專利名稱：涂布裝置和使用該涂布裝置的涂布膜產(chǎn)品的制造方法
技術領域：
本發(fā)明主要涉及一種涂布裝置，其使供給到縫口噴注模(slot die)的袋部的清洗 水經(jīng)由狹縫從狹縫噴出口噴出到涂布有堿性水溶液的移動的料片上，從而對該料片進行清 洗。
背景技術：
近年來，作為平面型圖像顯示裝置(FPD，平板顯示器)，液晶顯示裝置在各種各樣 的領域中被采用。液晶顯示裝置由液晶單元、偏振片和光學補償片(相位差板)等具有光 學功能的片材料(光學薄膜)構成。偏振片通常由偏振膜和設置在其兩側的兩張透明保護膜構成。偏振膜通常是使聚 乙烯醇含浸在碘或二色性染料的水溶液中并對其進行單軸拉伸而得到的。光學補償片通過 消除圖像著色、擴大視角，具有提高液晶顯示裝置的顯示品質的功能，因此在各種各樣的液 晶顯示裝置中被采用。作為偏振片、光學補償片的透明支撐體，采用具有優(yōu)異的透光性、光學無取向性、 優(yōu)異的物理特性、機械特性、溫濕度變化少的特性的以纖維素乙酸酯薄膜為代表的纖維素
酯薄膜。作為光學補償片，代替以往所使用的拉伸雙折射薄膜，提出了使用在透明支撐體 上具有由液晶分子(特別是盤狀液晶分子)形成的光學各向異性層的光學補償片。該光學 各向異性層是通過使液晶性分子取向并固定該取向狀態(tài)而形成的。通過使用液晶性分子、 特別是使用盤狀液晶性分子，能夠制造具有與液晶單元的各種顯示模式相對應的各種光學 特性的光學補償片。經(jīng)由粘接層或取向膜(通常為聚乙烯醇)將偏振膜或光學各向異性層設置在作為 透明支撐體的纖維素酯薄膜上，但作為用于具有與這些粘接層或取向膜的密合性的手段之 一，提出了將纖維素酯薄膜在堿性水溶液中進行浸漬處理而使其表面皂化而親水化的方法 (例如專利文獻1)。另外，還提出了通過將堿性水溶液涂布在纖維素酯薄膜上而選擇性地對該薄膜的 單側表面進行皂化處理的方法(例如專利文獻2)。此外，提出了通過在整個面上均勻地進行皂化處理，從而提高生產(chǎn)率，同時制造沒 有顯示缺陷的光學補償片的方法(專利文獻3)。并且，專利文獻3公開了由堿性水溶液進 行的皂化處理工序(加熱、涂布、皂化反應、反應停止、清洗)，示出了皂化處理工序由潤濕、 除電/除塵工序、加熱工序、涂布工序、皂化反應工序、反應停止工序、清洗工序構成。關于對涂布有堿性水溶液的料片進行清洗的方法，多采用經(jīng)由與袋部連通的狹 縫，將供給到涂布噴頭內的袋部的清洗液擠出到外部、對移動中的料片進行涂布的縫口噴 注模。不過，在通過縫口噴注模對料片的堿性水溶液進行清洗的情況下，存在無法抑制 由清洗不佳所導致的突緣部的故障的缺點，該清洗不佳是由噴出到料片突緣部上的清洗液的噴出速度或噴出角度的不穩(wěn)定所引起的。專利文獻1 日本特開平7-151914號公報專利文獻2 日本特開2002-82226號公報專利文獻3 日本特開2003-313326號公報

發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的，因此其目的在于提供在對料片(web)的堿性水 溶液進行清洗時，能夠有效地抑制噴出到料片突緣部(edge)的清洗液的噴出速度或噴出 角度的不穩(wěn)定的涂布裝置和使用該涂布裝置的涂布膜產(chǎn)品的制造方法。為了達到上述目的，本發(fā)明為一種涂布裝置，其具有袋(pocket)部，其用于將清 洗液沿著涂布有堿性水溶液的移動的料片的寬度方向擴展；供液口，其用于向所述袋部供 給清洗液；狹縫噴出口，其用于從所述袋部將所述清洗液噴出到所述料片上；和狹縫，其用 于使所述清洗液從所述袋部至所述狹縫噴出口通過，所述涂布裝置的特征在于，在所述狹 縫的兩端設有間隔物，該間隔物上形成有距所述袋部規(guī)定的距離后與所述狹縫噴出口平 行的部分；和在所述狹縫噴出口產(chǎn)生使清洗液向料片中央部傾斜的噴出角度的傾斜部分。根據(jù)本發(fā)明，清洗液從袋部流入到狹縫時，利用間隔物與狹縫噴出口平行的部分， 能夠使狹縫端部的噴出速度上升，利用間隔物的傾斜部分，能夠以使清洗水不進入料片的 背面?zhèn)鹊姆绞皆O定噴出角度。從而能夠抑制清洗不佳所導致的突緣部的故障，該清洗不佳 是由噴出到料片突緣部的清洗液的噴出速度或噴出角度的不穩(wěn)定所引起的。優(yōu)選上述規(guī)定距離為3mm以上。通過使上述規(guī)定距離為3mm以上，能夠優(yōu)選使噴 向料片端部的清洗液的噴出速度上升。在本發(fā)明的間隔物中，優(yōu)選在上述平行的部分與上述傾斜部分之間，形成有與上 述狹縫噴出口垂直的部分。通過形成有與該狹縫噴出口大致垂直的部分，能夠使噴出速度 進一步上升，因此，能夠進一步抑制由清洗不佳所導致的突緣部的故障。另外，在本說明書 中，所謂平行或垂直不僅限于嚴格意義上的平行或垂直，也指距嚴格意義上的平行或垂直 士20°以內。在本發(fā)明中，優(yōu)選上述清洗液的噴出角度θ )與清洗液從狹縫噴出口噴出的 噴出速度v(m/s)之間的關系設為滿足θ < 5. 87V2-16. OV+27. 2的范圍，更優(yōu)選設為滿足 θ ( (41.7XLn(v))-25.8的范圍。通過設為該范圍，能夠抑制由清洗不佳所導致的突緣部 的故障。通過使采用本發(fā)明的涂布裝置進行清洗而得到的料片形成為涂布膜產(chǎn)品，料片端 部的故障較少，因此優(yōu)選。另外，該涂布膜產(chǎn)品優(yōu)選是用于液晶顯示裝置的光學補償薄膜。如以上說明的那樣，根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置，在對料片的堿性水溶液進行清洗時， 能夠有效地抑制噴出到料片突緣部的清洗液的噴出速度或噴出角度的不穩(wěn)定。因而，使用 本發(fā)明的涂布裝置來制造的涂布膜產(chǎn)品能夠提供在料片端部故障也較少的涂布膜產(chǎn)品。


圖1是說明光學補償薄膜的生產(chǎn)線的說明圖。圖2是本發(fā)明的涂布裝置的側面剖視圖。
圖3是說明本發(fā)明的涂布裝置的說明圖。圖4是說明本發(fā)明的涂布裝置的另一方式的說明圖。圖5是表示進行了本發(fā)明的間隔物的實驗時的結果的表。圖6是表示實驗的結果的曲線圖。符號說明10生產(chǎn)線，12凹版輥，13加壓輥，14承液盤，16聚合物薄膜(料片)，20涂布工序， 22涂布機，24清洗工序，25涂布裝置，26涂布裝置，28干燥裝置，32狹縫，46袋部，48袋栓， 54間隔物，68導輥，70摩擦處理裝置，72摩擦輥，74除塵機，75涂布裝置，76干燥裝置，77 后段干燥裝置，78加熱裝置，80紫外線燈，82卷繞機
具體實施例方式根據(jù)以下附圖對本發(fā)明的涂布裝置的優(yōu)選實施方式用于光學補償薄膜的生產(chǎn)線 的情況進行詳細說明。圖1是表示光學補償薄膜的生產(chǎn)線的圖，依次說明直到制出光學補償薄膜的各工序。[堿皂化聚合物薄膜的制造]如圖1所示，堿皂化聚合物薄膜的制造方法主要由下述工序構成將堿性水溶液 涂布在從送出機66送出的聚合物薄膜16上來對薄膜表面進行皂化的涂布工序20 ；從被堿 皂化處理過的聚合物薄膜上將堿性水溶液清洗掉并進行干燥的清洗工序24。并且，在本發(fā) 明中，在涂布工序20中，循環(huán)使用被涂布在聚合物薄膜的表面上的堿性水溶液，用于循環(huán) 使用的堿性水溶液循環(huán)管線隨后說明。在涂布工序20中，利用涂布機22將堿性水溶液涂布在聚合物薄膜16上。關于涂 布方式，能夠采用各種方式，但考慮到隨后用于水洗除去的廢液處理，優(yōu)選盡可能抑制堿性 水溶液的涂布量，該涂布量優(yōu)選為1 lOOcc/m2，更優(yōu)選為1 50cc/m2，因此，特別優(yōu)選即 使是在較少的涂布量的區(qū)域也能穩(wěn)定地涂布的刮棒涂布機、凹版涂布機、刮刀涂布機、模涂 機。另外，涂布堿性水溶液并對聚合物薄膜進行皂化處理之后，為了容易地將堿性水溶液從 聚合物薄膜上清洗掉，優(yōu)選將堿性水溶液涂布在聚合物薄膜的下表面上。對于皂化反應所需的堿涂布量，以聚合物薄膜的每單位面積的皂化反應點(site) 數(shù)乘以為了體現(xiàn)與取向膜之間的密合所需的皂化深度而得到的總皂化點數(shù)(=理論堿涂 布量)為目標。隨著皂化反應的進行，堿被消耗，反應速度降低，因此優(yōu)選實際上涂布上述 理論堿涂布量的幾倍。具體而言，優(yōu)選是理論堿涂布量的2 20倍，更優(yōu)選是2 5倍。堿性水溶液的溫度優(yōu)選與反應溫度(=聚合物薄膜的溫度)相等。根據(jù)所使用的 有機溶劑的種類的不同，有時反應溫度超過堿性水溶液的沸點。為了進行穩(wěn)定的涂布，優(yōu)選 比堿性水溶液的沸點低的溫度，更優(yōu)選比堿性水溶液的沸點低5°C的溫度，最優(yōu)選比堿性水 溶液的沸點低10°C的溫度。在涂布堿性水溶液之后，直到皂化反應結束，優(yōu)選將聚合物薄膜的溫度保持為室 溫以上。聚合物薄膜的溫度既可以與在涂布堿性水溶液前加熱的溫度相同也可以不同。另 外，也可以在皂化反應過程中使溫度連續(xù)或階段性地變化。薄膜的溫度為15 150°C，優(yōu)選 為25 100°C，更優(yōu)選為30 80°C。
涂布堿性水溶液直到清洗之前而保持上述溫度范圍的時間取決于輸送速度，但優(yōu) 選保持1秒鐘 300秒鐘，更優(yōu)選保持2 100秒鐘，特別優(yōu)選保持3 50秒鐘。在涂布工序22中堿性水溶液被涂布在薄膜表面上而被皂化所得到的聚合物薄膜 在下一清洗工序24中被清洗。清洗工序24中的清洗可以采用涂布清洗水的方法、吹送清洗水的方法、或者連同 聚合物薄膜一起浸漬到裝有清洗水的容器中的方法來實施。水的吹送方法通常采用使用涂布頭(例如噴注式涂布器、蛙嘴式涂布器 (frogmouth coater))的方法、或者使用在空氣的加濕或涂裝、容器的自動清洗中利用的噴 霧噴嘴的方法來實施。在此，在本發(fā)明中，采用使供給到袋部的清洗水經(jīng)由狹縫從狹縫噴出口噴出到涂 布有堿性水溶液的移動的聚合物薄膜(料片)上、從而對該料片進行清洗的涂布裝置(縫 口噴注模)。圖2是在本發(fā)明的清洗工序24中的涂布裝置25中，涂布裝置的上游側和下游側 配置有將料片16壓靠在涂布頭側的按壓輥38、38的情況下的側面剖視圖。另外，作為另一 方式，也可以配置有與涂布裝置10的頂端相對并卡合支撐料片16的涂布輥。另外，圖3是 說明本發(fā)明的主要部分的說明圖。圖2的清洗工序24主要通過經(jīng)由狹縫32將清洗液從狹縫噴出口 32A噴出的涂布 頭、和以按壓狀態(tài)使沿著箭頭方向連續(xù)移動的料片16與涂布裝置25的頂端部接近的一對 按壓輥38、38來構成。涂布裝置25由包括第2邊緣部42和第1邊緣部40的這兩個組件構成，第2邊緣 部42以狹縫32為界位于料片移動方向的下游側，第1邊緣部40位于料片移動方向的上游 側，第2邊緣部42和第1邊緣部40以與連續(xù)移動的料片16接近的狀態(tài)相對配置。在涂布裝置25的內部，沿著料片16的寬度方向形成有筒狀的袋部46，袋部46與 上述狹縫32連通。并且，供給到袋部46的清洗液被擴流成與涂布寬度相對應的寬度之后， 使狹縫32上升而從狹縫噴出口 32A噴出，對料片16進行清洗(參照圖3)。如圖3(A)所示，在袋部46的貫通的開口部設有袋栓48。在袋栓48的另一方設有 用于側面供給清洗液的供液口 49，通過使該供液口 49與供液管50連接，將清洗液供給到袋 部46。另外，將涂布液輸送到供液管50的送液管線只要能夠使清洗液連續(xù)地且以恒定的液 量送液到袋部46即可。狹縫32是將袋部46和狹縫噴出口 32A連接起來的狹窄的流路，其沿著料片的寬 度方向延伸設置?？紤]到清洗液的液體組成、物性、供給流量、供給液壓等涂布條件來適當 地設定狹縫32向狹縫噴出口 32A方向的流路長度。在這樣形成的涂布裝置25中，存在不能夠抑制清洗不佳所導致的突緣部的故障 這樣的缺點，該清洗不佳是由噴出到料片突緣部上的清洗液的噴出速度或噴出角度的不穩(wěn) 定引起的。因此，在本發(fā)明中，如圖3(A)所示，在狹縫32上設有間隔物54，該間隔物上形成 有距袋部46規(guī)定的距離X后與狹縫噴出口 32A平行的部分54a ；在狹縫噴出口產(chǎn)生清洗 液的噴出角度的傾斜部分54b。另外，圖3(B)是圖3(A)的涂布裝置25的主要部分的剖視 圖。
通過在兩端部設有這樣的間隔物54，在清洗水從袋部46流入到狹縫32時，利用間 隔物54的與狹縫噴出口平行的部分54a，能夠使狹縫噴出口 32A中的狹縫端部的清洗液的 噴出速度上升，利用間隔物54的傾斜的部分54b，能夠以不進入料片背面?zhèn)鹊姆绞皆O定清 洗液的噴出角度，因此，能夠抑制清洗不佳所導致的突緣部的故障，該清洗不佳是由噴出到 料片突緣部上的清洗液的噴出速度或噴出角度的不穩(wěn)定引起的。優(yōu)選規(guī)定的距離X是3mm以上。通過使上述規(guī)定距離為3mm以上，能夠優(yōu)選使噴 向料片端部的清洗液的噴出速度上升。另外，在此，間隔物54的與狹縫噴出口 32A平行的部分54a可以不與狹縫噴出口 32A完全平行，而以與狹縫噴出口 32A所成的角度小于30°的方式形成。在此，優(yōu)選在本發(fā)明的圖3 (A)的間隔物54的平行的部分54a和傾斜部分54b之 間，如圖4所示那樣形成有與狹縫噴出口 32A大致垂直的部分54c。通過形成有與該狹縫噴出口大致垂直的部分54c，能夠進一步使噴出速度上升，因 此，能夠進一步抑制由清洗不佳所導致的突緣部的故障。圖5是表示通過改變圖4的涂布 裝置25的間隔物54的Li、L2、θ 1的值來進行實驗時的結果的表。另外，在該實驗中，圖 3 (A)所示的規(guī)定距離X為3mm。該實驗中的清洗水的噴出速度ν和噴出角度θ也示出在圖5的表中。以噴出速度ν為橫軸、噴出角度θ為縱軸而將該圖5的結果形成的曲線圖是圖6。 另外，在此，“LL打印”是指尺寸大的亮點的狀態(tài)，“漏白(白抜It )故障”是指亮點的亮度 低的狀態(tài)。另外，關于評價，看到了改善效果記為〇，改善效果較小記為Δ，沒有改善效果記 為X。在本發(fā)明中，優(yōu)選上述清洗液的噴出角度θ )與清洗液從狹縫噴出口噴出的 噴出速度v(m/s)之間的關系設為滿足θ < 5.87ν2-16.0ν+27.2的范圍。更優(yōu)選設為滿足 θ ( (41.7XLn(v))-25.8的范圍。通過設為該范圍，能夠抑制由清洗不佳所導致的突緣部 的故障。另外，上述式子是以最小二乘法近似地表示所標注的點的式子。對于清洗水，優(yōu)選使用純水。對于本發(fā)明所用的純水，比電阻至少為0. IMΩ以上， 特別優(yōu)選鈉、鉀、鎂、鈣等金屬離子小于lppm，氯、硝酸等的陰離子小于0. lppm。清洗水的溫度高，則清洗能力強。不過，在將水吹送到所輸送的聚合物薄膜上的方 法中，與空氣接觸的水的面積較大，溫度越高，蒸發(fā)越顯著，因此周圍的濕度增加，結露的危 險性增高。因此，清洗水的溫度通常設定在5 90°C的范圍，優(yōu)選設定在25 80°C的范圍， 更優(yōu)選設定在25 60°C的范圍。堿性水溶液的成分或皂化反應的產(chǎn)物不容易溶于水的情況下，也可以在清洗工序 之前或之后，附加用于除去不溶于水的成分的溶劑清洗工序。溶劑清洗工序可以利用上述 的水洗方法、除去水分手段。也可以緊接著清洗工序24設置干燥工序(未圖示)。通常多采用氣刀等除去水分 手段充分地除去水膜，有時不需要干燥工序，但也可以在將聚合物薄膜卷繞成卷狀之前，為 了調整成優(yōu)選的含水率而進行加熱干燥。相反，也可以采用具有所設定的濕度的風進行調 濕。干燥風的溫度優(yōu)選為30 200°C，更優(yōu)選為40 150°C，特別優(yōu)選為50 120°C。在本發(fā)明中，用于堿皂化的堿性水溶液優(yōu)選是pH為11以上的堿性水溶液。更優(yōu) 選是PH為12 14。
作為用于堿性水溶液的堿劑的例子，也可以采用氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等 無機堿劑，或者二乙醇胺、三乙醇胺、DBU(1，8-二氮雜雙環(huán)[5，4，0]-7_十一碳烯)、DBN(1， 5- 二氮雜雙環(huán)[4，3,0] -5-壬烯)、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四 丁基氫氧化銨、三乙基丁基氫氧化銨等有機堿劑。這些堿劑可以單獨使用或者組合兩種以 上來使用，也可以以例如鹵素化的鹽的形式添加一部分。堿性水溶液中的堿劑的濃度根據(jù)所使用的堿劑的種類、反應溫度以及反應時間來 決定。對于堿劑的含量，堿性水溶液中的氫氧根離子的濃度優(yōu)選為0. 1 5mol/kg，更優(yōu)選 為 0. 3 3mol/kg。堿性水溶液的溶劑優(yōu)選是水和作為水溶性有機溶劑的醇的混合溶液。作為有機溶 劑，優(yōu)選沸點為120°C以下，更優(yōu)選為60 120°C，特別優(yōu)選為60 100°C。[取向膜的形成]如圖1所示，上述那樣被皂化處理的聚合物薄膜通過利用涂布裝置26涂布含有取 向膜形成用樹脂的涂布液、利用干燥裝置28使涂布液干燥而形成透明樹脂層。取向膜更優(yōu)選是由交聯(lián)的兩種聚合物構成的。兩種聚合物中的一方是其自身能夠 交聯(lián)的聚合物或者是被交聯(lián)劑交聯(lián)的聚合物。取向膜可以是利用光、熱或PH變化使具有官 能團的聚合物或將官能團導入到聚合物中而形成的物質在聚合物之間發(fā)生反應而形成的， 或者使用作為反應活性高的化合物的交聯(lián)劑將來源于交聯(lián)劑的連接基團導入到聚合物之 間、對聚合物之間進行交聯(lián)而形成的。聚合物的交聯(lián)可以是將含有聚合物或聚合物與交聯(lián)劑的混合物的涂布液涂布在 聚合物薄膜上之后、通過加熱來實施的。可以在將取向膜涂設在聚合物薄膜上之后，在直到 得到光學薄膜的任一階段進行交聯(lián)處理?？紤]到形成在取向膜上的具有圓盤狀結構的化合 物(光學各向異性層)的取向時，還優(yōu)選在使具有圓盤狀結構的化合物取向后，進行最終的 交聯(lián)。即將含有能夠對聚合物和聚合物進行交聯(lián)的交聯(lián)劑的涂布液涂布在聚合物薄膜上的 情況下，加熱干燥之后，進行摩擦處理，形成取向膜，接著，將含有具有圓盤狀結構單元的化 合物的涂布液涂布在該取向膜上，加熱到盤狀向列相形成溫度以上之后，進行冷卻而形成 光學各向異性層。取向膜所使用的聚合物可以使用其自身能夠交聯(lián)的聚合物或者被交聯(lián)劑交聯(lián)的 聚合物中的任一種，也可以使用多個它們的組合。作為聚合物的例子，能夠列舉出聚甲基丙 烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/馬來酰亞胺共聚物、聚乙烯醇和改性聚乙 烯醇、聚(N-羥甲基丙烯酰胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝酸纖維素、聚 氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、醋酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/醋酸乙烯酯共聚 物、羧甲基纖維素、明膠、聚乙烯、聚丙烯和聚碳酸酯等聚合物以及硅烷偶聯(lián)劑等化合物。作 為聚合物的優(yōu)選例子，是聚(N-羥甲基丙烯酰胺)、羧甲基纖維素、明膠、聚乙烯醇和改性聚 乙烯醇等水溶性聚合物，更優(yōu)選明膠、聚乙烯醇和改性聚乙烯醇，特別優(yōu)選聚乙烯醇和改性 聚乙烯醇，特別優(yōu)選并用兩種聚合度不同的聚乙烯醇或改性聚乙烯醇。優(yōu)選聚乙烯醇的皂化度為70 100 %，更優(yōu)選為80 100 %，最優(yōu)選為85 95 %。 優(yōu)選聚乙烯醇的聚合度為100 3000。改性聚乙烯醇的改性基團能夠利用共聚改性、鏈轉 移改性或者嵌段聚合改性導入。其中，最優(yōu)選皂化度為85 95%的未改性聚乙烯醇或烷硫基改性聚乙烯醇。
作為聚合物(優(yōu)選水溶性聚合物，更優(yōu)選聚乙烯醇或改性聚乙烯醇)的交聯(lián)劑的 例子，包含醛(例如甲醛、乙二醛、戊二醛)、N-羥甲基化合物(例如二羥甲基脲、羥甲基 二甲基乙內酰脲妥因)、二噁烷衍生物(例如2，3_ 二羥基二噁烷)、通過使羧基活化而起 作用的化合物(例如碳正離子、2-萘磺酸鹽、1，1-雙吡咯烷-1-氯代吡啶鐺、1-嗎啉代羰 基-3_(磺酸氨基甲基酯)、活性乙烯化合物(例如1，3，5-三丙烯?；?六氫-S-三嗪、雙 (乙烯砜基)甲烷、N’-亞甲基雙-[β-(乙烯砜基)丙酰胺])、活性鹵素化合物(例如2， 4-二氯-6-羥基-S-三嗪)、異噁唑類和雙醛淀粉。也可以同時使用兩種以上的交聯(lián)劑。優(yōu) 選反應活性高的醛，特別優(yōu)選戊二醛。對于交聯(lián)劑的添加量，相對于聚合物優(yōu)選為0. 1 20質量％，更優(yōu)選為0. 5 15 質量％。優(yōu)選殘存于取向膜的未反應的交聯(lián)劑的量為1. 0質量％以下，更優(yōu)選為0. 5質量％ 以下。在取向膜中以超過1. 0質量％的量殘存有交聯(lián)劑時，無法得到充分的耐久性。將那樣 的取向膜使用于液晶顯示裝置時，在長期使用或長期放置在高溫、高濕的環(huán)境下的情況下， 有時產(chǎn)生網(wǎng)紋。取向膜基本上可以通過將含有作為取向膜形成材料的交聯(lián)劑的上述聚合物涂布 在聚合物薄膜上之后、進行加熱干燥(使交聯(lián))、摩擦處理而形成。如上所述，交聯(lián)反應也 可以在涂布在聚合物薄膜上之后的任意時期進行。在將聚乙烯醇那樣的水溶性聚合物用 作取向膜形成材料的情況下，優(yōu)選涂布液是具有消泡作用的有機溶劑(例如甲醇)和水的 混合溶劑。優(yōu)選其比例以質量比計為水甲醇為0 100 99 1，更優(yōu)選為0 100 91 9。由此，能夠抑制產(chǎn)生泡，取向膜、尤其是光學各向異性層的表面的缺陷顯著減少。作為取向膜的涂布方法，優(yōu)選為旋涂法、浸漬涂布法、簾式涂布法、擠壓涂布法、棒 涂法或者輥涂法。特別優(yōu)選棒涂法。另外，優(yōu)選干燥后的膜厚度為0.1 10 μ m。能夠在 20°C 110°C下進行加熱干燥。為了形成充分的交聯(lián)，優(yōu)選在60°C 100°C下進行，特別優(yōu) 選在80°C 100°C下進行。干燥時間能夠在1分鐘 36小時進行，但優(yōu)選為1分鐘 30分 鐘。PH也優(yōu)選以所使用的交聯(lián)劑的最適合的值來設定，在使用戊二醛的情況下，pH為4. 5 5. 5，特別優(yōu)選為5。取向膜設置在聚合物薄膜上。取向料片也可以通過如上所述那樣對聚合物層進行 交聯(lián)之后、利用摩擦處理裝置70對表面進行摩擦處理而得到。由此，在透明樹脂層上形成 取向膜。取向膜是為了對設在其上的液晶性盤狀化合物的取向方向進行規(guī)定而設置的。摩擦處理可以適用于作為IXD的液晶取向處理工序而被廣泛采用的處理方法。即 能夠采用通過使用紙、薄紗、氈、橡膠或尼龍、聚酯纖維等沿著恒定方向摩擦取向膜的表面 而獲得取向的方法。通常而言，通過使用平均地植毛的布等對長度和粗細均勻的纖維進行 數(shù)次左右的摩擦來實施。在摩擦處理裝置70中，優(yōu)選將摩擦輥72、72配置在處于聚合物薄膜16的連續(xù)輸 送工序內的兩個輸送輥之間，一邊使聚合物薄膜16卷入旋轉的該摩擦輥72、72，一邊輸送 該聚合物薄膜16，從而連續(xù)地對聚合物薄膜16的表面實施摩擦處理。在該情況下，也能使 旋轉軸相對于聚合物薄膜16的輸送方向傾斜地配置摩擦輥72、72。優(yōu)選摩擦輥72自身的 圓度、圓筒度、偏差都為30μπι以下。在采用上述記載的摩擦方法的裝置中，優(yōu)選在裝置內 具備1套以上的預備的摩擦輥。利用除塵機74能夠去除附著在聚合物薄膜16的表面上的 塵埃。
[光學各向異性層的形成]光學補償薄膜的光學各向異性層形成在取向膜上。利用凹版涂布裝置75將含有液晶性盤狀化合物的涂布液(液晶化合物溶液)涂 布在聚合物薄膜16的取向膜層上。作為液晶性盤狀化合物，采用具有交聯(lián)性官能團的液晶 性盤狀化合物。凹版涂布裝置75在凹版輥12的下方設有承液盤14，該承液盤14中充滿涂布液。 并且，凹版輥12的大約下半部分浸漬在涂布液中。利用該結構，涂布液被供給到凹版輥12 表面的單元中。上游導輥17和下游導輥18以與凹版輥12平行的狀態(tài)被支撐。并且，通過 軸承構件(球軸承等)能夠轉動自如地支撐上游導輥17和下游導輥18的兩端部分，優(yōu)選 不帶驅動機構的結構。凹版涂布裝置75優(yōu)選設置在清潔室等清潔的氣氛中。此時，清潔度 優(yōu)選為等級1000以下，更優(yōu)選為等級100以下，進一步優(yōu)選為等級10以下。另外，作為涂布裝置，以凹版涂布裝置75為例表示，但并不限于此。例如，可以適 當?shù)厥褂媒n涂布法、氣刀涂布法、簾式涂布法、輥涂法、繞線棒涂布法、微凹版涂布法、擠 壓涂布法等方法。接著，利用涂布液的涂布而形成有涂布膜的聚合物薄膜16被干燥裝置76干燥。在 該情況下，優(yōu)選在聚合物薄膜16通過凹版涂布裝置75 (更準確地說是凹版輥12)后3秒以 內，或聚合物薄膜16通過凹版涂布裝置75開始直到該有機溶劑的含有率相對于涂布液的 涂布時所含有的該有機溶劑小于50% (更優(yōu)選小于70%)的任一較短的時間以內導入到 干燥裝置76內。然后，優(yōu)選在干燥裝置76中，進行干燥直到涂布膜中的有機溶劑成分的濃度減 少到涂布時的有機溶劑成分的濃度的50%以下(一半以下)、或者涂布膜的粘度達到 IOmPa · s以上的任一較早的時刻。接著，將在干燥裝置76中干燥完成了的聚合物薄膜16通過圖1的后段干燥區(qū)77、 加熱區(qū)78及紫外線燈80。由此，被干燥了的聚合物薄膜16的涂布層被加熱而形成盤狀向 列相的液晶層，通過連續(xù)地使光照射該液晶層，使盤狀液晶固化。在該情況下，優(yōu)選通過對 聚合物薄膜16的不具有液晶層的一側施加熱風或遠紅外線、或者使其與加熱輥接觸來進 行加熱區(qū)78的加熱。或者，優(yōu)選通過對聚合物薄膜16的兩個表面施加熱風或者遠紅外線 來進行。然后，將形成有取向膜和液晶層的聚合物薄膜用卷繞機82卷繞。以上對將本發(fā)明的涂布裝置的優(yōu)選實施方式用于光學補償薄膜的生產(chǎn)線的情況 進行了說明，但本發(fā)明的涂布裝置也能夠在光學補償薄膜的制造以外的在對涂布有堿性水 溶液的料片進行清洗時優(yōu)選使用。
權利要求
1.一種涂布裝置，其具有袋部，其用于將清洗液沿著涂布有堿性水溶液的移動的料 片的寬度方向擴展；供液口，其用于向所述袋部供給清洗液；狹縫噴出口，其用于從所述袋 部將所述清洗液噴出到所述料片上；和狹縫，其用于使所述清洗液從所述袋部至所述狹縫 噴出口通過，所述涂布裝置的特征在于，在所述狹縫的兩端設有間隔物，該間隔物上形成有距所述袋部規(guī)定的距離后與所述狹縫噴出口平行的部分；和在所 述狹縫噴出口產(chǎn)生使清洗液向料片中央部傾斜的噴出角度的傾斜部分。
2.根據(jù)權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述規(guī)定的距離為3mm以上。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，在所述平行的部分與所述傾斜部 分之間，形成有與所述狹縫噴出口垂直的部分。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，所述清洗液的噴出角度θ與清 洗液從狹縫噴出口噴出的噴出速度ν之間的關系設為滿足θ < 5. 87ν2-16. θ v+27. 2的范 圍，所述噴出角度的單位是°，所述噴出速度的單位是m/s。
5.根據(jù)權利要求4所述的涂布裝置，其特征在于，所述清洗液的噴出角度θ與清洗液 從狹縫噴出口噴出的噴出速度ν之間的關系設為滿足θ ( (41.7XLn(v))-25.8的范圍， 所述噴出角度的單位是。，所述噴出速度的單位是m/s。
6.一種涂布膜產(chǎn)品的制造方法，其特征在于，將使用權利要求1或2所述的涂布裝置進 行清洗而得到的料片形成為涂布膜產(chǎn)品。
7.根據(jù)權利要求6所述的涂布膜產(chǎn)品的制造方法，其特征在于，所述涂布膜產(chǎn)品是用 于液晶顯示裝置的光學補償薄膜。
全文摘要
本發(fā)明提供在對料片的堿性水溶液進行清洗時，能夠有效地抑制噴出到料片突緣部的清洗液的噴出速度、噴出角度的不穩(wěn)定的涂布裝置和使用該涂布裝置的涂布膜產(chǎn)品的制造方法。在狹縫(32)上設有間隔物(54)，該間隔物上形成有距袋部(46)規(guī)定的距離(X)后與狹縫噴出口(32A)平行的部分(54a)；和在狹縫噴出口產(chǎn)生清洗液的噴出角度的傾斜部分(54b)。
文檔編號G02B5/30GK102101095SQ20101059169
公開日2011年6月22日 申請日期2010年12月16日 優(yōu)先權日2009年12月16日
發(fā)明者松下俊一郎 申請人:富士膠片株式會社