曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法
【專(zhuān)利摘要】一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法，其可改善曝光機(jī)曝光能量的均勻性，本發(fā)明主要利用處理單元及多個(gè)光能量感測(cè)單元，之后使曝光機(jī)的多個(gè)曝光裝置分別對(duì)這些光能量感測(cè)單元投光，并使處理單元記錄這些曝光裝置的投光能量，并計(jì)算出這些投光能量的最小值，接著使處理單元調(diào)整曝光機(jī)供電裝置的供電量，以使這些曝光裝置的投光能量的校正值相等且小于或等于該最小值。由此，本發(fā)明可改善曝光機(jī)曝光能量的均勻性進(jìn)而提升電路板的制造合格率。
【專(zhuān)利說(shuō)明】曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明關(guān)于一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法，尤指利用多個(gè)光能量感測(cè)單元校正的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前產(chǎn)業(yè)界制造電路板時(shí)普遍需利用到曝光機(jī)，一般來(lái)說(shuō)，曝光機(jī)可能會(huì)具有一個(gè)以上的曝光裝置，曝光機(jī)使用時(shí)先將感光電路板放置于曝光機(jī)的承載臺(tái)上，接著再使承載臺(tái)相對(duì)于曝光機(jī)的這些曝光裝置移動(dòng)，以使這些曝光裝置對(duì)感光電路板曝光。然而，這些曝光裝置內(nèi)的發(fā)光裝置由于其自身特性的不同(例如發(fā)光效率不同、使用時(shí)數(shù)不同等)而會(huì)造成這些曝光裝置的曝光能量不均，其會(huì)直接使得感光電路板吸收的光能不均，進(jìn)而造成當(dāng)下曝光的感光電路板報(bào)廢。
[0003]因此，如何發(fā)明出一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法，以使其可改善曝光機(jī)曝光能量的均勻性進(jìn)而提升電路板的制造合格率，將是本發(fā)明所欲積極揭露之處。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]有鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的缺憾，發(fā)明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克月艮，憑其從事該項(xiàng)產(chǎn)業(yè)多年的累積經(jīng)驗(yàn)，進(jìn)而研發(fā)出一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法，以期達(dá)到改善曝光機(jī)曝光能量的均勻性進(jìn)而提升電路板的制造合格率的目的。
[0005]為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法，該曝光機(jī)具有多個(gè)供電裝置、多個(gè)曝光裝置及一承載臺(tái)，這些供電裝置分別與這些曝光裝置電連接，該曝光機(jī)曝光能量的校正方法包含下列步驟:
[0006]A.提供一處理單元及多個(gè)光能量感測(cè)單元于該曝光機(jī)，這些供電裝置及這些光能量感測(cè)單元電連接該處理單元；
[0007]B.使這些曝光裝置分別與這些光能量感測(cè)單元相對(duì)，并使這些曝光裝置分別對(duì)這些光能量感測(cè)單元投光；
[0008]C.使該處理單元記錄這些曝光裝置的投光能量，并計(jì)算出這些投光能量的最小值；以及
[0009]D.使該處理單元調(diào)整這些供電裝置的供電量，以使這些曝光裝置的投光能量的校正值相等且小于或等于該最小值。
[0010]上述曝光機(jī)曝光能量的校正方法中，這些光能量感測(cè)單元設(shè)置于該承載臺(tái)。
[0011]上述曝光機(jī)曝光能量的校正方法中，這些光能量感測(cè)單元分別為紫外線傳感器。
[0012]本發(fā)明還提供一種曝光機(jī)的曝光方法，其應(yīng)用如上所述的曝光機(jī)曝光能量的校正方法，該曝光機(jī)的曝光方法還包含下列步驟:
[0013]E.放置一感光電路板于該曝光機(jī)的承載臺(tái)上；以及
[0014]F.使這些曝光裝置與該感光電路板相對(duì)，并使這些曝光裝置依照該校正值對(duì)該感光電路板曝光。
[0015]上述曝光機(jī)的曝光方法中，該步驟B及該步驟F中，這些曝光裝置與這些光能量感測(cè)單元之間的距離，與這些曝光裝置與該感光電路板之間的距離相等。
[0016]由此，本發(fā)明的曝光機(jī)曝光能量的校正方法及應(yīng)用其的曝光方法可提升曝光機(jī)曝光的準(zhǔn)確度進(jìn)而提升電路板的制造合格率。
【專(zhuān)利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例的示意圖。
[0018]圖2為本發(fā)明第二實(shí)施例的示意圖。
[0019]主要部件附圖標(biāo)記:
[0020]I處理單元
[0021]2光能量感測(cè)單元
[0022]3曝光機(jī)
[0023]31供電裝置
[0024]32曝光裝置
[0025]33承載臺(tái)
[0026]34L型固定框
[0027]4感光電路板
【具體實(shí)施方式】
[0028]為充分了解本發(fā)明的目的、特征及技術(shù)效果，茲由下述具體實(shí)施例，并結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明做詳細(xì)說(shuō)明，說(shuō)明如下:
[0029]圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例的示意圖，如圖所示，本發(fā)明的第一實(shí)施例為一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法，該曝光機(jī)3具有多個(gè)供電裝置31、多個(gè)曝光裝置32及一承載臺(tái)33，這些供電裝置31分別與這些曝光裝置32電連接，該承載臺(tái)33用以承載一感光電路板(圖未示)，這些曝光裝置32內(nèi)分別具有用以曝光于該感光電路板的曝光圖像(圖未示)，該曝光機(jī)曝光能量的校正方法包含下列步驟:
[0030]A.提供一處理單元I及多個(gè)光能量感測(cè)單元2于該曝光機(jī)3，這些供電裝置31及這些光能量感測(cè)單元2電連接該處理單元1，該處理單元I可獨(dú)立設(shè)置于該曝光機(jī)3的內(nèi)或外或可整合于該曝光機(jī)3的處理單元(圖未示)，該處理單元I可具有中央處理器(圖未示)、處理電路(圖未示)及內(nèi)存(圖未示)等，若該曝光機(jī)3的承載臺(tái)33可移動(dòng)，這些曝光裝置32無(wú)法移動(dòng)(以下稱(chēng)為第一機(jī)型)，則這些光能量感測(cè)單元2可裝設(shè)于該承載臺(tái)33的側(cè)邊，以使這些光能量感測(cè)單元2可隨該承載臺(tái)33移動(dòng)至這些曝光裝置32的下方，進(jìn)而分別感測(cè)這些曝光裝置32的投光能量；若該曝光機(jī)3的這些曝光裝置32可移動(dòng)，該承載臺(tái)33無(wú)法移動(dòng)(以下稱(chēng)為第二機(jī)型)，則這些光能量感測(cè)單元2可獨(dú)立設(shè)置于該曝光機(jī)3內(nèi)或可裝設(shè)于該承載臺(tái)33的側(cè)邊，以使這些曝光裝置32可移動(dòng)至這些光能量感測(cè)單元2的上方，進(jìn)而分別感測(cè)這些曝光裝置32的投光能量；
[0031]B.使這些曝光裝置32分別與這些光能量感測(cè)單元2相對(duì)，并使這些曝光裝置32分別對(duì)這些光能量感測(cè)單元2投光，若該曝光機(jī)3為第一機(jī)型，則這些光能量感測(cè)單元2隨該承載臺(tái)33移動(dòng)至這些曝光裝置32的下方，以使這些曝光裝置32分別與這些光能量感測(cè)單元2相對(duì)，若該曝光機(jī)3為第二機(jī)型，則這些曝光裝置32移動(dòng)至這些光能量感測(cè)單元2的上方，以使這些曝光裝置32分別與這些光能量感測(cè)單元2相對(duì)；
[0032]C.使該處理單元I記錄這些曝光裝置32的投光能量，并計(jì)算出這些投光能量的最小值，由于這些曝光裝置32的使用時(shí)數(shù)不同或發(fā)光效率不同，因此這些曝光裝置32在相同的供電量下投光能量可能亦不相同，該處理單元I可借由內(nèi)存記錄這些光能量感測(cè)單元2所感測(cè)到的這些曝光裝置32的投光能量，之后再借由中央處理器及處理電路比較出這些投光能量的最小值，接著再將這些投光能量的最小值儲(chǔ)存至內(nèi)存；以及
[0033]D.使該處理單元I調(diào)整這些供電裝置31的供電量，以使這些曝光裝置32的投光能量的校正值相等且小于或等于該最小值，該處理單元I對(duì)于投光能量不同的曝光裝置32可調(diào)整其供電裝置31的供電量，之后再使這些曝光裝置32分別對(duì)這些光能量感測(cè)單元2投光，以檢測(cè)這些曝光裝置32的投光能量的校正值是否相等，若部分曝光裝置32的投光能量仍不同時(shí)，該處理單元I則再調(diào)整供電裝置31的供電量，直到這些曝光裝置32的投光能量的校正值相等且小于或等于這些投光能量的最小值；另外，若該曝光裝置32無(wú)法達(dá)到該感光電路板的需求能量時(shí)，則該曝光裝置32應(yīng)予以更換，以確保該感光電路板可以感光。
[0034]借由上述方法可改善曝光機(jī)的這些曝光裝置曝光能量的均勻性。
[0035]上述曝光機(jī)曝光能量的校正方法中，這些光能量感測(cè)單元2分別為紫外線傳感器，另外，這些光能量感測(cè)單元2亦可為其他可感測(cè)這些曝光裝置32光源能量的傳感器。
[0036]圖2為本發(fā)明第二實(shí)施例的示意圖，如圖所示，本發(fā)明的第二實(shí)施例為一種曝光機(jī)的曝光方法，其應(yīng)用如第一實(shí)施例所述的曝光機(jī)曝光能量的校正方法，該曝光機(jī)的曝光方法還包含下列步驟:
[0037]E.放置一感光電路板4于該曝光機(jī)3的承載臺(tái)33上，該感光電路板4可借由該承載臺(tái)33上的L型固定框34固定于該承載臺(tái)33上，另外，該感光電路板4亦可借由其他的固定器具固定于該承載臺(tái)33上；以及
[0038]F.使這些曝光裝置32與該感光電路板4相對(duì)，并使這些曝光裝置32依照該校正值對(duì)該感光電路板4曝光，若該曝光機(jī)3為第一機(jī)型，則該感光電路板4隨該承載臺(tái)33移動(dòng)至這些曝光裝置32的下方，以使這些曝光裝置32依照該校正值對(duì)該感光電路板4曝光，若該曝光機(jī)3為第二機(jī)型，則這些曝光裝置32移動(dòng)至該感光電路板4的上方，以使這些曝光裝置32依照該校正值對(duì)該感光電路板4曝光。
[0039]借由上述方法可改善曝光機(jī)的這些曝光裝置曝光能量的均勻性進(jìn)而提升電路板的制造合格率。
[0040]上述曝光機(jī)的曝光方法中，該步驟B及該步驟F中，這些曝光裝置32與這些光能量感測(cè)單元2之間的距離，與這些曝光裝置32與該感光電路板4之間的距離相等，以使這些曝光裝置32曝光于該感光電路板4的曝光能量的值不會(huì)受到距離的影響而即為該校正值。
[0041 ] 本發(fā)明在上文中已以較佳實(shí)施例揭露，然而本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解的是，該實(shí)施例僅用于描繪本發(fā)明，而不應(yīng)解讀為限制本發(fā)明的范圍。應(yīng)注意的是，凡是與該實(shí)施例等效的變化與置換，均應(yīng)視為涵蓋于本發(fā)明的范疇內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書(shū)所限定的內(nèi)容為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光機(jī)曝光能量的校正方法，其特征在于，該曝光機(jī)具有多個(gè)供電裝置、多個(gè)曝光裝置及一承載臺(tái)，這些供電裝置分別與這些曝光裝置電連接，該曝光機(jī)曝光能量的校正方法包含下列步驟: A.提供一處理單元及多個(gè)光能量感測(cè)單元于該曝光機(jī)，這些供電裝置及這些光能量感測(cè)單元電連接該處理單元； B.使這些曝光裝置分別與這些光能量感測(cè)單元相對(duì)，并使這些曝光裝置分別對(duì)這些光能量感測(cè)單元投光； C.使該處理單元記錄這些曝光裝置的投光能量，并計(jì)算出這些投光能量的最小值；以及 D.使該處理單元調(diào)整這些供電裝置的供電量，以使這些曝光裝置的投光能量的校正值相等且小于或等于該最小值。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)曝光能量的校正方法，其特征在于，這些光能量感測(cè)單元設(shè)置于該承載臺(tái)。
3.如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)曝光能量的校正方法，其特征在于，這些光能量感測(cè)單元分別為紫外線傳感器。
4.一種曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，應(yīng)用如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的曝光機(jī)曝光能量的校正方法，該曝光機(jī)的曝光方法還包含下列步驟: E.放置一感光電路板于該曝光機(jī)的承載臺(tái)上；以及 F.使這些曝光裝置與該感光電路板相對(duì)，并使這些曝光裝置依照該校正值對(duì)該感光電路板曝光。
5.如權(quán)利要求4所述的曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，該步驟B及該步驟F中，這些曝光裝置與這些光能量感測(cè)單元之間的距離，與這些曝光裝置與該感光電路板之間的距離相等。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK104166314SQ201310184852
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2013年5月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月17日
【發(fā)明者】張鴻明 申請(qǐng)人:川寶科技股份有限公司