專利名稱：：一種原始對(duì)中裝置和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其是一種原始對(duì)中裝置和系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
：在制備晶閘管的過(guò)程中，需要通過(guò)光刻在硅晶圓片表面形成特定的器件圖形，其中，器件圖形與晶圓片之間的原始記號(hào)對(duì)準(zhǔn)同心度(即原始對(duì)中)對(duì)后續(xù)相關(guān)工序的品質(zhì)有很大的影響。所謂原始對(duì)中，就是在晶圓片上做光刻標(biāo)記之前，對(duì)晶圓片和光刻板圖案的圓心進(jìn)行的對(duì)中。現(xiàn)有的光刻工藝中，是采用簡(jiǎn)單目測(cè)的方式進(jìn)^f亍原始對(duì)中，在安放光刻板的定位模中缺乏有效的對(duì)中機(jī)構(gòu)，操作人員憑經(jīng)驗(yàn)估測(cè)晶圓片和光刻板的圓心大致重合，然后開始進(jìn)行光刻。由于操作人員在進(jìn)行原始對(duì)中時(shí)完全才艮據(jù)個(gè)人經(jīng)驗(yàn)，沒(méi)有進(jìn)行參考調(diào)整的措施，所以對(duì)原始對(duì)準(zhǔn)記號(hào)的對(duì)中偏差過(guò)高并且參差不齊。原始對(duì)中的偏差過(guò)高會(huì)導(dǎo)致如下問(wèn)題1)后續(xù)的光刻陽(yáng)極鋁層圖形對(duì)準(zhǔn)只能依靠光刻來(lái)解決，無(wú)法實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)環(huán)自對(duì)準(zhǔn)，增加了工藝的復(fù)雜度；2)后續(xù)的光刻陰極鋁層無(wú)法實(shí)現(xiàn)用蒸發(fā)環(huán)擋住對(duì)準(zhǔn)記號(hào)，使陰極鋁層的對(duì)準(zhǔn)記號(hào)清晰度下降，進(jìn)而影響其光刻對(duì)準(zhǔn)精度；3)圖形對(duì)中不規(guī)范會(huì)使后續(xù)的激光割圓操作出現(xiàn)激光與激光對(duì)準(zhǔn)模之間不匹配，導(dǎo)致割圓排火不暢的晶圓片邊緣損傷。
發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種原始對(duì)中裝置和系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有的晶圓片和光刻板的原始對(duì)中偏差過(guò)高的問(wèn)題。本發(fā)明提供了一種原始對(duì)中裝置，所述裝置上表面開有第一圓槽孔，用于容置晶圓片，所述第一圓槽孔的深度低于晶圓片的厚度；所述裝置上表面還具有直徑大于第一圓槽孔且與第一圓槽孔同心的標(biāo)記線，所述裝置上的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線在原始對(duì)中時(shí)重合。優(yōu)選的，所述第一圓槽孔底面開有直徑小于所述第一圓槽孔的第二圓槽孔，所述第二圓槽孔與容置于第一圓槽孔中的晶圓片圍成空腔；所述第二圓槽孔底面開有第一通孔，所述第一通孔連通所述空腔與真空吸附裝置。優(yōu)選的，所述第一圓槽孔、第二圓槽孔的圓心重合。優(yōu)選的，所述裝置的上表面還具有側(cè)壁，所述側(cè)壁上水平貫穿有定位螺絲，所述定位螺絲用于對(duì)覆蓋在第一圓槽孔上且原始對(duì)中后的光刻板定位。具體的，所述側(cè)壁圍繞第一圓槽孔外側(cè)的標(biāo)記線形成槽孔，所述側(cè)壁形成的槽孔為方形或圓形。具體的，所述定位螺絲的軸向平行于所述裝置的上表面，且所述定位螺絲部分嵌入所述上表面。優(yōu)選的，所述裝置還開有第二通孔，所述第二通孔的遠(yuǎn)端位于原始對(duì)中后的光刻板之外，所述第二通孔的近端位于原始對(duì)中后的光刻板之內(nèi)且位于第二圓槽孔之外。優(yōu)選的，所述第二通孔為矩形通孔或橢圓形通孔。優(yōu)選的，所述第一圓槽孔外側(cè)的標(biāo)記線和光刻板上的標(biāo)記線為圓形。本發(fā)明還提供了一種原始對(duì)中系統(tǒng)，包括光刻板和上述原始對(duì)中裝置，所述光刻板上具有與光刻板上圖案同心、且能夠與所述原始對(duì)中裝置上的標(biāo)記線重合的標(biāo)記線。本發(fā)明的原始對(duì)中裝置和系統(tǒng)在容置晶圓片的第一圓槽孔外設(shè)置有與第一圓槽孔同心的標(biāo)記線，保障了第一圓槽孔外的標(biāo)記線與晶圓片接近同心；在光刻板上也"&置有與光刻板的圖案同心的標(biāo)記線，因此，通過(guò)將第一圓槽孔外的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線對(duì)準(zhǔn)，能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓片和光刻板上圖案的良好原始對(duì)中，改善原始對(duì)中同心度；使用定位螺絲對(duì)調(diào)整好位置的光刻板進(jìn)行準(zhǔn)確定位，能夠方便的使用同一個(gè)光刻板對(duì)多個(gè)晶圓片進(jìn)行原始對(duì)中和光刻，而無(wú)需重調(diào)；通過(guò)在第一圓槽孔底面開設(shè)第二圓槽孔并連接真空吸附裝置，能夠避免掀起光刻板時(shí)將晶圓片帶起而引起的晶圓片跌損。圖l是本發(fā)明的原始對(duì)中裝置的立體示意圖；圖2是本發(fā)明的原始對(duì)中裝置的俯視圖；圖3是本發(fā)明的原始對(duì)中裝置的操作流程示意圖。具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明實(shí)施例作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。本發(fā)明提供了一種原始對(duì)中裝置的實(shí)施例，參見圖1和圖2。所述裝置10上表面開有第一圓槽孔100,用于容置晶圓片30,所述第一圓槽孔的深度低于晶圓片30的厚度，所述裝置10上表面還具有直徑大于第一圓槽孔100且與第一圓槽孔100同心的標(biāo)記線(圖中未示出)，所述裝置10上的標(biāo)記線與光刻板20上的標(biāo)記線(圖中未示出)在原始對(duì)中時(shí)重合。所述第一圓槽孔100的直徑略大于晶圓片30,晶圓片30與第一圓槽孔100之間的空隙不大于O.lmm。第一圓槽孔100的深度低于晶圓片30的厚度，是為了保證光刻板20能夠與晶圓片30上表面良好的貼合，避免由于光刻板20與晶圓片30之間的空隙，導(dǎo)致后續(xù)的光刻由于光衍射而造成的圖案邊緣不清晰。優(yōu)選的，第一圓槽孔100外側(cè)的標(biāo)記線和光刻板20上的標(biāo)記線為圓形，當(dāng)然，若能夠?qū)π纬蓸?biāo)記線的過(guò)程進(jìn)行精確控制，標(biāo)記線也可以為正方形、多邊形等其他形狀。進(jìn)行原始對(duì)中時(shí)，由于光刻板20部分區(qū)域有圖案，部分區(qū)域空白透明，因此可以使用從空白區(qū)域透出的光刻板20上的標(biāo)記線與所述裝置1O上表面的標(biāo)記線進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)。由于在光刻板20和本發(fā)明的原始對(duì)中裝置IO上都增加了作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)志的標(biāo)記線，操作人員可以根據(jù)標(biāo)記線是否重合來(lái)判斷原始對(duì)中是否準(zhǔn)確。上述裝置10的第一圓槽孔100底面開有直徑小于第一圓槽孔的第二圓槽孔IOI，優(yōu)選的，第一圓槽孔IOO、第二圓槽孔101的圓心重合。第二圓槽孔IOI與容置于第一圓槽孔100中的晶圓片30圍成空腔；第二圓槽孔101底面開有第一通孔102,第一通孔102連通所述空腔與真空吸附裝置。真空吸附裝置可以使空腔內(nèi)處于低氣壓狀態(tài)，由此，可以在取出光刻板20更換晶圓片30時(shí)，防止晶圓片30隨著光刻板20—起被帶出、造成晶圓片30跌損等破壞。所述真空吸附裝置可以只吸附晶圓片30，而不吸附光刻板20。所述裝置10的上表面還具有側(cè)壁103，側(cè)壁103上水平貫穿有定位螺絲104,定位螺絲104用于對(duì)覆蓋在第一圓槽孔100上且原始對(duì)中后的光刻板20定位。優(yōu)選的，側(cè)壁103可以圍繞第一圓槽孔100外側(cè)的標(biāo)記線形成槽孔，側(cè)壁103形成的槽孔可以為方形或圓形等，優(yōu)選為方形。定位螺絲104的軸向平行于所述裝置10的上表面，且定位螺絲104部分嵌入所述上表面。由于定位螺絲104接觸光刻板20的一端由所述裝置1O上表面的凹槽來(lái)限制水平方向的擺動(dòng)，進(jìn)一步提高了對(duì)光刻板20定位的準(zhǔn)確度。由于定位螺絲104不會(huì)前向/后向移動(dòng)，因此提高了對(duì)光刻板20定位的操作可重復(fù)性。為了方便對(duì)光刻板20的取放，所述裝置10還開有第二通孔105,第二通孔105的遠(yuǎn)端位于原始對(duì)中后的光刻板20邊緣之外，第二通孔105的近端位于原始對(duì)中后的光刻板20邊緣之內(nèi)且位于第二圓槽孔101之外。第二通孔105可以為矩形通孔或橢圓形通孔等。開通第二通孔105到光刻板20邊緣下方，是為了方便更換晶圓片30時(shí)掀取光刻板20,操作人員可以用手指將光刻板20向上掀起并取下。優(yōu)選的，第二通孑U05的近端與第一圓槽孔100圓心的距離小于第一圓槽孑U00的半徑且大于第二圓槽孔101的半徑，這樣可以方便的取放晶圓片30。實(shí)際生產(chǎn)中，通常是使用同一個(gè)光刻板對(duì)多個(gè)晶圓片進(jìn)行光刻，一片光刻板有可能連續(xù)使用一星期，若每光刻一個(gè)晶圓片都做一遍原始對(duì)中，必然會(huì)影響生產(chǎn)效率。通過(guò)使用定位螺絲101對(duì)光刻板20進(jìn)行定位，可以在原始對(duì)中一次后，再次放入同一光刻板20時(shí)，其上的標(biāo)記線與所述裝置10上表面的標(biāo)記線依然重合，由此減少操作程序，提高生產(chǎn)效率?？梢詢H在更換另一片光刻板20時(shí)再進(jìn)行原始對(duì)中。根據(jù)目前晶圓片尺寸的不同，原始對(duì)中裝置可以有表l列舉的幾種規(guī)格，其中的參數(shù)是較優(yōu)的參數(shù)。當(dāng)然，針對(duì)晶圓片尺寸的調(diào)整，本實(shí)施例的原始對(duì)中裝置也可以方便的進(jìn)行相應(yīng)的尺寸調(diào)整，滿足對(duì)各種尺寸的晶圓片進(jìn)行原始對(duì)中的需求。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>下面對(duì)本發(fā)明的原始對(duì)中裝置的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的使用方法進(jìn)行說(shuō)明,參見圖3:5301,將光刻板放入對(duì)中裝置的方形槽孔中；5302,調(diào)整光刻板，使光刻板上的標(biāo)記線與第一圓槽孔外側(cè)的標(biāo)記線重合；S303，調(diào)整定位螺絲，對(duì)光刻^反進(jìn)行定位；5304,將原始對(duì)中裝置裝入光刻機(jī)，檢查并連接真空吸附裝置；5305,對(duì)晶圓片進(jìn)行勻膠、烘干；5306,將晶圓片裝入原始對(duì)中裝置；5307,對(duì)晶圓片曝光；5308,斷開真空吸附裝置，將曝光后的晶圓片從原始對(duì)中裝置取出；5309,若還有晶圓片未曝光，則重復(fù)步驟S306S308,若完成全部晶圓片曝光，則進(jìn)行步驟S310:關(guān)閉真空吸附裝置，取出原始對(duì)中裝置。其中，步驟S305也可以在步驟S301之前完成。本發(fā)明的原始對(duì)中裝置在容置晶圓片的第一圓槽孔外設(shè)置有與第一圓槽孔同心的標(biāo)記線，保障了第一圓槽孔外的標(biāo)記線與晶圓片接近同心；在光刻板上也設(shè)置有與光刻板的圖案同心的標(biāo)記線，因此，通過(guò)將第一圓槽孔外的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線對(duì)準(zhǔn)，能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓片和光刻板上圖案的良好原始對(duì)中，將原始記號(hào)對(duì)準(zhǔn)的同心度由原來(lái)的l3mm改善為0.2mm;使用定位螺絲對(duì)調(diào)整好位置的光刻板進(jìn)行準(zhǔn)確定位，能夠方便的使用同一個(gè)光刻板對(duì)多個(gè)晶圓片進(jìn)行原始對(duì)中和光刻，而無(wú)需重調(diào)；通過(guò)在第一圓槽孔底面開設(shè)第二圓槽孔并連接真空吸附裝置，能夠避免掀起光刻板時(shí)將晶圓片帶起而引起的晶圓片跌損。通過(guò)使用本發(fā)明的原始對(duì)中裝置，大大降低了原始對(duì)中的偏差，能夠?qū)崿F(xiàn)后續(xù)過(guò)程中的光刻陽(yáng)極鋁層圖形蒸發(fā)環(huán)自對(duì)準(zhǔn)，省去了陽(yáng)極面的對(duì)準(zhǔn)光刻，簡(jiǎn)化了光刻工藝，提高了效率；能夠?qū)罄m(xù)的光刻陰極鋁層圖形釆取蒸發(fā)環(huán)擋住對(duì)準(zhǔn)記號(hào)，提高鋁層光刻時(shí)的清晰度，進(jìn)而改善其光刻對(duì)準(zhǔn)精度；徹底消除了后續(xù)的激光割圓中出現(xiàn)的激光與激光對(duì)準(zhǔn)模之間的不匹配，避免了因割圓排火不暢引起的晶圓片邊緣損傷。本發(fā)明還提供了一種原始對(duì)中系統(tǒng)的實(shí)施例，包括光刻板和前面實(shí)施例中描述的原始對(duì)中裝置，所述光刻板上具有與光刻板上圖案同心、且能夠與所述原始對(duì)中裝置上的標(biāo)記線重合的標(biāo)記線。本發(fā)明的原始對(duì)中系統(tǒng)，在原始對(duì)中裝置容置晶圓片的第一圓槽孔外設(shè)置有與第一圓槽孔同心的標(biāo)記線，保障了第一圓槽孔外的標(biāo)記線與晶圓片接近同心；在配合使用的光刻板上也設(shè)置有與光刻板的圖案同心的標(biāo)記線，因此，通過(guò)將第一圓槽孔外的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線對(duì)準(zhǔn)，能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓片和光刻板上圖案的良好原始對(duì)中，將原始記號(hào)對(duì)準(zhǔn)的同心度由原來(lái)的13mm改善為0.2mm;使用定位螺絲對(duì)調(diào)整好位置的光刻板進(jìn)行準(zhǔn)確定位，能夠方便的使用同一個(gè)光刻板對(duì)多個(gè)晶圓片進(jìn)行原始對(duì)中和光刻，而無(wú)需重調(diào)；通過(guò)在第一圓槽孔底面開設(shè)第二圓槽孔并連接真空吸附裝置，能夠避免掀起光刻板時(shí)將晶圓片帶起而引起的晶圓片跌損。需要說(shuō)明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開來(lái)，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)"包括"、"包含"或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句"包括一個(gè)......，，限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。權(quán)利要求1、一種原始對(duì)中裝置，其特征在于，所述裝置上表面開有第一圓槽孔，用于容置晶圓片，所述第一圓槽孔的深度低于晶圓片的厚度；所述裝置上表面還具有直徑大于第一圓槽孔且與第一圓槽孔同心的標(biāo)記線，所述裝置上的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線在原始對(duì)中時(shí)重合。2、如權(quán)利要求l所述的裝置，其特征在于，所述第一圓槽孔底面開有直徑小于所述第一圓槽孔的第二圓槽孔，所述第二圓槽孔與容置于第一圓槽孔中的晶圓片圍成空腔；所述第二圓槽孔底面開有第一通孔，所述第一通孔連通所述空腔與真空吸附裝置。3、如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第一圓槽孔、第二圓槽孔的圓心重合。4、如權(quán)利要求l所述的裝置，其特征在于，所述裝置的上表面還具有側(cè)壁，所述側(cè)壁上水平貫穿有定位螺絲，所述定位螺絲用于對(duì)覆蓋在第一圓槽孔上且原始對(duì)中后的光刻板定位。5、如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述側(cè)壁圍繞第一圓槽孔外側(cè)的標(biāo)記線形成槽孔，所述側(cè)壁形成的槽孔為方形或圓形。6、如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述定位螺絲的軸向平行于所述裝置的上表面，且所述定位螺絲部分嵌入所述上表面。7、如權(quán)利要求2-6任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述裝置還開有第二通孔，所述第二通孔的遠(yuǎn)端位于原始對(duì)中后的光刻板之外，所述第二通孔的近端位于原始對(duì)中后的光刻板之內(nèi)且位于第二圓槽孔之外。8、如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述第二通孔為矩形通孔或橢圓形通孔。9、如權(quán)利要求l-6任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述第一圓槽孔外側(cè)的標(biāo)記線和光刻板上的標(biāo)記線為圓形。10、一種原始對(duì)中系統(tǒng)，其特征在于，包括光刻板和如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的原始對(duì)中裝置，所述光刻板上具有與光刻板上圖案同心、且能夠與所述原始對(duì)中裝置上的標(biāo)記線重合的標(biāo)記線。全文摘要本發(fā)明公開了一種原始對(duì)中裝置和原始對(duì)中系統(tǒng)，其中，所述原始對(duì)中裝置的上表面開有第一圓槽孔，用于容置晶圓片，所述第一圓槽孔的深度低于晶圓片的厚度；所述裝置上表面還具有直徑大于第一圓槽孔且與第一圓槽孔同心的標(biāo)記線，所述裝置上的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線在原始對(duì)中時(shí)重合。本發(fā)明的原始對(duì)中裝置和系統(tǒng)在容置晶圓片的第一圓槽孔外和光刻板上都設(shè)置有標(biāo)記線，通過(guò)將第一圓槽孔外的標(biāo)記線與光刻板上的標(biāo)記線對(duì)準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)晶圓片和光刻板上圖案的良好原始對(duì)中，改善原始對(duì)中同心度。文檔編號(hào)G03F7/20GK101634814SQ20091016648公開日2010年1月27日申請(qǐng)日期2009年8月19日優(yōu)先權(quán)日2009年8月19日發(fā)明者劉旭君,明張,李繼魯,程銀華,昌鄒申請(qǐng)人:株洲南車時(shí)代電氣股份有限公司