專利名稱：用于液晶投影儀中的防塵玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶投影儀中的TFT部組內(nèi)部的防塵玻璃。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，用于液晶投影儀中的TFT部組內(nèi)部的防塵玻璃，顧名思義，該防塵玻 璃主要擔(dān)負(fù)著防止灰塵侵入的重要作用。為了緩和光亮度的衰減，而在防塵玻璃的一側(cè)表 面(外側(cè)表面)鍍有防反射膜層。但現(xiàn)有技術(shù)中上述防塵玻璃的防反射膜層所采取的技術(shù) 方式不盡合理，還有待于進(jìn)一步改進(jìn)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的任務(wù)在于一種用于液晶投影儀中的防塵玻璃。其技術(shù)解決方案是一種用于液晶投影儀中的防塵玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的一側(cè)表面設(shè)置 有防反射膜層，上述防反射膜層由第一膜層至第三膜層依次制備形成，其中第一膜層為與 玻璃基片鄰接的膜層，第三膜層作為與玻璃基片最遠(yuǎn)離的膜層；上述第一膜層的厚度為 77nm，第二膜層的厚度為113nm，第三膜層的厚度為89nm。上述第一膜層為硅與錫復(fù)合膜層，第二膜層為氧化鈮膜層，第三膜層為硅與碳化 硅復(fù)合膜層。本實(shí)用新型的有益技術(shù)效果是本實(shí)用新型采取上述防反射膜層方式，經(jīng)驗(yàn)證波長(zhǎng)在450 630nm范圍內(nèi)，反射率 能夠達(dá)到0. 7%以下，能夠更為有效地抑制光亮衰減，分光透過率從現(xiàn)有技術(shù)中的92%提 高到95. 5%。
以下結(jié)合附圖
與具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明圖為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式的剖示結(jié)構(gòu)原理示意圖。
具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖，一種用于液晶投影儀中的防塵玻璃，在玻璃基片1的一側(cè)表面設(shè)置有 防反射膜層。上述防反射膜層由第一膜層2、第二膜層3與第三膜層4依次制備形成。第 一膜層2作為最下層即與玻璃基片1鄰接的膜層，第三膜層作為最上層即最遠(yuǎn)離玻璃基片 1的膜層。第一膜層為硅與錫復(fù)合膜即由硅與錫混合物制備的膜層，膜層厚度為77nm，第二 膜層為氧化鈮膜層，膜層厚度為113nm，第三膜層為硅與碳化硅復(fù)合膜層即由硅與碳化硅混 合物制備的膜層，膜層厚度為89nm。上述防反射膜層中各膜層的制備可采取現(xiàn)有技術(shù)中的有關(guān)鍍膜技術(shù)方式如真空 蒸鍍法，或磁控管濺鍍法等實(shí)施。
權(quán)利要求一種用于液晶投影儀中的防塵玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片的一側(cè)表面設(shè)置有防反射膜層，其特征在于所述防反射膜層由第一膜層至第三膜層依次制備形成，其中第一膜層為與玻璃基片鄰接的膜層，第三膜層作為與玻璃基片最遠(yuǎn)離的膜層；上述第一膜層的厚度為77nm，第二膜層的厚度為113nm，第三膜層的厚度為89nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于液晶投影儀中的防塵玻璃，其特征在于所述第一膜層 為硅與錫復(fù)合膜層，第二膜層為氧化鈮膜層，第三膜層為硅與碳化硅復(fù)合膜層。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種用于液晶投影儀中的防塵玻璃，在玻璃基片的一側(cè)表面設(shè)置有防反射膜層，特征是防反射膜層由第一膜層至第三膜層依次制備形成，其中第一膜層為與玻璃基片鄰接的膜層，第三膜層作為與玻璃基片最遠(yuǎn)離的膜層；第一膜層的厚度為77nm，第二膜層的厚度為113nm，第三膜層的厚度為89nm。上述第一膜層為硅與錫復(fù)合膜層，第二膜層為氧化鈮膜層，第三膜層為硅與碳化硅復(fù)合膜層。本實(shí)用新型采取上述防反射膜層方式，經(jīng)驗(yàn)證波長(zhǎng)在450～630nm范圍內(nèi)，反射率能夠達(dá)到0.7％以下，能夠更為有效地抑制光亮衰減，分光透過率從現(xiàn)有技術(shù)中的92％提高到95.5％。
文檔編號(hào)G03B21/14GK201583775SQ201020116388
公開日2010年9月15日 申請(qǐng)日期2010年2月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月10日
發(fā)明者中山恭司, 原田高志, 松本研二, 淺川勉 申請(qǐng)人:青島豪雅光電子有限公司