專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)結(jié)構(gòu)改良的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型針對(duì)背光照明單元當(dāng)中的光學(xué)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)改良，例如導(dǎo)光板、擴(kuò)散板 等，旨在提供一種確保光學(xué)結(jié)構(gòu)的出光質(zhì)量的結(jié)構(gòu)改良。
背景技術(shù)：
導(dǎo)光板的主要功能是藉由光折射原理將光源入射的平行光轉(zhuǎn)換成平面垂直光，且 一般亦會(huì)于導(dǎo)光板上設(shè)置復(fù)數(shù)調(diào)光結(jié)構(gòu)，如圓形或方形等圖案，當(dāng)光源進(jìn)入導(dǎo)光板而碰到 這些調(diào)光結(jié)構(gòu)時(shí)，反射光會(huì)往所需的方向擴(kuò)散，因此利用疏密、大小不同的調(diào)光結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)， 可使導(dǎo)光板面均勻發(fā)光。導(dǎo)光板的功用在于引導(dǎo)光的散射或全反射方向，一方面可用來(lái)提 高輝度，另一方面也可確保離開(kāi)導(dǎo)光板的光線亮度的均勻性，因此導(dǎo)光板為當(dāng)前LCD顯示 面板中的重要組件，特別是背光模塊所不可或缺的組件，而且導(dǎo)光板的設(shè)計(jì)與制造攸關(guān)背 光模塊的光學(xué)設(shè)計(jì)以及輝度、均細(xì)度的控制，為背光模塊廠商最主要的技術(shù)與成本所在。一般導(dǎo)光板或擴(kuò)散板等為一種光學(xué)結(jié)構(gòu)，而該光學(xué)結(jié)構(gòu)的成形加工原理不外乎是 將塑料原料加熱到可塑化狀態(tài)且成為熔融塑料，而使的易于彎曲或變形，再加壓使其充填 到模具內(nèi)，且再經(jīng)冷卻凝因?yàn)轭A(yù)定的形狀后而取出，而該塑料原料在成形加工時(shí)需經(jīng)歷可 塑化、充填與凝固等過(guò)程，故業(yè)者利用該原理，且針對(duì)各制品的性質(zhì)而研發(fā)出不同的加工方 法，一般有澆鑄成形法、壓縮成形法、射出成形法及射出壓縮成形法等。不論是何種成形法，其成形最后再進(jìn)行拆模、去毛邊、裁切、品管及包裝等后段制 程，則完成導(dǎo)光板10的成品；如圖1所示，而一般導(dǎo)光板10為要求較佳的光學(xué)效果，通常于 導(dǎo)光板10側(cè)邊形成有復(fù)數(shù)微結(jié)構(gòu)11，藉由各微結(jié)構(gòu)11來(lái)改變光行徑路徑，以增加輝度或光 線強(qiáng)度，但進(jìn)行去毛邊時(shí)，容易于各微結(jié)構(gòu)上、下表面111、112形成刮痕113，如圖2所示，各 刮痕113會(huì)改變光學(xué)效果，無(wú)法達(dá)到原有導(dǎo)光板的光學(xué)需求，而判定為不良品。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問(wèn)題即在提供一種可確保光學(xué)結(jié)構(gòu)出光質(zhì)量的結(jié)構(gòu)改
良ο本實(shí)用新型的技術(shù)方案為一種光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，該光學(xué)結(jié)構(gòu)至少一側(cè)邊設(shè)有復(fù)數(shù) 微結(jié)構(gòu)；該側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)至少一表面延伸有一凸出部。其中，該凸出部由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)上表面延伸而成。該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)、一與入光側(cè)相鄰的底側(cè)以及與底側(cè)相對(duì)的出光側(cè)，各 微結(jié)構(gòu)設(shè)于入光側(cè)上，而凸出部則設(shè)于入光側(cè)與出光側(cè)相鄰處。該凸出部由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)下表面延伸而成。該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)、一與入光側(cè)相鄰的底側(cè)以及與底側(cè)相對(duì)的出光側(cè)，各 微結(jié)構(gòu)設(shè)于入光側(cè)上，而凸出部則設(shè)于入光側(cè)與底側(cè)相鄰處。該凸出部由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)上表面及下表面延伸而成。該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)、一與入光側(cè)相鄰的底側(cè)以及與底側(cè)相對(duì)的出光側(cè)，各微結(jié)構(gòu)設(shè)于入光側(cè)上，而凸出部則設(shè)于入光側(cè)與出光側(cè)相鄰處以及入光側(cè)與底側(cè)相鄰處。該凸出部的長(zhǎng)度大于微結(jié)構(gòu)的高度。該凸出部的長(zhǎng)度等于微結(jié)構(gòu)的高度。本實(shí)用新型的有益效果為光學(xué)結(jié)構(gòu)至少一側(cè)邊設(shè)有復(fù)數(shù)微結(jié)構(gòu)，其中，該側(cè)邊沿 微結(jié)構(gòu)至少一表面延伸有一凸出部，藉由該凸出部可保護(hù)各微結(jié)構(gòu)，去毛邊時(shí)，可避免于各 微結(jié)構(gòu)上形成刮痕，以確保光學(xué)結(jié)構(gòu)的出光質(zhì)量。

圖1為習(xí)用導(dǎo)光板的結(jié)構(gòu)立體圖；圖2為習(xí)用導(dǎo)光板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型中光學(xué)結(jié)構(gòu)第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)立體圖；圖4為本實(shí)用新型中光學(xué)結(jié)構(gòu)第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)立體圖；圖5為本實(shí)用新型中光學(xué)結(jié)構(gòu)第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)立體圖；圖6為本實(shí)用新型中光學(xué)結(jié)構(gòu)第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖號(hào)說(shuō)明導(dǎo)光板10上表面111刮痕113凸出部201底側(cè)22微結(jié)構(gòu)30下表面3具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其光學(xué)結(jié)構(gòu)如圖3所示導(dǎo)光板為例，其光學(xué)結(jié)構(gòu)20至 少一側(cè)邊設(shè)有復(fù)數(shù)微結(jié)構(gòu)30，該側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)30至少一表面延伸有一凸出部201，如圖所 示的實(shí)施例中，該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)21、一與入光側(cè)21相鄰的底側(cè)22以及與底側(cè)22 相對(duì)的出光側(cè)23，各微結(jié)構(gòu)30設(shè)于入光側(cè)21上，而該凸出部201可由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)上表面 31延伸而成，亦即該凸出部201設(shè)于入光側(cè)21與出光側(cè)23相鄰處。如圖4的第二實(shí)施例所示，該凸出部201由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)下表面32延伸而成，亦 即該凸出部201設(shè)于入光側(cè)21與底側(cè)22相鄰處；當(dāng)然，亦可如圖5的第三實(shí)施例所示，該 凸出部201由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)上表面31及下表面32延伸而成，亦即該凸出部201設(shè)于入光 側(cè)21與出光側(cè)23相鄰處以及入光側(cè)21與底側(cè)22相鄰處，請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D6所示，該凸出部 201的長(zhǎng)度L大于微結(jié)構(gòu)30的高度H，亦即L > H ；而該凸出部的長(zhǎng)度亦可等于微結(jié)構(gòu)的高 度。本實(shí)用新型的光學(xué)結(jié)構(gòu)可以為應(yīng)用于背光模塊中的導(dǎo)光板或擴(kuò)散板等，而本實(shí)用 新型微結(jié)構(gòu)上表面或下表面可藉由該凸出部具有隔絕保護(hù)的作用，以當(dāng)進(jìn)行去毛邊時(shí)，可 避免于各微結(jié)構(gòu)上、下表面形成刮痕，不會(huì)影響各微結(jié)構(gòu)所產(chǎn)生的光學(xué)效果，以確保光學(xué)結(jié) 構(gòu)的出光質(zhì)量，并確保光學(xué)結(jié)構(gòu)的良率。
微結(jié)構(gòu)11 下表面112 光學(xué)結(jié)構(gòu)20 入光側(cè)21 出光側(cè)23 上表面3權(quán)利要求一種光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，該光學(xué)結(jié)構(gòu)至少一側(cè)邊設(shè)有復(fù)數(shù)微結(jié)構(gòu)；其特征在于該側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)至少一表面延伸有一凸出部。
2.如權(quán)利要求1所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該凸出部由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)上表面延 伸而成。
3.如權(quán)利要求2所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)、一與入光 側(cè)相鄰的底側(cè)以及與底側(cè)相對(duì)的出光側(cè)，各微結(jié)構(gòu)設(shè)于入光側(cè)上，而凸出部則設(shè)于入光側(cè) 與出光側(cè)相鄰處。
4.如權(quán)利要求1所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該凸出部由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)下表面延 伸而成。
5.如權(quán)利要求4所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)、一與入光 側(cè)相鄰的底側(cè)以及與底側(cè)相對(duì)的出光側(cè)，各微結(jié)構(gòu)設(shè)于入光側(cè)上，而凸出部則設(shè)于入光側(cè) 與底側(cè)相鄰處。
6 如權(quán)利要求1所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該凸出部由側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)上表面及 下表面延伸而成。
7.如權(quán)利要求4所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該側(cè)邊至少包含有入光側(cè)、一與入光 側(cè)相鄰的底側(cè)以及與底側(cè)相對(duì)的出光側(cè)，各微結(jié)構(gòu)設(shè)于入光側(cè)上，而凸出部則設(shè)于入光側(cè) 與出光側(cè)相鄰處以及入光側(cè)與底側(cè)相鄰處。
8.如權(quán)利要求1、2、4或6所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該凸出部的長(zhǎng)度大于微結(jié)構(gòu) 的高度。
9.如權(quán)利要求1、2、4或6所述光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，其特征在于，該凸出部的長(zhǎng)度等于微結(jié)構(gòu) 的高度。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型光學(xué)結(jié)構(gòu)改良，光學(xué)結(jié)構(gòu)至少一側(cè)邊設(shè)有復(fù)數(shù)微結(jié)構(gòu)，其中，該側(cè)邊沿微結(jié)構(gòu)至少一表面延伸有一凸出部，藉由該凸出部可保護(hù)各微結(jié)構(gòu)，去毛邊時(shí)，可避免于各微結(jié)構(gòu)上形成刮痕，以確保光學(xué)結(jié)構(gòu)的出光質(zhì)量。
文檔編號(hào)G02F1/13357GK201652189SQ20102000400
公開(kāi)日2010年11月24日 申請(qǐng)日期2010年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月19日
發(fā)明者戴郁芬, 李碧珠 申請(qǐng)人:李碧珠