專利名稱：一種掩膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及平板顯示器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于制作面板的掩膜裝置。
背景技術(shù)：
在面板中通常具有許多膜層，如彩色濾光片上的透明導(dǎo)電膜和保護(hù)膜、陣列基板 上的鈍化層和像素電極層等，該等膜層可通過沉積、涂布、濺射等方式形成于面板上。然而，在上述膜層加工中需要使用掩膜板遮擋不需制作膜層的位置，以制作需要 的圖案。為保證該圖案制作的精確度，掩膜板需具有剛性且不易變形。另外，由于所述圖案 的制作是在較高溫度下，故所述掩膜板需承受高溫。因此，業(yè)界使用金屬材質(zhì)制作掩膜板。 使用所述金屬掩膜板時(shí)，將該金屬掩膜板覆蓋于所述面板上，并直接與所述面板接觸。而該 面板在制作膜層時(shí)其上通常還有其他膜層，如彩色濾光片基板在濺射公共電極層時(shí)，其上 已形成有黑色矩陣和彩色樹脂層，該金屬掩膜板在安置或撤離所述彩色濾光片基板時(shí)，容 易刮傷該彩色濾光片基板上的黑色矩陣和彩色樹脂層，影響面板的質(zhì)量，進(jìn)而影響使用該 面板的顯示器的顯示品質(zhì)和良率。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種可避免損傷面板或其上已有膜層的掩膜裝置。一種掩膜裝置，用于面板的膜層加工，其包括基體材料層和表面涂層。所述基體材 料層由不易變形且可承受高溫的材料制成。所述表面涂層設(shè)置于所述基體材料層的一側(cè)， 用于避免所述基體材料層與所述面板直接接觸，且所述表面涂層由柔性且耐高溫材料制 成。本實(shí)用新型提供的掩膜裝置中，通過增設(shè)由柔性耐高溫材料制成的表面涂層，來 有效避免所述基體材料層與所述面板直接接觸，避免所述掩膜裝置損傷所述面板或其上的 已有膜層，保證該面板具有更高的良品率。

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，附圖中圖1為一較佳實(shí)施方式的掩膜裝置及其應(yīng)用于面板膜層加工時(shí)的示意圖。圖2為圖1所示的掩膜裝置的A-A向剖面示意圖。圖3為利用圖1所示的掩膜裝置在面板上形成新的膜層示意圖。
具體實(shí)施方式
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜裝置損傷面板或其上的已有膜層的問題，本實(shí)用新型 通過增設(shè)由柔性耐高溫材料制成的表面涂層，來有效避免掩膜裝置損傷面板或其上的已有 膜層，保證面板具有更高的良品率。以下結(jié)合說明書附圖對本實(shí)用新型提供的掩膜裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。[0013]請同時(shí)參閱圖1和圖2，掩膜裝置200覆蓋于面板100上。面板100可以是但不限 于顯示面板或觸摸面板，其包括基板110和已有膜層120?；?10為透明材料如玻璃或樹 脂制成的透明基板。已有膜層120設(shè)置于基板110上，且其厚度遠(yuǎn)小于基板110的厚度。掩膜裝置200包括基體材料層210和表面涂層220。表面涂層220設(shè)置于基體材 料層210的一側(cè)，其厚度小于基體材料層210的厚度?；w材料層210由具有剛性的材料 制成，如金屬、金屬合金等。表面涂層220由具有柔性的材料如Teflon制成。基體材料層 210和表面涂層220均可承受比較高的溫度，以防止在面板100加工膜層過程中被軟化變 形，影響面板100的圖形精度。掩膜裝置200的厚度比較優(yōu)選地是小于基板110的厚度。掩膜裝置200的表面涂層220正對基板110，其根據(jù)面板100上需要制作的圖形 設(shè)置一個(gè)多個(gè)鏤空區(qū)域230，用于曝露與該鏤空區(qū)域230對應(yīng)位置處的面板100，以在面板 100的已有膜層120上形成新的膜層。請參閱圖3，掩膜裝置200設(shè)置于面板100上，且表面涂層220與已有膜層120接 觸，可有效避免基體材料層210與面板100直接接觸，避免掩膜裝置200損傷基板110或其 上的已有膜層120，保證面板100具有更高的良品率。掩膜裝置200上的多個(gè)鏤空區(qū)域230曝露出基板110上的已有膜層120。將覆蓋 有掩膜裝置200的面板100放置于沉積環(huán)境中，以在鏤空區(qū)域230對應(yīng)的所述面板100的 多個(gè)區(qū)域形成第二膜層130。在其他實(shí)施方式中，表面涂層220可完全覆蓋基體材料層210，也可覆蓋基體材料 層210的邊緣及圍成鏤空區(qū)域230的基體材料層210邊緣。以上為本實(shí)用新型提供的掩膜裝置的較佳實(shí)施方式，不能理解為對本實(shí)用新型權(quán) 利保護(hù)范圍的限制。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)知曉，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可做 多種改進(jìn)或替換，所有的該等改進(jìn)或替換都應(yīng)在本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)范圍內(nèi)，即本實(shí)用 新型的權(quán)利保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求一種掩膜裝置，用于面板的膜層加工，其包括基體材料層，所述基體材料層由不易變形且可承受高溫的材料制成，其特征在于所述掩膜裝置至少還包括表面涂層，所述表面涂層設(shè)置于所述基體材料層的一側(cè)，用于避免所述基體材料層與所述面板直接接觸，且所述表面涂層由柔性且耐高溫材料制成。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于所述掩膜裝置上設(shè)有一個(gè)或多個(gè)鏤空 區(qū)域，該鏤空區(qū)域用于在所述掩膜裝置覆蓋于所述面板上時(shí)曝露出所述面板。
3.如權(quán)利要求2所述的掩膜裝置，其特征在于所述表面涂層覆蓋所述基體材料層的 邊緣以及圍成所述鏤空區(qū)域的基體材料層的邊緣。
4.如權(quán)利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于所述表面涂層完全覆蓋所述基體材料層。
5.如權(quán)利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于所述面板包括基板和已有膜層，所述已 有膜層的厚度小于所述基板的厚度。
6.如權(quán)利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于所述面板包括基板和已有膜層，且所述 已有膜層與所述掩膜裝置的表面涂層直接接觸。
7.如權(quán)利要求1所述的掩膜裝置，其特征在于所述面板可以是顯示面板，也可以是觸 摸面板。
專利摘要本實(shí)用新型涉及平板顯示器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜裝置。掩膜裝置用于面板的膜層加工，其包括基體材料層和表面涂層?；w材料層由不易變形且可承受高溫的材料制成，表面涂層設(shè)置于基體材料層的一側(cè)，用于避免基體材料層與面板直接接觸，且表面涂層由柔性且耐高溫材料制成。本實(shí)用新型通過增設(shè)由柔性耐高溫材料制成的表面涂層來避免基體材料層與面板直接接觸，避免掩膜裝置損傷面板或其上的已有膜層，保證面板具有更高的良品率。
文檔編號G03F1/48GK201600550SQ20102005640
公開日2010年10月6日 申請日期2010年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月12日
發(fā)明者李紹宗, 王士敏, 郭志勇, 鐘榮蘋 申請人:深圳萊寶高科技股份有限公司