專利名稱：一種匯聚擺鏡的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種匯聚擺鏡，屬于光學(xué)測試技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
紫外波段按照能否在大氣中進行傳播，廣義上分為真空紫外波段(IOnm 200nm) 和非真空紫外波段(200nm 400nm)。在真空紫外波段又細分為遠紫外(80nm 200nm)和 極紫外波段(IOnm 80nm)，兩個波段劃分界限比較模糊。極紫外和遠紫外(簡稱極遠紫 外)波段的輻射特性不同于可見光和紅外波段，它在空間探測領(lǐng)域具有不可替代的優(yōu)勢， 隨著探月工程、深空探測計劃、以及火星探測等計劃的相續(xù)發(fā)展，受到越來越多的關(guān)注。因 此對極紫外和遠紫外(簡稱極遠紫外)波段的輻射特性的測量十分必要。
匯聚擺鏡是光學(xué)測試類儀器重要的測量工具，但現(xiàn)有技術(shù)中擺鏡一般為單面反射 鏡，通過手動擺鏡旋轉(zhuǎn)可以實現(xiàn)不同光路的切換，但很不方便，并且不具備消除高級次光譜 雜散輻射影響的功能。
在可見光和紅外波段光源光譜輻射度和探測器響應(yīng)度測試過程中，對于高級次光 譜的濾除基本上都使用透射式光學(xué)濾光片，在相應(yīng)的波段將濾光片置于測量光路中，可以 減少高級次光譜雜散信號對測量結(jié)果的影響。但上述使用透射式光學(xué)濾光片方法在紫外 波段現(xiàn)階段不適用，因為在紫外波段還沒有合適的光學(xué)材料可以完全透過紫外光譜輻射 (5nm 400nm),也無法鍍制相應(yīng)的濾光膜。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有光源光譜輻射度校準和探測器校準技術(shù)不足，提供了 一種匯聚擺鏡，它不僅能夠?qū)崿F(xiàn)高級次光譜的濾除，而且通過擴展還能夠?qū)崿F(xiàn)光源之間快 速準確的切換。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案
—種匯聚擺鏡，包括擺鏡和旋轉(zhuǎn)位移平臺，所述擺鏡位于旋轉(zhuǎn)位移平臺上，所述擺 鏡包括兩塊非反射面貼合的凹面反射鏡，其反射鏡中心軸線重合，所述凹面反射鏡曲面半 徑范圍為50mm 5000mm，其中一塊反射鏡的反射面A鍍30nm 200nm反射膜，另一塊反射 鏡的反射面B鍍60nm 200nm高反射膜，低于60nm光譜反射率較低。
所述擺鏡的口徑范圍為IOmm 500mm,半徑范圍為50mm 5000mm。
所述擺鏡的兩個反射鏡反射面中心間距范圍為Imm 200mm。
所述擺鏡的兩個反射面的反射膜為高反膜。
所述擺鏡通過旋轉(zhuǎn)位移平臺進行平移和旋轉(zhuǎn)運動。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的有益效果
(I)本發(fā)明可實現(xiàn)標準光源與待測光源的快速切換。
(2)本發(fā)明可實現(xiàn)在光源光譜輻射度校準和探測器響應(yīng)度校準中高級次光譜雜散 輻射的有效濾除，減少測量誤差，提升測量精度。


所包括的附圖用來提供對本發(fā)明實施例的進一步的理解，其構(gòu)成了說明書的一部分，用于例示本發(fā)明的實施例，并與文字描述一起來闡釋本發(fā)明的原理。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明匯聚擺鏡結(jié)構(gòu)示意圖2為旋轉(zhuǎn)位移平臺結(jié)構(gòu)原理示意圖3為本發(fā)明測量標準光源擺鏡位置示意圖4為圖3擺鏡逆時針旋轉(zhuǎn)2 α位置示意圖5為圖4擺鏡向上平移位置示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施例進行詳細說明。在下面的描述中，出于解釋而非限制性的目的，闡述了具體細節(jié)，以幫助全面地理解本發(fā)明。然而，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說顯而易見的是，也可以在脫離了這些具體細節(jié)的其它實施例中實踐本發(fā)明。
在此需要說明的是，為了避免因不必要的細節(jié)而模糊了本發(fā)明，在 附圖中僅僅示出了與根據(jù)本發(fā)明的方案密切相關(guān)的設(shè)備結(jié)構(gòu)和/或處理步驟，而省略了與本發(fā)明關(guān)系不大的其他細節(jié)。
下面參照附圖對本發(fā)明的實施例進行說明。
如圖1所示，一種匯聚擺鏡，包括擺鏡和旋轉(zhuǎn)位移平臺，所述擺鏡位于旋轉(zhuǎn)位移平臺上，通過旋轉(zhuǎn)位移平臺進行平移和旋轉(zhuǎn)運動。所述擺鏡包括兩塊凹面反射鏡安裝在一起， 具體安裝方式為兩個非反射面貼合在一起，并且保證反射鏡中心軸線重合。所述擺鏡的兩個反射鏡反射面中心間距范圍為Imm 200mm。兩塊凹面反射鏡曲面半徑范圍為50mm 5000mm。兩塊反射鏡其中一塊反射鏡的反射面A鍍30nm 200nm反射膜，主要在30nm 60nm使用，另一塊鍍60nm 200nm反射膜,60nm以下光譜反射率較低,主要在60nm 200nm 使用。本實施例中，反射膜采用高反膜。點光源經(jīng)過該擺鏡后，可以將發(fā)散光匯聚到另一個焦點處。擺鏡材料為融石英，所述擺鏡的口徑范圍為IOmm 500mm,半徑范圍為50mm 5000mmo
所述旋轉(zhuǎn)位移臺為電動旋轉(zhuǎn)位移平臺，分為兩個運動，如圖2所示，一個為直線位移運動另一個為旋轉(zhuǎn)運動。所述擺鏡通過旋轉(zhuǎn)位移平臺進行平移和旋轉(zhuǎn)運動。所選用的電動位移平臺行程為25mm，靈敏度10 μ m。所選用的電動旋轉(zhuǎn)平臺轉(zhuǎn)角為70°，角度誤差O.01°。
本發(fā)明所述的匯聚擺鏡使用時應(yīng)將其置于匯聚擺鏡倉中，匯聚擺鏡倉為擺鏡的工作室，采用不銹鋼材料加工，上部安裝艙門便于調(diào)試擺鏡。
本發(fā)明提供的匯聚擺鏡工作原理
如圖3所示在光源光譜輻亮度校準中，標準光源穩(wěn)定后，首先設(shè)置光源校準光譜范圍(30nm 200nm)，旋轉(zhuǎn)擺鏡此時工作面為A面，使標準光源置于工作光路中，使反射鏡面反射光線進入紫外單色儀入射狹縫，完成30nm 60nm波段的測量。然后，旋轉(zhuǎn)擺鏡旋轉(zhuǎn)180°，旋轉(zhuǎn)擺鏡此時工作面為B面，標準光源置于工作光路中，使反射鏡面反射光線進入紫外單色儀入射狹縫，完成60nm 200nm波段的測量。這樣就完成了 30nm 200nm標準光源光譜的測量。
待測光源光譜輻射測量中擺鏡工作原理
如圖4所示待測光源與標準光源角度為4 α，圖3中擺鏡以擺鏡中心O為旋轉(zhuǎn)中心，逆時針旋轉(zhuǎn)2 α使待測光源入射到擺鏡表面，此時反射鏡面反射光線無法進入單色儀的入射狹縫，需要縱向平移。本實施例中，待測光源與標準光源角度為120°，圖3中擺鏡逆時針旋轉(zhuǎn)60°。
如圖5所示，圖4中擺鏡向上平移L，使反射光線可以沿橫向中心線進入紫外單色儀入射狹縫。其中，L數(shù)值可以根據(jù)擺鏡厚度、標準光源和待測光源的夾角以及光線出射光路關(guān)系進行計算，為本領(lǐng)域慣用手段，此處不再贅述。至此，完成30nm 60nm波段的測量。
然后，以擺鏡中心為軸進行180°旋轉(zhuǎn)切換旋轉(zhuǎn)擺鏡旋轉(zhuǎn)180°，旋轉(zhuǎn)擺鏡此時工作面為B面，待測光源置于工作光路中，使反射鏡面反射光線進入紫外單色儀入射狹縫，完成60nm 200nm波段的測量。這樣就完成了 30nm 200nm待測光源光譜的測量。
以上具體實施實現(xiàn)了標準光源與待測光源的光譜輻射測量和切換。
本發(fā)明的實施例的許多特征和優(yōu)點根據(jù)該詳細描述是清楚的，因此所附權(quán)利要求旨在覆蓋這些實施例的落入 其真實精神和范圍內(nèi)的所有這些特征和優(yōu)點。此外，由于本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易想到很多修改和改變，因此不是要將本發(fā)明的實施例限于所例示和描述的精確結(jié)構(gòu)和操作，而是可以涵蓋落入其范圍內(nèi)的所有合適修改和等同物。
本發(fā)明未詳細說明部分為本領(lǐng)域技術(shù)人員公知技術(shù)。
權(quán)利要求
1.一種匯聚擺鏡，包括擺鏡和旋轉(zhuǎn)位移平臺，所述擺鏡位于旋轉(zhuǎn)位移平臺上，其特征在于所述擺鏡包括兩塊非反射面貼合的凹面反射鏡，其反射鏡中心軸線重合，所述凹面反射鏡曲面半徑范圍為50mm 5000mm，其中一塊反射鏡的反射面A鍍30nm 200nm反射膜，另一塊反射鏡的反射面B鍍60nm 200nm高反射膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的匯聚擺鏡，其特征在于所述擺鏡的口徑范圍為IOmm 500mm,半徑范圍為50mm 5000mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的匯聚擺鏡，其特征在于所述擺鏡的兩個反射鏡反射面中心間距范圍為I謹 200mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的匯聚擺鏡，其特征在于所述擺鏡的兩個反射面的反射膜為高反膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的匯聚擺鏡，其特征在于所述擺鏡通過旋轉(zhuǎn)位移平臺進行平移和旋轉(zhuǎn)運動。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種匯聚擺鏡，包括擺鏡和旋轉(zhuǎn)位移平臺，其中，擺鏡包括兩塊非反射面貼合的凹面反射鏡，兩塊反射鏡中心軸線重合，所述凹面反射鏡曲面半徑范圍為50mm～5000mm，其中一塊反射鏡的反射面A鍍30nm～200nm高反射膜，另一塊反射面B鍍60nm～200nm高反射膜，低于60nm光譜反射率較低。所述擺鏡通過旋轉(zhuǎn)位移平臺進行平移和旋轉(zhuǎn)運動。本發(fā)明可實現(xiàn)標準光源與待測光源的快速切換；并且可實現(xiàn)在光源光譜輻射度校準和探測器響應(yīng)度校準中高級次光譜雜散輻射的有效濾除，減少測量誤差，提升測量精度。
文檔編號G02B26/08GK103017899SQ20121047869
公開日2013年4月3日 申請日期2012年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月23日
發(fā)明者王加朋, 孫紅勝, 宋春暉, 張玉國, 李世偉, 魏建強, 楊旺林 申請人:北京振興計量測試研究所