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      彩膜基板、顯示面板及顯示裝置的制作方法

      文檔序號:2693341閱讀:281來源:國知局
      專利名稱:彩膜基板、顯示面板及顯示裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種彩膜基板、顯示面板及顯示
      >J-U裝直。
      背景技術(shù)
      傳統(tǒng)的薄膜場效應晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay, IXD TFT-IXD)面板由TFT陣列基板與彩膜(CF)基板對盒形成。以傳統(tǒng)的TN模式的TFT-LCD面板為例,如圖I所示,該面板包括TFT陣列基板I與彩膜基板2,彩膜基板2進一步包括基板(Glass) 2-1、黑矩陣(BM) 2-2、彩色色阻(包括紅色色阻2-3、綠色色阻2-4、以及藍色色阻2-5)、以及透明電極層(通常為氧化銦錫ITO透明電極)2-6 (對于IPS和 FFS型面板沒有該層),黑矩陣2-2以及彩色色阻形成在基板2-1上,透明電極層2-6形成在黑矩陣2-2以及彩色色阻上。陣列基板I與彩膜基板2之間填充液晶,兩基板之間通過封框膠(Sealent) 3密封,且兩基板之間還設(shè)置有隔墊物(PS) 4。在傳統(tǒng)的中小尺寸TFT-IXD面板的設(shè)計中,由于受面板尺寸的限制和基板利用率的考量,封框膠3涂布于彩膜基板顯示區(qū)域(Active area)周邊的黑矩陣2-2上。由于黑矩陣2_2作為有機樹脂,其與基板2_1的粘附力較低,所以經(jīng)常出現(xiàn)采用此種方法的產(chǎn)品在信賴性測試(PCT)中因黑矩陣2-2從基板2-1上脫落(如圖2所示)而造成兩基板之間的液晶的泄露或者面板內(nèi)部產(chǎn)生氣泡,嚴重影響產(chǎn)品的長期信賴性。

      實用新型內(nèi)容(一)要解決的技術(shù)問題本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠避免出現(xiàn)黑矩陣與基板的剝離現(xiàn)象,進而提高產(chǎn)品的長期信賴性的彩膜基板、顯示面板及顯示裝置。(二)技術(shù)方案為解決上述問題,本實用新型提供了一種彩膜基板,包括基板、黑矩陣、以及彩色色阻,所述黑矩陣和彩色色阻均形成在所述基板上,所述彩膜基板包括顯示區(qū)域,該彩膜基板還包括附著增強層,所述附著增強層形成在所述顯示區(qū)域周邊的黑矩陣與所述基板之間。優(yōu)選地,所述附著增強層與所述顯示區(qū)域的距離不小于0. 5_。優(yōu)選地,所述附著增強層的厚度不超過40nm。優(yōu)選地,所述附著增強層的厚度為15 35nm。優(yōu)選地,所述附著增強層為金屬、金屬合金、金屬氧化物以及類金屬材料中的一種或幾種的組合。優(yōu)選地,所述附著增強層為氧化銦錫材料。本實用新型還提供了一種顯示面板,該顯示面板包括上述彩膜基板。優(yōu)選地,該顯示面板還包括陣列基板,所述陣列基板與所述彩膜基板之間形成有封框膠,所述封框膠形成在所述顯示區(qū)域周邊的黑矩陣上方。優(yōu)選地,所述附著增強層的寬度不小于所述封框膠的寬度。本實用新型還提供了一種顯示裝置,該裝置包括上述顯示面板。(三)有益效果本實用新型的彩膜基板、顯示面板以及顯示裝置中,通過在面板周邊的黑矩陣下形成附著增強層,以此輔助提高黑矩陣與基板的附著力,進而保證在產(chǎn)品信賴性測試中不會出現(xiàn)因黑矩陣同基板剝離而造成的液晶泄露或者氣泡產(chǎn)生,確保產(chǎn)品信賴性的穩(wěn)定性。

      圖I為傳統(tǒng)的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為傳統(tǒng)的顯示面板黑矩陣與基板發(fā)生的示意圖;圖3為依照本實用新型一種實施方式的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4 (a)-圖4 Ce)為依照本實用新型一種實施方式的彩膜基板的制備工藝示意圖;圖5為依照本實用新型一種實施方式的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實施方式
      本實用新型提供的彩膜基板、顯示面板以及顯示裝置,結(jié)合附圖及實施例詳細說明如下如圖3所示,依照本實用新型一種實施方式的彩膜基板包括基板2-1、黑矩陣2-2、彩色色阻(在本實施方式的彩膜基板中包括紅色色阻2-3、綠色色阻2-4、以及藍色色阻2-5,但不限于此)、透明電極層2-6、附著增強層2-7、以及隔墊物4 (未示出),黑矩陣2_2和彩色色阻均形成在基板2-1上,透明電極層2-6形成在黑矩陣2-2和彩色色阻上,附著增強層2-7形成在彩膜基板上的顯示區(qū)域周邊的黑矩陣2-2與基板2-1之間,用于增強該區(qū)域的黑矩陣2-2與基板2-1之間的附著力,以避免黑矩陣2-2與基板2-1之間可能的脫離。該附著增強層2-7與所述顯示區(qū)域的距離L不小于0. 5mm,厚度不超過40nm,以避免該層過厚且太接近顯示區(qū)域而產(chǎn)生感應電荷,影響顯示效果。在本實施方式的彩膜基板中,該附著增強層2-7的厚度在15 35nm之間,且為金屬、金屬合金、金屬氧化物以及類金屬材料中的一種或幾種的組合,只要能濺射成膜且具有一定粗糙度能夠使其與基板之間的附著力大于黑矩陣與基板之間的附著力的材料均可,例如,該附著增強層2-7可為鋁、鋁合金、或氧化銦錫ITO等,本實施方式中從工藝便利的角度,將其優(yōu)選為IT0。本實施方式的彩膜基板的制作流程如圖4 (a) -4 (e)所示第一步先在基板上濺射鍍制一層膜厚約40nm的附著增強層2_7,并通過濕法刻蝕工藝在顯示區(qū)域周邊的黑矩陣下方形成所需要的圖形(Pattern),如圖4 (a)所示;第二步,在完成第一步的基板2-1上制備黑矩陣2-2,如圖4 (b)所示。第三步在完成第二步的基板2-1上制備彩色色阻(包括紅色色阻2-3、綠色色阻2-4、以及藍色色阻2-5),如圖4 (c)所示。第四步在黑矩陣2-2和彩色色阻上形成透明電極層2-6,如圖4 Cd)所示。第五步在形成透明電極層2-6后,制備隔墊物4,如圖4 (e)所示。[0032]如圖5所示,本實用新型還提供了一種顯示面板,包括上述的彩膜基板2以及陣列基板I,彩膜基板2與陣列基板I之間通過密封膠3密封,并通過隔墊物4支撐。該封框膠3形成在顯示區(qū)域周邊的黑矩陣2-2上方,附著增強層2-7的寬度不小于封框膠3的寬度,從而增強封框膠3下的黑矩陣與基板之間的附著力,以保證在產(chǎn)品信賴性測試中不會出現(xiàn)因黑矩陣與基板剝離而造成的液晶泄露或者氣泡產(chǎn)生,確保產(chǎn)品信賴性的穩(wěn)定性。在本實施方式中,優(yōu)選為超出顯示區(qū)域0. 5_之外的全部黑矩陣2-2下方均形成該附著增強層2-7。本實用新型還提供了一種包括上述顯示面板的顯示裝置,該顯示裝置可為TN、IPS以及FFS型的任意一種液晶顯示裝置。以上實施方式僅用于說明本實用新型,而并非對本實用新型的限制,有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不脫離本實用新型的精神和范圍的情況下,還可以做出各種變化和變型,因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本實用新型的范疇,本實用新型的專利保護范圍應由權(quán)利要求限定。
      權(quán)利要求1.一種彩膜基板,包括基板、黑矩陣、以及彩色色阻,所述黑矩陣和彩色色阻均形成在所述基板上,所述彩膜基板包括顯示區(qū)域,其特征在于,該彩膜基板還包括附著增強層,所述附著增強層形成在所述顯示區(qū)域周邊的黑矩陣與所述基板之間。
      2.如權(quán)利要求I所述的彩膜基板,其特征在于,所述附著增強層與所述顯示區(qū)域的距離不小于O. 5mm。
      3.如權(quán)利要求I所述的彩膜基板,其特征在于,所述附著增強層的厚度不超過40nm。
      4.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述附著增強層的厚度為15 35nm。
      5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的彩膜基板,其特征在于,所述附著增強層為金屬、金屬合金、金屬氧化物以及類金屬材料中的一種或幾種的組合。
      6.如權(quán)利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述附著增強層為氧化銦錫材料。
      7.—種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求1-6任一項所述的彩膜基板。
      8.如權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,該顯示面板還包括陣列基板,所述陣列基板與所述彩膜基板之間形成有封框膠,所述封框膠形成在所述顯示區(qū)域周邊的黑矩陣上方。
      9.如權(quán)利要求8所述的顯示面板,其特征在于,所述附著增強層的寬度不小于所述封框膠的寬度。
      10.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求7-9任一項所述的顯示面板。
      專利摘要本實用新型公開了一種彩膜基板、顯示面板及顯示裝置,涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域。該彩膜基板包括基板、黑矩陣、以及彩色色阻,所述黑矩陣和彩色色阻均形成在所述基板上,所述彩膜基板包括顯示區(qū)域,該彩膜基板還包括附著增強層,所述附著增強層形成在所述顯示區(qū)域周邊的黑矩陣與所述基板之間。本實用新型提供的彩膜基板、顯示面板以及顯示裝置能夠避免出現(xiàn)黑矩陣與基板的剝離現(xiàn)象,進而提高產(chǎn)品的長期信賴性。
      文檔編號G02F1/1333GK202548487SQ20122020213
      公開日2012年11月21日 申請日期2012年5月7日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月7日
      發(fā)明者李賓, 陸相晚 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司
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