專利名稱：陣列基板的檢測設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板的檢測設(shè)備。
背景技術(shù)：
利用光學(xué)檢測設(shè)備對陣列基板進(jìn)行檢測，是當(dāng)前液晶顯示屏生產(chǎn)過程中廣泛采用的一種技術(shù)。如圖1所示，現(xiàn)有的光學(xué)檢測設(shè)備6的原理是光源1發(fā)出的光經(jīng)過光亮和色度調(diào)節(jié)器2、光源直線合成器3和光源角度調(diào)節(jié)器4后投射到待測陣列基板7上，待測陣列基板7將光反射入光接收器5中成像，再利用與光接收器5連接的圖像處理系統(tǒng)進(jìn)行處理， 將所得待測陣列基板上每個像素的圖像的灰度與周圍的若干像素進(jìn)行對比，從而檢出與周圍像素圖像不一致的異常像素，為后續(xù)的修復(fù)工藝提供數(shù)據(jù)，以減少陣列基板上的不良數(shù)目，使其品質(zhì)得到提升。但是，由于是利用光學(xué)設(shè)備進(jìn)行檢測，并不能模擬液晶顯示屏的工作狀態(tài)，因此， 其檢出不良中，很大一部分并不會對該像素的顯示功能產(chǎn)生明顯影響，也無需進(jìn)行修復(fù)，如在搬運(yùn)過程中落在基板上的漂浮型灰塵顆粒，漂浮型灰塵顆粒在所有檢出的不良數(shù)量中占很大一部分比例，這部分?jǐn)?shù)據(jù)對后續(xù)修復(fù)工藝而言，加大了工作量，并且對改善產(chǎn)品品質(zhì)作用不大。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種陣列基板的檢測設(shè)備，在檢測設(shè)備中加入除塵設(shè)備，在光學(xué)檢測設(shè)備在檢測待測區(qū)域前，將待測區(qū)域的漂浮型灰塵顆粒吸除，避免了漂浮型灰塵顆粒不良的檢出，提高了后續(xù)修復(fù)工藝的效率，降低了生產(chǎn)成本。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一種陣列基板的檢測設(shè)備，包括光學(xué)檢測設(shè)備，在所述光學(xué)檢測設(shè)備外的至少一側(cè)設(shè)置有用于吸除陣列基板上的漂浮型灰塵顆粒的除塵裝置。所述除塵裝置包括用于吸除所述漂浮型灰塵顆粒除塵口和用于產(chǎn)生除塵吸力的除塵動力系統(tǒng)，所述除塵口與除塵動力系統(tǒng)相連接。所述除塵裝置還包括用于控制所述除塵口的開啟和關(guān)閉的除塵口控制裝置。所述除塵動力系統(tǒng)包括用于過濾所述漂浮型灰塵顆粒的過濾器、用于產(chǎn)生除塵吸力的真空泵、用于控制所述真空泵開啟、關(guān)閉并調(diào)整吸氣量的控制裝置、用于連接所述除塵口和所述過濾器的第一管道、用于連接所述過濾器和所述真空泵的第二管道和用于排出所述真空泵內(nèi)氣體的第三管道，所述第一管道一端與所述除塵口連接，所述第一管道另一端連接所述過濾器的入口，所述過濾器的出口連接所述第二管道一端，所述第二管道另一端與所述真空泵的入口相連，所述真空泵的出口連接所述第三管道，所述真空泵與所述控制裝置連接。所述除塵裝置底部與所述光學(xué)檢測設(shè)備底部對齊。所述除塵裝置底部距離陣列基板15 μ m至20 μ m。
3[0012]本實(shí)用新型實(shí)施例，在陣列基板的檢測設(shè)備中加入除塵設(shè)備，在光學(xué)檢測設(shè)備在檢測待測區(qū)域前，將待測區(qū)域的漂浮型灰塵顆粒吸除，從而避免了光學(xué)檢測設(shè)備在對該區(qū)域進(jìn)行檢測時，漂浮型灰塵顆粒不良被檢測出來，提高了后續(xù)修復(fù)工藝的效率，降低了生產(chǎn)成本。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現(xiàn)有光學(xué)檢測設(shè)備的原理示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中陣列基板的檢測設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例中光學(xué)檢測設(shè)備移動方向示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例中除塵裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明1、光源2、光亮和色度調(diào)節(jié)器3、光源直線合成器4、光源角度調(diào)節(jié)器5、光接收器6、 光學(xué)檢測設(shè)備7、待測陣列基板8、除塵口 81、前側(cè)除塵口 82、后側(cè)除塵口 9、第一管道10、過濾器11、第二管道12、真空泵13、第三管道14、支架15、移動裝置20、除塵動力系統(tǒng)
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種陣列基板的檢測設(shè)備，如圖2所示，該設(shè)備包括光學(xué)檢測設(shè)備6，在光學(xué)檢測設(shè)備6外的至少一側(cè)設(shè)置有用于吸除陣列基板上的漂浮型灰塵顆粒的除塵裝置。光學(xué)檢測設(shè)備6懸掛在支架14上，除塵裝置底部與光學(xué)檢測設(shè)備底部對齊，除塵裝置底部距離陣列基板15 μ m至20 μ m，光學(xué)檢測設(shè)備6可以沿支架14 左右移動，支架14設(shè)置在移動裝置15上，支架14可以沿移動裝置15前后移動。若光學(xué)檢測設(shè)備6檢測時前后移動，則在光學(xué)檢測設(shè)備6的前后兩側(cè)設(shè)置除塵裝置；若光學(xué)檢測設(shè)備6檢測時左右移動，則在所述光學(xué)檢測設(shè)備6的左右兩側(cè)設(shè)置除塵裝置。在光學(xué)檢測設(shè)備的檢測過程中，位于其外的除塵裝置將待檢測區(qū)域的陣列基板上的漂浮型灰塵顆粒吸除，待光學(xué)檢測設(shè)備移動到該待測區(qū)域并檢測該區(qū)域時，光學(xué)檢測設(shè)備將不會檢測出漂浮型灰塵顆粒。本實(shí)用新型實(shí)施例中的除塵裝置包括用于吸除漂浮型灰塵顆粒除塵口 8和用于產(chǎn)生除塵吸力的除塵動力系統(tǒng)20，除塵口 8與除塵動力系統(tǒng)20相連接。除塵裝置還包括用于控制所述除塵口的開啟和關(guān)閉的除塵口控制裝置。本實(shí)用新型實(shí)施例中的除塵動力系統(tǒng)20包括用于過濾漂浮型灰塵顆粒的過濾器10、用于產(chǎn)生除塵吸力的真空泵12、用于控制真空泵開啟、關(guān)閉并調(diào)整吸氣量的控制裝置、用于連接除塵口 8和過濾器10的第一管道9、用于連接過濾器10和真空泵12的第二管道11、用于排出真空泵內(nèi)氣體的第三管道13，第一管道9 一端與所述除塵口 8連接，第一管道另一端連接過濾器10的入口，過濾器10的出口連接第二管道11 一端，第二管道11另一端與真空泵12的入口相連，真空泵12的出口連接第三管道13，真空泵12與控制裝置連接。如圖3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例中光學(xué)檢測設(shè)備6檢測時前后移動(圖中虛線箭頭示出光學(xué)檢測設(shè)備移動方向)，即光學(xué)檢測設(shè)備從待測陣列基板7的右上角開始向前移動檢測，待光學(xué)檢測設(shè)備移動到待測陣列基板下邊緣時，光學(xué)檢測設(shè)備向左移動一段距離， 然后隨即向后移動檢測，待光學(xué)檢測設(shè)備移動到待測陣列基板上邊緣之后重復(fù)上述過程。 因此，在光學(xué)檢測設(shè)備6的前后分別設(shè)置前側(cè)除塵口 81和后側(cè)除塵口 82，兩個除塵口都與第一管道9連接。如圖4所示，本實(shí)用新型實(shí)施例中光學(xué)檢測設(shè)備向前移動檢測時，控制裝置控制真空泵12打開向外吸氣，除塵口控制裝置控制光學(xué)檢測設(shè)備的前側(cè)除塵口 81打開，同時， 除塵口控制裝置控制后側(cè)除塵口 82關(guān)閉，此時前側(cè)除塵口 81下的待測陣列基板區(qū)域內(nèi)的夾帶著漂浮型灰塵顆粒的氣體沿第一管道9被吸入過濾器10中，過濾器10將漂浮型灰塵顆粒過濾掉，剩余氣體沿第二管道11、真空泵12和第三管道13排出。當(dāng)光學(xué)檢測設(shè)備向后移動時，除塵口控制裝置將前側(cè)除塵口 81關(guān)閉，同時，除塵口控制裝置控制后側(cè)除塵口 82 開啟，使后側(cè)除塵口 82內(nèi)的漂浮型灰塵顆粒被吸除，當(dāng)光學(xué)檢測設(shè)備移動到待測陣列基板上該區(qū)域時，這個區(qū)域內(nèi)的漂浮型灰塵顆粒已經(jīng)被吸除。本實(shí)用新型實(shí)施例，在陣列基板的檢測設(shè)備中加入除塵設(shè)備，在光學(xué)檢測設(shè)備在檢測待測區(qū)域前，將待測區(qū)域的漂浮型灰塵顆粒吸除，從而避免了光學(xué)檢測設(shè)備在對該區(qū)域進(jìn)行檢測時，漂浮型灰塵顆粒不良被檢測出來，提高了后續(xù)修復(fù)工藝的效率，降低了生產(chǎn)成本。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種陣列基板的檢測設(shè)備，包括光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，在所述光學(xué)檢測設(shè)備外的至少一側(cè)設(shè)置有用于吸除陣列基板上的漂浮型灰塵顆粒的除塵裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的檢測設(shè)備，其特征在于，所述除塵裝置包括用于吸除所述漂浮型灰塵顆粒除塵口和用于產(chǎn)生除塵吸力的除塵動力系統(tǒng)，所述除塵口與除塵動力系統(tǒng)相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板的檢測設(shè)備，其特征在于，所述除塵裝置還包括用于控制所述除塵口的開啟和關(guān)閉的除塵口控制裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的陣列基板的檢測設(shè)備，其特征在于，所述除塵動力系統(tǒng)包括用于過濾所述漂浮型灰塵顆粒的過濾器、用于產(chǎn)生除塵吸力的真空泵、用于控制所述真空泵開啟、關(guān)閉并調(diào)整吸氣量的控制裝置、用于連接所述除塵口和所述過濾器的第一管道、 用于連接所述過濾器和所述真空泵的第二管道和用于排出所述真空泵內(nèi)氣體的第三管道， 所述第一管道一端與所述除塵口連接，所述第一管道另一端連接所述過濾器的入口，所述過濾器的出口連接所述第二管道一端，所述第二管道另一端與所述真空泵的入口相連，所述真空泵的出口連接所述第三管道，所述真空泵與所述控制裝置連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的檢測設(shè)備，其特征在于，所述除塵裝置底部與所述光學(xué)檢測設(shè)備底部對齊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板的檢測設(shè)備，其特征在于，所述除塵裝置底部距離陣列基板15μπι至20μπι。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種陣列基板的檢測設(shè)備，涉及液晶顯示器領(lǐng)域，避免了陣列基板的檢測設(shè)備在檢測陣列基板時，漂浮型灰塵顆粒不良的檢出，提高了后續(xù)修復(fù)工藝的效率，降低了生產(chǎn)成本。一種陣列基板的檢測設(shè)備，包括光學(xué)檢測設(shè)備，在所述光學(xué)檢測設(shè)備外的至少一側(cè)設(shè)置有用于吸除陣列基板上的漂浮型灰塵顆粒的除塵裝置。
文檔編號G02F1/13GK202230272SQ20112037835
公開日2012年5月23日 申請日期2011年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月27日
發(fā)明者唐濤, 曹宇, 魏廣偉, 黃雄天 申請人:北京京東方光電科技有限公司