專(zhuān)利名稱(chēng)：一種曝光修正補(bǔ)償方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于太陽(yáng)能電池基板的曝光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光修正補(bǔ)償方法。_
背景技術(shù)：
曝光(exposure)技術(shù)就是在基板上覆蓋一層具有感光材料(photo-sensitivematerial)的光阻層(photoresist layer),然后光源發(fā)出的平行光經(jīng)過(guò)光罩照射到該光阻層上。簡(jiǎn)單地說(shuō)曝光就是平行光經(jīng)過(guò)光罩而使光罩上的圖案完整地轉(zhuǎn)移到光阻層上。但實(shí)際在后續(xù)的生產(chǎn)環(huán)節(jié)顯影、電鑄或者蝕刻時(shí)圖形會(huì)因?yàn)橐后w沖擊、溫度等因素而產(chǎn)生變形，造成偏差。因此，要想得到合格的產(chǎn)品尺寸，就需要對(duì)此進(jìn)行修正?，F(xiàn)有技術(shù)中，修正方的方法主要有:
1.給曝光機(jī)設(shè)置補(bǔ)正機(jī)構(gòu)(calibration mechanism)以避免基板上之膜層圖形相互偏離。具體方案為:曝光后測(cè)量基板上之定位標(biāo)記(fiducial mark)的位置，以推算基板上之元件膜層的變形量。接著根據(jù)計(jì)算結(jié)果進(jìn)行各個(gè)維度(dimension)之補(bǔ)正，包括位移(shift)補(bǔ)正，用以校正圖形之X軸方向及Y軸方向之位置誤差；倍率(scale)補(bǔ)正，用以校正圖形之放大或縮小誤差；以及回轉(zhuǎn)(rotate)補(bǔ)正，用以校正圖形沿Z軸之扭轉(zhuǎn)變形量。2.在數(shù)據(jù)處理時(shí)給予不同類(lèi)型的開(kāi)口不同的X軸與Y軸上的修正數(shù)據(jù)。補(bǔ)償數(shù)據(jù)的獲得是在一次次實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上，通過(guò)測(cè)量最終產(chǎn)品圖形的尺寸大小計(jì)算出這個(gè)補(bǔ)償值，最后在曝光之前用這個(gè)補(bǔ)償值修正曝光圖形。然而上述兩種方法均不是在文件上的補(bǔ)償，產(chǎn)品的質(zhì)量和精細(xì)度方面難以得到保證。故，有必要進(jìn)行開(kāi)發(fā)研究，以提供一種方案，使得產(chǎn)品質(zhì)量和精細(xì)度的提供都能得到保證。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種曝光修正補(bǔ)償方法，以提高曝光產(chǎn)品的質(zhì)量和精細(xì)度。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為:
一種曝光修正補(bǔ)償方法，包括如下步驟:
510:進(jìn)行試驗(yàn)文件的編輯、設(shè)定分區(qū)；
511:對(duì)圖形文件進(jìn)行無(wú)任何修正補(bǔ)償?shù)钠毓猓?br> 512:按步驟SlO的分區(qū)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行檢測(cè)，記錄下每一個(gè)分區(qū)中IC開(kāi)口在X與Y方向上的尺寸 X’pY、；X’2、Y’2 ；……X’m、Y’m;
S13:將 X’(X’1、X’2、......X’m)與 X(XpX2、......Xm)進(jìn)行比較，Y’(Y’pY’y......Y’m)與Y(Y1、Y2、……Ym)進(jìn)行比較，計(jì)算出縮放倍率；
514:經(jīng)過(guò)至少2次以上試驗(yàn)，對(duì)X、Y方向的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，分別擬合成相應(yīng)的關(guān)系公式，分別得出不同類(lèi)型IC開(kāi)口補(bǔ)償數(shù)據(jù)X#、Y# ；
515:確定補(bǔ)償數(shù)據(jù)后在文件上應(yīng)用并制作產(chǎn)品驗(yàn)證再現(xiàn)性。進(jìn)一步地，所述步驟SlO具體為:設(shè)定分區(qū)，并在分區(qū)中編輯同一類(lèi)型的IC開(kāi)口，數(shù)量為N個(gè)；由于不同區(qū)域的IC開(kāi)口要求不一樣，包括形狀與尺寸大小，所以將不同分區(qū)打上標(biāo)定與區(qū)分的字符；對(duì)于不同分區(qū)的IC開(kāi)口記錄下X與Y方向尺寸Xp Y1 ;X2、Y2 ；……Xm、Ym。進(jìn)一步地，所述步驟S12中數(shù)據(jù)的檢測(cè)系采用先進(jìn)的設(shè)備四合一進(jìn)行獲取，精度聞。進(jìn)一步地，所述步驟S14數(shù)據(jù)的分析系采用專(zhuān)門(mén)的數(shù)據(jù)分析軟件進(jìn)行擬合，再得出最優(yōu)參數(shù)組合。
本發(fā)明曝光修正補(bǔ)償方法在文件上補(bǔ)償，主要可以達(dá)到校正開(kāi)口的作用，相比于曝光機(jī)的補(bǔ)償，其對(duì)于提高產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)度是非常有用。其比一般通過(guò)補(bǔ)償光罩、曝光設(shè)備方法更方便、更經(jīng)濟(jì)、更有效可行。


圖1是本發(fā)明的流程圖示。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。請(qǐng)參照?qǐng)D1所示，本發(fā)明曝光修正補(bǔ)償方法包括如下步驟:
SlO:進(jìn)行試驗(yàn)文件的編輯、設(shè)定分區(qū)
設(shè)定分區(qū)，并在分區(qū)中編輯同一類(lèi)型的IC開(kāi)口，數(shù)量為N個(gè)；由于不同區(qū)域的IC開(kāi)口要求不一樣，包括形狀與尺寸大小，所以將不同分區(qū)打上標(biāo)定與區(qū)分的字符；對(duì)于不同分區(qū)的IC開(kāi)口記錄下X與Y方向尺寸XpY1 ;X2、Y2 ；……Xm、Ym。Sll:對(duì)圖形文件進(jìn)行無(wú)任何修正補(bǔ)償?shù)钠毓?br> 經(jīng)過(guò)前處理、貼膜后對(duì)圖形文件進(jìn)行無(wú)任何修正補(bǔ)償?shù)钠毓猓毓馔瓿珊罄^續(xù)進(jìn)行電鑄或者蝕刻等正常生產(chǎn)流程，完成產(chǎn)品生產(chǎn)。S12:按步驟SlO的分區(qū)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行檢測(cè)，記錄下每一個(gè)分區(qū)中IC開(kāi)口在X與Y方向上的尺寸 X’pY’i ;X’2、Y’2 ;……X’m、Y’m。S13:將 X’(X’pX’y......X’J 與 X(X1、X2、......Xj 進(jìn)行比較，Y，(Y 2,……
Y’J與Y(YpY2、……YJ進(jìn)行比較，計(jì)算出縮放倍率，改縮放倍率可以大于I也可以小于I。S14:經(jīng)過(guò)至少2次以上試驗(yàn)，對(duì)X、Y方向的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，分別擬合成相應(yīng)的關(guān)系公式，分別得出不同類(lèi)型IC開(kāi)口補(bǔ)償數(shù)據(jù)X#、Y#。S15:確定補(bǔ)償數(shù)據(jù)后在文件上應(yīng)用并制作產(chǎn)品驗(yàn)證再現(xiàn)性。其中，
所述步驟S12中數(shù)據(jù)的檢測(cè)系采用先進(jìn)的設(shè)備四合一進(jìn)行獲取，精度高。所述步驟S14數(shù)據(jù)的分析系采用專(zhuān)門(mén)的數(shù)據(jù)分析軟件進(jìn)行擬合，再得出最優(yōu)參數(shù)組合。本發(fā)明通過(guò)對(duì)圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行X、Y方向的縮放補(bǔ)償使產(chǎn)品圖像尺寸符合產(chǎn)品要求，降低報(bào)廢率。其比一般通過(guò)補(bǔ)償光罩、曝光設(shè)備方法更方便、更經(jīng)濟(jì)、更有效可行。另外，補(bǔ)償數(shù)據(jù)的方案簡(jiǎn)單可靠，可行性強(qiáng)，并且操作簡(jiǎn)單，耗費(fèi)低。可以達(dá)到產(chǎn)品高精度的要求，提高了每一個(gè)開(kāi)口的尺寸精度。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種曝光修正補(bǔ)償方法，其特征在于，包括如下步驟: 510:進(jìn)行試驗(yàn)文件的編輯、設(shè)定分區(qū)； 511:對(duì)圖形文件進(jìn)行無(wú)任何修正補(bǔ)償?shù)钠毓猓? 512:按步驟SlO的分區(qū)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行檢測(cè)，記錄下每一個(gè)分區(qū)中IC開(kāi)口在X與Y方向上的尺寸 X’pY、；X’2、Y’2 ；……X’m、Y’m;S13:將 X’(X’1、X’2、......X’m)與 X(XpX2、......Xm)進(jìn)行比較，Y’(Y’pY’y......Y’m)與Y(Y1、Y2、……Ym)進(jìn)行比較，計(jì)算出縮放倍率； 514:經(jīng)過(guò)至少2次以上試驗(yàn)，對(duì)X、Y方向的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，分別擬合成相應(yīng)的關(guān)系公式，分別得出不同類(lèi)型IC開(kāi)口補(bǔ)償數(shù)據(jù)X#、Y# ； 515:確定補(bǔ)償數(shù)據(jù)后在文件上應(yīng)用并制作產(chǎn)品驗(yàn)證再現(xiàn)性。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光修正補(bǔ)償方法，其特征在于:所述步驟SlO具體為:設(shè)定分區(qū)，并在分區(qū)中編輯同一類(lèi)型的IC開(kāi)口，數(shù)量為N個(gè)；由于不同區(qū)域的IC開(kāi)口要求不一樣，包括形狀與尺寸大小，所以將不同分區(qū)打上標(biāo)定與區(qū)分的字符；對(duì)于不同分區(qū)的IC開(kāi)口記錄下X與Y方向尺寸X^Y1 ;X2、Y2 ；……Xm、Ym。
3.如權(quán)利要求2所述的曝光修正補(bǔ)償方法，其特征在于:所述步驟S12中數(shù)據(jù)的檢測(cè)系采用先進(jìn)的設(shè)備四合一進(jìn)行獲取，精度高。
4.如權(quán)利要求3所述的曝光修正補(bǔ)償方法，其特征在于:所述步驟S14數(shù)據(jù)的分析系采用專(zhuān)門(mén)的數(shù)據(jù)分析軟件進(jìn)行擬合，再得出最優(yōu)參數(shù)組合。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種曝光修正補(bǔ)償方法，包括S10進(jìn)行試驗(yàn)文件的編輯、設(shè)定分區(qū)；S11對(duì)圖形文件進(jìn)行無(wú)任何修正補(bǔ)償?shù)钠毓?；S12按分區(qū)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行檢測(cè)，記錄下每一個(gè)分區(qū)中IC開(kāi)口在X與Y方向上的尺寸X’1、Y’1；X’2、Y’2；……X’m、Y’m；S13計(jì)算出縮放倍率；S14對(duì)X、Y方向的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，分別擬合成相應(yīng)的關(guān)系公式，分別得出不同類(lèi)型IC開(kāi)口補(bǔ)償數(shù)據(jù)X補(bǔ)、Y補(bǔ)；S15確定補(bǔ)償數(shù)據(jù)后在文件上應(yīng)用并制作產(chǎn)品驗(yàn)證再現(xiàn)性。本發(fā)明曝光修正補(bǔ)償方法在文件上補(bǔ)償，主要可以達(dá)到校正開(kāi)口的作用，其比一般通過(guò)補(bǔ)償光罩、曝光設(shè)備方法更方便、更經(jīng)濟(jì)、更有效可行。
文檔編號(hào)G03F7/20GK103207526SQ20121001074
公開(kāi)日2013年7月17日 申請(qǐng)日期2012年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月16日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 陳龍英, 莫松亭 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司