分鐘內(nèi)進(jìn)行紫外線固化。測量粘合性能并列于表11中。表10<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>(1)SC是指自交聯(lián)1.6折射率和1.67折射率是分別由來自Mitsui的MR8和MR7材料制成的聚硫氨酯透鏡。JoncrylHMA基聚合物是丙烯酸類乳液，其可以是或不是自交聯(lián)的，由S.C.Jonhson供應(yīng)。Joncryl1532是丙烯酸/苯乙烯共聚物。實(shí)施例26至31重復(fù)實(shí)施例20，不同的是用可紫外線固化的水基氨基甲酸乙酯低聚物NeoradR440取代Bayhydrol。該組分的供應(yīng)商是DSM。使用不同的JoncrylHMA基聚合物。表11<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>(1)SC是指自交聯(lián)實(shí)施例32至37重復(fù)實(shí)施例26至31，不同的是用可紫外線固化的脂族水性氨基甲酸乙酯丙烯酸酯低聚物分散體LaromerLR8949取代Neorad。該產(chǎn)品可獲自BASF。表12<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>⑴SC是指自交聯(lián)權(quán)利要求將涂覆或未涂覆的薄膜施用到透鏡基底的至少一個幾何限定的表面上的方法，包括下述步驟(a)提供液體熱熔性粘合劑(HMA)組合物，其包含(a1)至少一種HMA基聚合物，其具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg和任選地熔融溫度Tm，其中Tg＜Tm；(a2)至少一種可聚合的、更優(yōu)選為可紫外線聚合的單體、低聚物或聚合物；和(a3)任選地，至少一種與所述至少一種聚合物和所述至少一種可聚合的單體、低聚物或聚合物都相容的液體溶劑；(b)提供具有兩個相對主表面的薄膜任選地帶有至少一個功能涂層的第一主表面，和第二主表面；(c)提供具有至少一個幾何限定的表面的透鏡基底；(d)將所述液體HMA組合物施用到所述薄膜的表面或所述至少一個幾何限定的表面上；(e)將施用的液體HMA組合物干燥，以形成與所述薄膜的所述至少一個主表面或所述透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面接觸的HMA干燥層；(f)使所述薄膜和透鏡基底相對于彼此移動，以使所述HMA干燥層與所述透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面或者所述薄膜的所述主表面之一接觸；(g)在薄膜上施加壓力；(h)加熱，以達(dá)到等于或高于玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)但如果所述聚合物具有Tm則低于熔融溫度Tm的溫度T最大處理，所述單體或低聚物在該T最大處理溫度為液體；(i)在保持壓力和加熱的同時使所述單體、低聚物或聚合物聚合；(j)除去施加在所述載體上的壓力，并回收具有粘附到所述透鏡基底主表面上的薄膜的透鏡基底。2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述液體熱熔性粘合劑組合物包含至少一種可聚合的單體或低聚物。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其中所述薄膜的第一主表面帶有至少一個功能涂層。4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中步驟d)包括將所述液體HMA組合物施用到所述透鏡基底的所述至少一個幾何限定的表面或者所述薄膜的所述第一主表面的所述功能涂層上。5.根據(jù)權(quán)利要求4的方法，其中步驟d)包括將所述液體HMA組合物施用到所述薄膜的所述第一主表面的所述功能涂層上。6.根據(jù)權(quán)利要求4或5的方法，包括(k)移除所述薄膜以回收透鏡基底，該透鏡基底涂有通過HMA固化層粘附到所述至少一個幾何限定的表面上的所述至少一個功能涂層。7.根據(jù)權(quán)利要求2至6任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種可聚合單體或低聚物是可光聚合的。8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其中所述至少一種可聚合單體或低聚物是可紫外線聚合的。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)的方法，其中步驟i)包括用光化輻射照射所述單體或低聚物。10.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中用光化輻射照射包括用紫外線照射。11.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種單體或低聚物是可熱聚合的。12.根據(jù)權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種HMA基聚合物是熱塑性聚合物。13.根據(jù)權(quán)利要求1至12任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種HMA基聚合物具有40至90°C的Tg。14.根據(jù)權(quán)利要求1至13任一項(xiàng)的方法，其中所述HMA組合物包含至少一種液體溶劑和至少一些在環(huán)境溫度下為固體但在環(huán)境溫度下被所述至少一種溶劑溶解的單體或低聚物。15.根據(jù)權(quán)利要求1至14任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種HMA基聚合物被液體單體和/或低聚物溶解。16.根據(jù)權(quán)利要求1至15任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種HMA基聚合物選自由聚烯烴、聚酰胺、聚氨基甲酸酯、聚氨基甲酸酯/脲、聚乙烯基吡咯烷酮、聚酯、聚酯酰胺、聚(甲基)丙烯酸類和聚(噁唑啉)組成的組。17.根據(jù)權(quán)利要求1至16任一項(xiàng)的方法，其中所述至少一種單體或低聚物選自單(甲基)丙烯酸酯和多(甲基)丙烯酸酯化合物。18.根據(jù)權(quán)利要求1至17任一項(xiàng)的方法，其中可光聚合單體和/或低聚物與HMA基聚合物的重量比為955至595，優(yōu)選8020至2080。19.根據(jù)權(quán)利要求18的方法，其中所述重量比為6040至4060。20.根據(jù)權(quán)利要求1至19任一項(xiàng)的方法，其中所述透鏡基底的幾何限定的表面處于已拋光的狀態(tài)。21.根據(jù)權(quán)利要求1至19任一項(xiàng)的方法，其中所述透鏡基底的幾何限定的表面已被研磨和精制，但未被拋光。22.根據(jù)權(quán)利要求21的方法，其中所述透鏡基底的幾何限定的表面的Rq高于或等于0.01微米，優(yōu)選為0.01微米至1.50微米，更優(yōu)選為0.05微米至1微米。23.根據(jù)權(quán)利要求1至19任一項(xiàng)的方法，其中所述透鏡基底的幾何限定的表面已經(jīng)過數(shù)字研磨但未被拋光。24.根據(jù)權(quán)利要求23的方法，其中所述透鏡基底的幾何限定的表面的Rq高于0.05微米且小于1微米，優(yōu)選小于0.6微米，更好為小于0.4微米。25.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法，其中低于130°C。26.可通過權(quán)利要求1至24任一項(xiàng)的方法獲得的透鏡。全文摘要將涂覆或未涂覆的薄膜施用到透鏡基底表面上的方法，其包括下述步驟提供液體熱熔性粘合劑(HMA)組合物，該組合物包含HMA基聚合物和可聚合單體或低聚物，將該液體HMA組合物施用到薄膜表面或透鏡基底上，將施用的液體HMA組合物干燥，使該薄膜和該透鏡基底相對于彼此移動以使它們接觸，在薄膜上施加壓力；加熱以達(dá)到等于或高于玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)的溫度T最大處理，該單體或低聚物在該T最大處理溫度下為液體，在保持壓力和加熱的同時使該單體或低聚物聚合。文檔編號G02B1/10GK101821084SQ200880110563公開日2010年9月1日申請日期2008年8月5日優(yōu)先權(quán)日2007年8月8日發(fā)明者H·鄭,P·江,S·韋伯申請人:埃西勒國際通用光學(xué)公司