平版印刷版用支撐體及其制造方法、以及平版印刷版原版的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的在于提供能夠得到制成平版印刷版時(shí)耐刷性優(yōu)異、且顯示優(yōu)異的機(jī)上顯影性的平版印刷版用原版的耐劃傷性優(yōu)異的平版印刷版用支撐體。本發(fā)明的平版印刷版用支撐體為具備鋁板和其上的鋁的陽極氧化皮膜、且在陽極氧化皮膜中具有從與鋁板相反側(cè)的表面向深度方向延伸的微孔的平版印刷版用支撐體，微孔由從陽極氧化皮膜表面延伸至平均深度為75～120nm(深度A)的位置的大直徑孔部、和與大直徑孔部的底部連通且從連通位置延伸至平均深度為900～2000nm的位置的小直徑孔部構(gòu)成，大直徑孔部的陽極氧化皮膜表面中的平均直徑為10nm以上且低于30nm，平均直徑與深度A滿足(深度A/平均直徑、)＝超過4.0且為12.0以下的關(guān)系，小直徑孔部的該連通位置的平均直徑大于0且低于10nm。
【專利說明】平版印刷版用支撐體及其制造方法、以及平版印刷版原版

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及平版印刷版用支撐體及其制造方法、以及平版印刷版原版。

【背景技術(shù)】
[0002] 平版印刷法是利用水與油本質(zhì)上互不混合的印刷方式，在其中使用的平版印刷版 的印刷版面中形成接受水而排斥油性墨液的區(qū)域（以下，將該區(qū)域稱為"非圖像部"。）和 排斥水而接受油性墨液的區(qū)域（以下，將該區(qū)域稱為"圖像部"。）。
[0003] 平版印刷版中使用的平版印刷版用鋁支撐體（以下，簡稱為"平版印刷版用支撐 體"。）由于以其表面承擔(dān)非圖像部的方式使用，所以要求親水性及保水性優(yōu)異、進(jìn)而與設(shè) 置于其上的圖像記錄層的粘附性優(yōu)異等相反的各種性能。若支撐體的親水性過低，則在印 刷時(shí)墨液變得附著于非圖像部，導(dǎo)致橡皮轉(zhuǎn)筒（blanket cylinder)污染，甚至產(chǎn)生所謂的 糊版（scumming)。此外，若支撐體的保水性過低，則在印刷時(shí)潤版液不多時(shí)，暗調(diào)部產(chǎn)生堵 塞。因而，所謂的水裕度（water allowance)變窄。
[0004] 為了得到這些性能良好的平版印刷版用支撐體，進(jìn)行了各種研究。例如，專利文獻(xiàn) 1中公開了一種制造平版印刷版用支撐體的方法，在對經(jīng)粗面化的鋁板的表面進(jìn)行陽極氧 化處理作為第一階段后，實(shí)施擴(kuò)孔處理，進(jìn)一步在與第一階段的陽極氧化皮膜的微孔相比 孔徑變小的條件下再次進(jìn)行陽極氧化處理，由此制造。記載了使用該平版印刷版用支撐體 得到的平版印刷版的耐刷性及機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開2011-245844號公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 發(fā)明所要解決的課題
[0009] 另一方面，近年來，隨著對印刷技術(shù)的要求性能的提高，關(guān)于使用平版印刷版用支 撐體所得到的平版印刷版及平版印刷用原版的諸性能（特別是耐刷性及機(jī)上顯影性）要求 更嚴(yán)格的性能。另外，通常，機(jī)上顯影性與耐刷性存在平衡的關(guān)系，提高這兩者的性能是困 難的。
[0010] 本發(fā)明人等對使用專利文獻(xiàn)1中具體記載的平版印刷版用支撐體所得到的平版 印刷版及平版印刷用原版的諸性能進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，機(jī)上顯影性及耐刷性的特性雖 然滿足以往的寬松的要求特性，但是不滿足現(xiàn)狀所要求的特性，實(shí)用上不一定能夠令人滿 〇
[0011] 因此，本發(fā)明鑒于上述實(shí)情，其目的在于提供能夠得到制成平版印刷版時(shí)耐刷性 優(yōu)異、且顯示優(yōu)異的機(jī)上顯影性的平版印刷版用原版的、耐劃傷性優(yōu)異的平版印刷版用支 撐體、平版印刷版用支撐體的制造方法、及平版印刷版原版。
[0012] 用于解決課題的方案
[0013] 本發(fā)明人等為了達(dá)成上述目的進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過控制陽極氧化皮 膜中的微孔的形狀（特別是大直徑孔部的形狀），能夠解決上述課題。
[0014] 即本發(fā)明提供以下的⑴?（9)。
[0015] (1) 一種平版印刷版用支撐體，其是具備鋁板和在該鋁板上的鋁的陽極氧化皮膜、 且在陽極氧化皮膜中具有從與鋁板相反側(cè)的表面向深度方向延伸的微孔的平版印刷版用 支撐體，
[0016] 微孔具有從陽極氧化皮膜表面延伸至平均深度為75?120nm(深度A)的位置的 大直徑孔部、和與大直徑孔部的底部連通且從連通位置延伸至平均深度為900?2000nm的 位置的小直徑孔部，
[0017] 大直徑孔部的陽極氧化皮膜表面中的平均直徑為IOnm以上且低于30nm，大直徑 孔部的平均直徑與深度A滿足（深度A/平均直徑）=超過4. 0且為12. 0以下的關(guān)系，
[0018] 小直徑孔部的連通位置的平均直徑為大于0且低于10. Onm。
[0019] ⑵根據(jù)⑴所述的平版印刷板用支撐體，其中，小直徑孔部具有平均深度不同的 第一小直徑孔部和第二小直徑孔部，
[0020] 第一小直徑孔部的平均深度比第二小直徑孔部的平均深度深，
[0021] 從第一小直徑孔部的底部至鋁板表面為止的陽極氧化皮膜的平均厚度為17nm以 上，最小厚度為15nm以上。
[0022] (3)根據(jù)⑴或⑵所述的平版印刷版板用支撐體，其中，第一小直徑孔部的密度 為 550 ?700 個/μ m2。
[0023] (4)根據(jù)（1)?（3)中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體，其中，第一小直徑孔部 的平均深度與第二小直徑孔部的平均深度的差為75?200nm。
[0024] (5)根據(jù)⑴?⑷中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體，其中，大直徑孔部的直 徑從陽極氧化皮膜表面向鋁板側(cè)逐漸增加，與大直徑孔部的陽極氧化皮膜表面中的平均直 徑（表層平均直徑）相比連通位置的大直徑孔部的平均直徑（底部平均直徑）大，底部平 均直徑超過IOnm且為60nm以下，底部平均直徑與深度A的比（深度A/底部平均直徑）為 1. 2以上且低于12. 0。
[0025] (6)根據(jù)（5)所述的平版印刷版用支撐體，其中，大直徑孔部的下述式㈧所示的 表面積增加倍率為1. 9?16. 0。
[0026] 式㈧：（表面積增加倍率）=1+孔密度X ((π X (表層平均直徑/2+底部平 均直徑/2) X ((底部平均直徑/2-表層平均直徑/2)2+深度A2)1/2+ π X (底部平均直徑 /2)2_π Χ(表層平均直徑/2)2))
[0027] (7)根據(jù)⑴?（6)中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體，其中，大直徑孔部的陽 極氧化皮膜表面中的平均直徑與小直徑孔部的連通位置的平均直徑的比（大直徑孔部的 平均直徑/小直徑孔部的平均直徑）超過1. 〇〇且為1. 50以下。
[0028] (8) -種平版印刷版原版，其特征在于，在⑴?（7)中任一項(xiàng)所述的平版印刷版 用支撐體上具有圖像記錄層。
[0029] (9) -種平版印刷版用支撐體的制造方法，其為制造（1)?（7)中任一項(xiàng)所述的平 版印刷版用支撐體的方法，其具備以下工序：對鋁板進(jìn)行陽極氧化的第一陽極氧化處理工 序；
[0030] 將第一陽極氧化處理工序中所得到的具有陽極氧化皮膜的鋁板進(jìn)一步進(jìn)行陽極 氧化的第二陽極氧化處理工序。
[0031] 發(fā)明效果
[0032] 根據(jù)本發(fā)明，能夠提供能夠得到在制成平版印刷版時(shí)耐刷性優(yōu)異、且顯示優(yōu)異的 機(jī)上顯影性的平版印刷版用原版的、耐劃傷性優(yōu)異的平版印刷版用支撐體、平版印刷版用 支撐體的制造方法、及平版印刷版原版。另外，使用了本發(fā)明中所得到的平版印刷版用支撐 體的平版印刷版關(guān)于暫停印刷的脫墨能力及脫墨能力也顯示與現(xiàn)有技術(shù)同等程度的特性。 此外，本發(fā)明中所得到的平版印刷版用支撐體還顯示優(yōu)異的耐劃傷性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0033] 圖1為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的一實(shí)施方式的示意性剖面圖。
[0034] 圖2為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的一實(shí)施方式的其他方式的示意性剖面圖。
[0035] 圖3為按工序順序示出本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法的基板及陽極 氧化皮膜的示意性剖面圖。
[0036] 圖4為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的電化學(xué)粗面化處理中 使用的交變波形電流波形圖的一例的圖表。
[0037] 圖5為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的使用了交流電的電化 學(xué)粗面化處理中的徑向型池 （radial cell)的一例的側(cè)視圖。
[0038] 圖6為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制作中的機(jī)械粗面化處理中使用的 刷拭磨版（brush graining)的工序的概念的側(cè)視圖。
[0039] 圖7為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制作中的陽極氧化處理中使用的陽極氧 化處理裝置的簡圖。
[0040] 圖8為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的合適實(shí)施方式的示意性剖面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0041] 以下，對本發(fā)明的平版印刷版用支撐體及其制造方法進(jìn)行說明。
[0042] 本發(fā)明的平版印刷版用支撐體具備鋁板和形成于其上的陽極氧化皮膜，陽極氧 化皮膜中的微孔具有平均直徑大的大直徑孔部和平均直徑小的小直徑孔部沿著深度方向 (皮膜的厚度方向）連結(jié)而構(gòu)成的形狀。特別是在本發(fā)明中，通過控制微孔中的平均直徑大 的大直徑孔部的平均直徑和平均深度，能夠以更高的水平兼顧被指出平衡的關(guān)系的機(jī)上顯 影性與耐刷性的關(guān)系。
[0043] 圖1㈧為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的一實(shí)施方式的示意性剖面圖。
[0044] 該圖中所示的平版印刷版用支撐體10具有將鋁板12和鋁的陽極氧化皮膜14 (以 后，也簡稱為陽極氧化皮膜）按順序?qū)盈B而成的層疊結(jié)構(gòu)。陽極氧化皮膜14具有從其表面 向著鋁板12側(cè)延伸的微孔16,微孔16具有大直徑孔部18和小直徑孔部20。另外，這里所 謂的微孔的用語為表示陽極氧化皮膜中的孔的通常使用的用語，并非規(guī)定孔的尺寸。
[0045] 首先，對鋁板12及陽極氧化皮膜14進(jìn)行詳細(xì)敘述。
[0046]〈鋁板〉
[0047] 本發(fā)明中使用的鋁板12(鋁支撐體）為尺寸穩(wěn)定的以鋁為主要成分的金屬，包含 鋁或鋁合金。除了純鋁板以外，還可以從以鋁為主要成分、且包含微量的異元素的合金板、 或鋁（合金）被層壓或蒸鍍而成的塑料薄膜或紙中選擇。進(jìn)而，也可以是如日本特公昭 48-18327號公報(bào)中記載的那樣的在聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜上結(jié)合鋁片而成的復(fù)合體 片。
[0048] 在以下的說明中，將由上述列舉的鋁或鋁合金構(gòu)成的板總稱為鋁板12。鋁合金中 包含的異元素有硅、鐵、錳、銅、鎂、鉻、鋅、鉍、鎳、鈦等，合金中的異元素的含量為10質(zhì)量％ 以下。本發(fā)明中優(yōu)選純鋁板，但由于完全純粹的鋁在冶煉技術(shù)上制造困難，所以也可以是稍 微含有異元素的鋁板。像這樣應(yīng)用于本發(fā)明的鋁板12,其組成并不是特定的，可以適當(dāng)利 用以往公知公用的原材料的鋁板、例如JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005 等。
[0049] 此外，本發(fā)明中使用的鋁板12通常邊以網(wǎng)狀連續(xù)移動邊進(jìn)行處理，其寬度為 400mm?2000mm左右，厚度約為0. Imm?0. 6mm左右。該寬度或厚度可以根據(jù)印刷機(jī)的大 小、印刷版的大小及用戶的希望適當(dāng)變更。
[0050] 可以對鋁板適當(dāng)實(shí)施后述的基板表面處理。
[0051] 〈陽極氧化皮膜〉
[0052] 陽極氧化皮膜14是指通常通過陽極氧化處理而制作于鋁板12的表面的、具有與 皮膜表面大致垂直且各自均勻分布的極微細(xì)的微孔16的陽極氧化鋁皮膜（氧化鋁皮膜）。 該微孔16從與鋁板12相反側(cè)的陽極氧化皮膜表面沿厚度方向（鋁板12側(cè)）延伸。
[0053] 陽極氧化皮膜14中的微孔16具有從陽極氧化皮膜表面延伸至平均深度為75? 120nm(深度A :參照圖1)的位置的大直徑孔部18、和與該大直徑孔部18的底部連通且從 連通位置（連通位置Y :參照圖1)進(jìn)一步延伸至平均深度為900?2000nm的位置的小直 徑孔部20。
[0054] 以下，對大直徑孔部18和小直徑孔部20進(jìn)行詳細(xì)敘述。
[0055] (大直徑孔部）
[0056] 大直徑孔部18的陽極氧化皮膜14表面中的平均直徑（平均開口直徑）為平均直 徑IOnm以上且低于30nm。若為該范圍，則可達(dá)成使用平版印刷版用支撐體而得到的平版 印刷版的優(yōu)異的耐刷性、及使用支撐體而得到的平版印刷版原版的優(yōu)異的耐刷性、機(jī)上顯 影性、脫墨能力、暫停印刷的脫墨能力。其中，從耐刷性更優(yōu)異的方面出發(fā)，平均直徑優(yōu)選為 10?25nm，更優(yōu)選為11?15nm，進(jìn)一步優(yōu)選為11?13nm。
[0057] 在平均直徑低于IOnm的情況下，得不到充分的錨固效果，且得不到平版印刷版的 耐刷性的提高。此外，在平均直徑為30nm以上的情況下，會破壞粗面化的?；?，得不到耐 刷性的性能的提高。
[0058] 大直徑孔部18的平均直徑為用倍率為15萬倍的FE-SEM觀察N = 4張陽極氧化 皮膜14表面，在所得到的4張圖像中，測定存在于400X600nm2的范圍的微孔（大直徑孔 部）的直徑（直徑）并平均而得到的值。
[0059] 另外，大直徑孔部18的形狀不是圓狀的情況下，使用圓當(dāng)量直徑。所謂"圓當(dāng)量直 徑"是指將開口部的形狀假想為具有與開口部的投影面積相同的投影面積的圓時(shí)的該圓的 直徑。
[0060] 大直徑孔部18的底部位于距陽極氧化皮膜表面的平均深度為75?120nm(以后， 也稱為深度A)。即，大直徑孔部18為從陽極氧化皮膜表面向深度方向（厚度方向）延伸 75?120nm的孔部。若為該范圍，則可達(dá)成使用平版印刷版用支撐體所得到的平版印刷版 的優(yōu)異的耐刷性、及使用支撐體所得到的平版印刷版原版的優(yōu)異的機(jī)上顯影性。其中，從耐 刷性及機(jī)上顯影性更優(yōu)異的方面出發(fā)，深度A優(yōu)選為85?IIOnm,更優(yōu)選為85?105nm。
[0061] 在平均深度低于75nm的情況下，得不到充分的錨固效果，且平版印刷版的耐刷性 差。在平均深度超過120nm的情況下，平版印刷版原版的機(jī)上顯影性差。
[0062] 另外，上述平均深度為用倍率50萬倍的FE-TEM觀察陽極氧化皮膜的剖面的從皮 膜上部到連通位置為止的距離，測定60個（N = 60)微孔（大直徑孔部）的深度，并將它們 平均而得到的值。另外，陽極氧化皮膜的剖面的測定方法可以應(yīng)用公知的方法（例如，對 陽極氧化皮膜進(jìn)行FIB切削加工，制作薄膜（約為50nm)，進(jìn)行陽極氧化皮膜14剖面的測 定。）。
[0063] 大直徑孔部18的平均直徑與位于其底部的深度A的關(guān)系（深度A/平均直徑）滿 足超過4. 0且12. 0以下的關(guān)系。若為該范圍，則可達(dá)成使用平版印刷版用支撐體所得到 的平版印刷版的優(yōu)異的耐刷性、及使用支撐體所得到的平版印刷版原版的優(yōu)異的機(jī)上顯影 性。其中，從耐刷性及機(jī)上顯影性更優(yōu)異的方面出發(fā)，（深度A/平均直徑）優(yōu)選為5.6? 10. 〇,更優(yōu)選為6. 5?9. 6。
[0064] 在（深度A/平均直徑）為4. 0以下的情況下，平版印刷版的脫墨能力和平版印刷 版原版的機(jī)上顯影性差。在（深度A/平均直徑）超過12.0的情況下，平版印刷版的耐刷 性差。
[0065] 大直徑孔部18的形狀沒有特別限定，可列舉出大致直管狀（大致圓柱狀）、直徑從 陽極氧化皮膜表面向著鋁板12側(cè)變小的倒圓錐狀（錐狀）、直徑從陽極氧化皮膜表面向著 鋁板12側(cè)變大的大致圓錐狀（倒錐狀）等。優(yōu)選為大致直管狀或倒錐狀。
[0066] 在大直徑孔部18為大致直管狀的情況下，大直徑孔部18的內(nèi)徑與陽極氧化皮膜 16表面上的開口直徑相比，也可以具有1?5nm左右的差。
[0067] 將大直徑孔部18a為直徑從陽極氧化皮膜14表面向著鋁板12側(cè)變大的大致圓錐 狀（倒錐狀）的情況示于圖2中。
[0068] 平版印刷版用支撐體100中的大直徑孔部18a的直徑（內(nèi)徑）從陽極氧化皮膜14 表面向著鋁板12側(cè)逐漸增大。大直徑孔部18a的形狀只要滿足上述直徑的條件則沒有特 別限制，但為大致圓錐狀、大致吊鐘狀。通過大直徑孔部采取上述結(jié)構(gòu)，從而平版印刷版的 耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、脫墨能力等諸特性優(yōu)異。
[0069] 圖2中，大直徑孔部18a的陽極氧化皮膜14表面中的平均直徑（表層平均直徑） 小于大直徑孔部18a的與小直徑孔部20的連通位置Y的平均直徑（底部平均直徑）。底部 平均直徑的大小沒有特別限制，但優(yōu)選為超過IOnm且60nm以下，優(yōu)選為20?30nm。若為 該范圍內(nèi)，則平版印刷版的暫停印刷的脫墨能力、脫墨能力、機(jī)上顯影性等諸特性優(yōu)異。
[0070] 此外，底部平均直徑與深度A的比（深度A/底部平均直徑）沒有特別限制，但優(yōu) 選為1. 2以上且低于12. 0,更優(yōu)選為2. 5?6. 0。若為該范圍內(nèi)，則平版印刷版的耐刷性、 暫停印刷的脫墨能力、脫墨能力等諸特性優(yōu)異。
[0071] 另外，底部平均直徑的測定方法是以倍率50萬倍的FE-TEM觀察陽極氧化皮膜14 的剖面，測定60個（N = 60)大直徑孔部18a的連通位置Y的直徑（直徑），將它們平均而 得到的值。另外，陽極氧化皮膜的剖面的測定方法可以應(yīng)用公知的方法。例如，對陽極氧化 皮膜14進(jìn)行FIB切削加工，制作薄膜（約為50nm)，進(jìn)行陽極氧化皮膜14的剖面的測定。
[0072] 圖2中的大直徑孔部18a優(yōu)選以下式（A)表示的表面積增加倍率為1. 9?16. 0， 更優(yōu)選為2. 1?11. 7。若為該范圍內(nèi)，則平版印刷版的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、脫墨 能力或機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0073] 式㈧：（表面積增加倍率）=1+孔密度X ((X (表層平均直徑/2+底部平 均直徑/2) X ((底部平均直徑/2-表層平均直徑/2)2+深度A2)1/2+ π X (底部平均直徑 /2)2-π Χ(表層平均直徑/2)2))
[0074] 上述式（A)中，首先，觀察陽極氧化皮膜的表面的1 μ mX 1 μ m的面積，通過在該面 積內(nèi)形成大直徑孔部，顯示表面積以怎樣的程度增加。更具體而言，上述式（A)中的"1"表 示陽極氧化皮膜的表面的1 μ mX 1 μ m的面積。式（A)的" π X (表層平均直徑/2+底部平 均直徑/2) X ((底部平均直徑/2-表層平均直徑/2)2+深度A2)1/2"表示大直徑孔部的側(cè)面 的表面積，" η X (底部平均直徑/2)2"表示大直徑孔部的底面的面積，" π X (表層平均直 徑/2)2"表示大直徑孔部的陽極氧化皮膜表面的開口部的面積。
[0075] 此外，大直徑孔部18的底部的形狀沒有特別限定，可以是曲面狀（凸?fàn)睿部梢?是平面狀。
[0076] (小直徑孔部）
[0077] 小直徑孔部20如圖1所示的那樣為與大直徑孔部18的底部連通、且從連通位置Y 進(jìn)一步向深度方向（厚度方向）延伸的孔部。一個小直徑孔部20通常與一個大直徑孔部 18連通，但2個以上的小直徑孔部20也可以與一個大直徑孔部18的底部連通。
[0078] 小直徑孔部20的連通位置的平均直徑大于0且低于10. Onm。其中，從機(jī)上顯影性、 脫墨能力、或暫停印刷的脫墨能力更優(yōu)異的方面出發(fā)，平均直徑優(yōu)選為9. 5nm以下，更優(yōu)選 為9. Onm以下。
[0079] 在平均直徑為10. Onm以上的情況下，使用了本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的平 版印刷版的耐刷性、平版印刷版原版的機(jī)上顯影性差。
[0080] 小直徑孔部20的平均直徑為用倍率為15萬倍的FE-SEM觀察N = 4張陽極氧化 皮膜14表面，在所得到的4張圖像中，測定存在于400X600nm2的范圍內(nèi)的微孔（小直徑 孔部）的直徑（直徑）并平均而得到的值。另外，在大直徑孔部的深度深的情況下，也可以 根據(jù)需要，對陽極氧化皮膜14上部（有大直徑孔部的區(qū)域）進(jìn)行切削（例如，利用氬氣進(jìn) 行切削），之后，用上述FE-SEM觀察陽極氧化皮膜14表面，求出小直徑孔部的平均直徑。
[0081] 另外，在小直徑孔部20的形狀不是圓狀的情況下，使用圓當(dāng)量直徑。所謂"圓當(dāng)量 直徑"是指將開口部的形狀假想為具有與開口部的投影面積相同的投影面積的圓時(shí)的該圓 的直徑。
[0082] 小直徑孔部20的底部位于從與上述的大直徑孔部18的連通位置（相當(dāng)于上述的 深度A)進(jìn)一步向深度方向延伸900?2000nm的部位。換句話說，小直徑孔部20為從與上 述大直徑孔部18的連通位置進(jìn)一步向深度方向（厚度方向）延伸的孔部，小直徑孔部20 的平均深度為900?2000nm。從平版印刷版用支撐體的耐劃傷性的觀點(diǎn)出發(fā)，底部優(yōu)選位 于從連通位置延伸900?1500nm的部位。
[0083] 在平均深度低于900nm的情況下，平版印刷版用支撐體的耐劃傷性差。在平均深 度超過2000nm的情況下，處理時(shí)間長期化，生產(chǎn)率及經(jīng)濟(jì)性差。
[0084] 另外，上述平均深度為拍攝用FE-SEM觀察陽極氧化皮膜14的剖面而得到的照片 (5萬倍），測定25個以上的小直徑孔部的深度并平均而得到的值。
[0085] 小直徑孔部20的連通位置的平均直徑與大直徑孔部18的陽極氧化皮膜表面中的 平均直徑的比（大直徑孔部直徑/小直徑孔部直徑）沒有特別限制，但優(yōu)選為超過1.00且 1. 50以下，更優(yōu)選為1. 10?1. 40,進(jìn)一步優(yōu)選為1. 10?1. 30。若為上述范圍內(nèi)，則平版印 刷版的耐刷性或機(jī)上顯影性更優(yōu)異。
[0086] 連通位置Y中的陽極氧化皮膜14剖面中的小直徑孔部20的密度沒有特別限制， 但優(yōu)選為100?5000個/μ m2,更優(yōu)選為600?1200個/μ m2。若為該范圍內(nèi)，則平版印刷 版的機(jī)上顯影性、脫墨能力、或暫停印刷的脫墨能力更加提高。
[0087] 小直徑孔部20的形狀沒有特別限定，可列舉出大致直管狀（大致圓柱狀）、直徑向 著深度方向變小的圓錐狀等，優(yōu)選為大致直管狀。此外，小直徑孔部20也可以是從連通位 置Y向著鋁板12方向邊分支邊延伸的孔。
[0088] 此外，小直徑孔部20的底部的形狀沒有特別限定，可以是曲面狀（凸?fàn)睿部梢?是平面狀。
[0089] 小直徑孔部20的內(nèi)徑?jīng)]有特別限制，但通常為與連通位置的直徑相同程度的大 小、或可以比該直徑小也可以比該直徑大。另外，小直徑孔部20的內(nèi)徑通常與開口部的直 徑相比也可以具有1?IOnm左右的差。
[0090] 從小直徑孔部20的底部至鋁板12表面為止的陽極氧化皮膜的厚度（圖I (A)中， 相當(dāng)于厚度X)沒有特別限制，但優(yōu)選為7?50nm，更優(yōu)選為20?30nm。位于厚度X的陽 極氧化皮膜部分有時(shí)也稱為阻擋層。若厚度X為上述范圍，則微小泡污染性更優(yōu)異。
[0091] 上述厚度X的數(shù)值為平均值，為測定50處以上的從小直徑孔部20的底部至鋁板 12表面為止的陽極氧化皮膜的厚度，將它們算術(shù)平均而得到的值。
[0092] 作為上述的陽極氧化皮膜的適合方式之一，可列舉出以下的圖8中所示的方式。 圖8中，平版印刷版用支撐體110具有將鋁板12和鋁的陽極氧化皮膜140依次層疊而成的 層疊結(jié)構(gòu)。陽極氧化皮膜140具有從其表面向鋁板12側(cè)延伸的微孔160,微孔160具有大 直徑孔部180和小直徑孔部200。
[0093] 大直徑孔部180的形狀為上述圖2中說明的直徑從陽極氧化皮膜14表面向著鋁 板12側(cè)變大的大致圓錐狀（倒錐狀）。大直徑孔部180的表層平均直徑、底部平均直徑、t匕 (深度A/底部平均直徑）及表面積增加倍率等各種范圍如上所述。
[0094] 小直徑孔部200為與大直徑孔部180的底部連通、且從連通位置Y進(jìn)一步向深度 方向（厚度方向）延伸的孔部。圖8中，由一個大直徑孔部180連通兩個小直徑孔部200， 但并不限定于該方式，可以是由一個大直徑孔部180連通一個小直徑孔部200,也可以是由 一個大直徑孔部180連通兩個以上的小直徑孔部200。
[0095] 小直徑孔部200的連通位置的平均直徑與上述小直徑孔部20的平均直徑含義相 同，適合范圍也相同。
[0096] 小直徑孔部200的平均深度與上述小直徑孔部20的平均深度含義相同，適合范圍 也相同。
[0097] 小直徑孔部200的連通位置的平均直徑與大直徑孔部180的陽極氧化皮膜表面中 的平均直徑的比（大直徑孔部直徑/小直徑孔部直徑）與小直徑孔部20的連通位置的平 均直徑與大直徑孔部18的陽極氧化皮膜表面中的平均直徑的比（大直徑孔部直徑/小直 徑孔部直徑）含義相同，適合范圍也相同。
[0098] 小直徑孔部200包含平均深度不同的第一小直徑孔部210和第二小直徑孔部220。
[0099] 第一小直徑孔部210的平均深度比第二小直徑孔部220的平均深度深。即，第一 小直徑孔部210的底部與第二小直徑孔部220的底部相比位于更接近鋁板12偵k
[0100] 另外，第一小直徑孔部210和第二小直徑孔部220的平均深度的計(jì)算方法如下所 述。首先，選擇小直徑孔部中最短的小直徑孔部（以后，稱為最小小直徑孔部）和最長的小 直徑孔部（以后，稱為最大小直徑孔部），一個小直徑孔部的底部的位置接近最小小直徑孔 部的底部的位置的情況下作為第二小直徑孔部選擇，一個小直徑孔部的底部的位置接近最 大小直徑孔部的底部的位置的情況下作為第一小直徑孔部選擇。一個小直徑孔部的底部的 位置位于最小小直徑孔部的底部的位置與最大小直徑孔部的底部的位置的中間的情況下， 作為第一小直徑孔部選擇。測定至少25個上述作為第一小直徑孔部選擇的小直徑孔部的 深度，將它們算術(shù)平均來測定第一小直徑孔部的平均深度。此外，測定至少25個上述作為 第二小直徑孔部選擇的小直徑孔部的深度，將它們算術(shù)平均來測定第二小直徑孔部的平均 深度。
[0101] 第一小直徑孔部210的平均深度與第二小直徑孔部220的平均深度的差沒有特別 限制，但從耐泡狀污染性更優(yōu)異的方面出發(fā)，優(yōu)選為75?200nm，更優(yōu)選為100?200nm。
[0102] 連通位置Y中的陽極氧化皮膜140剖面中的小直徑孔部200的密度沒有特別限 制，但優(yōu)選為100?5000個/μ m2,更優(yōu)選為600?1200個/μ m2。若為該范圍內(nèi)，則平版 印刷版的機(jī)上顯影性、脫墨能力、或暫停印刷的脫墨能力更加提高。
[0103] 第一小直徑孔部210的密度沒有特別限制，但從耐泡狀污染性更優(yōu)異的方面出 發(fā)，優(yōu)選為550?700個/ μ m2,更優(yōu)選為550?650個/ μ m2。
[0104] 從第一小直徑孔部210的底部至鋁板12表面為止的陽極氧化皮膜的平均厚度X 沒有特別限制，但從耐泡狀污染性更優(yōu)異的方面出發(fā)，優(yōu)選為17nm以上，更優(yōu)選為ISnm以 上。上限沒有特別限制，但通常30nm以下的情況多。
[0105] 另外，上述平均厚度為測定50處以上的從第一小直徑孔部210的底部至鋁板12 表面為止的陽極氧化皮膜的厚度，將它們算術(shù)平均而得到的值。
[0106] 此外，從第一小直徑孔部210的底部至鋁板12表面為止的陽極氧化皮膜的最小厚 度沒有特別限制，但優(yōu)選為15nm以上，更優(yōu)選為17nm以上。
[0107] 第一小直徑孔部210及第二小直徑孔部220的形狀沒有特別限定，可列舉出大致 直管狀（大致圓柱狀）等。除此以外，例如，第一小直徑孔部210也可以從第二小直徑孔部 220的底部的某一位置起在鋁板12側(cè)的區(qū)域中內(nèi)徑變得更大（例如，大1?IOnm左右）。
[0108] 〈平版印刷版用支撐體的制造方法〉
[0109] 以下對本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法進(jìn)行說明。
[0110] 本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法沒有特別限定，但優(yōu)選依次實(shí)施以下的 工序的制造方法。
[0111] (粗面化處理工序）對鋁板實(shí)施粗面化處理的工序
[0112] (第一陽極氧化處理工序）對經(jīng)粗面化處理的鋁板進(jìn)行陽極氧化的工序
[0113] (擴(kuò)孔處理工序）使第一陽極氧化處理工序中得到的具有陽極氧化皮膜的鋁板與 酸水溶液或堿水溶液接觸，使該陽極氧化皮膜中的微孔的直徑擴(kuò)大的工序
[0114] (第二陽極氧化處理工序）將擴(kuò)孔處理工序中得到的鋁板進(jìn)行陽極氧化的工序
[0115] (第三陽極氧化處理工序）將第二陽極氧化處理工序中得到的鋁板進(jìn)行陽極氧化 的工序
[0116] (親水化處理工序）對第二或第三的陽極氧化處理工序中得到的鋁板實(shí)施親水化 處理的工序
[0117] 以下對上述各工序進(jìn)行詳細(xì)敘述。另外，粗面化處理工序、擴(kuò)孔處理工序、親水化 處理工序、及第三陽極氧化處理工序若沒有必要則也可以不實(shí)施。
[0118] 此外，圖3中，表示按照從第一陽極氧化處理工序到第三陽極氧化處理工序的工 序順序示出的基板及陽極氧化皮膜的示意性剖面圖。
[0119] 〈粗面化處理工序〉
[0120] 粗面化處理工序是對上述鋁板的表面實(shí)施包含電化學(xué)粗面化處理的粗面化處理 的工序。該工序優(yōu)選在后述的第一陽極氧化處理工序之前實(shí)施，但若鋁板的表面已經(jīng)具有 優(yōu)選的表面形狀，則也可以不特別實(shí)施。
[0121] 粗面化處理可以僅實(shí)施電化學(xué)粗面化處理，但也可以將電化學(xué)粗面化處理與機(jī)械 粗面化處理和/或化學(xué)粗面化處理組合實(shí)施。
[0122] 在將機(jī)械粗面化處理與電化學(xué)粗面化處理組合的情況下，優(yōu)選在機(jī)械粗面化處理 之后，實(shí)施電化學(xué)粗面化處理。
[0123] 本發(fā)明中，電化學(xué)粗面化處理優(yōu)選在硝酸或鹽酸的水溶液中實(shí)施。
[0124] 機(jī)械粗面化處理通常出于使鋁板的表面為表面粗糙度Ra:0. 35?I. 0 μ m的目的 而實(shí)施。
[0125] 本發(fā)明中，機(jī)械粗面化處理的諸條件沒有特別限定，但例如可以按照日本特公昭 50-40047號公報(bào)中記載的方法實(shí)施。機(jī)械粗面化處理可以通過使用了浮石懸浮液的刷拭磨 版處理來實(shí)施、或以轉(zhuǎn)印方式來實(shí)施。
[0126] 此外，化學(xué)粗面化處理也沒有特別限定，可以按照公知的方法實(shí)施。
[0127] 在機(jī)械粗面化處理之后，優(yōu)選實(shí)施以下的化學(xué)蝕刻處理。
[0128] 在機(jī)械粗面化處理之后實(shí)施的化學(xué)蝕刻處理是為了使鋁板的表面的凹凸形狀的 邊緣部分平滑、且防止印刷時(shí)的墨液的潑濺、提高平版印刷版的耐污染性，同時(shí)除去殘留在 表面的研磨材粒子等不需要物而進(jìn)行的。
[0129] 作為化學(xué)蝕刻處理，已知有利用酸的蝕刻或利用堿的蝕刻，但從蝕刻效率的方面 出發(fā)，作為特別優(yōu)異的方法，可列舉出使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理（以下，也稱為"堿蝕刻 處理"。）。
[0130] 堿溶液中使用的堿劑沒有特別限定，但可適當(dāng)列舉出例如苛性鈉、苛性鉀、正硅酸 鈉、碳酸鈉、鋁酸鈉、葡糖酸鈉等。
[0131] 此外，各堿劑也可以含有鋁離子。堿溶液的濃度優(yōu)選為0.01質(zhì)量％以上，更優(yōu)選 為3質(zhì)量％以上，此外，優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為25質(zhì)量％以下。
[0132] 進(jìn)而，堿溶液的溫度優(yōu)選為室溫以上，更優(yōu)選為30°C以上，優(yōu)選為80°C以下，更優(yōu) 選為75°C以下。
[0133] 蝕刻量優(yōu)選為0. lg/m2以上，更優(yōu)選為lg/m2以上，此外，優(yōu)選為20g/m2以下，更優(yōu) 選為l〇g/m 2以下。
[0134] 此外，處理時(shí)間與蝕刻量對應(yīng)優(yōu)選為2秒?5分鐘，從生產(chǎn)率提高的方面出發(fā)，更 優(yōu)選為2?10秒。
[0135] 本發(fā)明中，在機(jī)械粗面化處理后實(shí)施堿蝕刻處理的情況下，為了除去通過堿蝕 刻處理產(chǎn)生的產(chǎn)物，優(yōu)選使用低溫的酸性溶液實(shí)施化學(xué)蝕刻處理（以下，也稱為"除灰處 理"。）。
[0136] 酸性溶液中使用的酸沒有特別限定，但可列舉出例如硫酸、硝酸、鹽酸。酸性溶液 的濃度優(yōu)選為1?50質(zhì)量％。此外，酸性溶液的溫度優(yōu)選為20?80°C。若酸性溶液的濃 度及溫度為該范圍，則使用本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐泡狀污染性更 加提1?。
[0137] 本發(fā)明中，上述粗面化處理為在根據(jù)期望實(shí)施了機(jī)械粗面化處理及化學(xué)蝕刻處理 后實(shí)施電化學(xué)粗面化處理的處理，但在不進(jìn)行機(jī)械粗面化處理而實(shí)施電化學(xué)粗面化處理的 情況下，也可以在電化學(xué)粗面化處理之前，使用苛性鈉等堿水溶液實(shí)施化學(xué)蝕刻處理。由 此，能夠除去存在于鋁板的表面附近的雜質(zhì)等。
[0138] 電化學(xué)粗面化處理由于容易對鋁板的表面賦予微細(xì)的凹凸（凹痕），所以適合于 制作印刷性優(yōu)異的平版印刷版。
[0139] 電化學(xué)粗面化處理在以硝酸或鹽酸為主體的水溶液中，使用直流電或交流電進(jìn) 行。
[0140] 此外，在電化學(xué)粗面化處理之后，優(yōu)選進(jìn)行以下的化學(xué)蝕刻處理。在電化學(xué)粗面化 處理后的鋁板的表面存在污物、金屬間化合物。電化學(xué)粗面化處理之后進(jìn)行的化學(xué)蝕刻處 理中，特別是為了高效除去污物，首先，優(yōu)選使用堿溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（堿蝕刻處理）。 關(guān)于使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理的諸條件，處理溫度優(yōu)選為20?80°C，此外，處理時(shí)間優(yōu) 選為1?60秒。此外，優(yōu)選堿溶液中含有鋁離子。
[0141] 進(jìn)而，在電化學(xué)粗面化處理后進(jìn)行使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理后，為了除去由其 產(chǎn)生的產(chǎn)物，優(yōu)選使用低溫的酸性溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（除灰處理）。
[0142] 此外，在電化學(xué)粗面化處理后不進(jìn)行堿蝕刻處理的情況下，為了高效除去污物，優(yōu) 選進(jìn)行除灰處理。
[0143] 本發(fā)明中，上述的化學(xué)蝕刻處理均可以通過浸漬法、噴淋法、涂布法等進(jìn)行，沒有 特別限定。
[0144] 〈第一陽極氧化處理工序〉
[0145] 第一陽極氧化處理工序?yàn)橥ㄟ^對實(shí)施了上述粗面化處理的鋁板實(shí)施陽極氧化處 理，在該鋁板表面形成具有向深度方向（厚度方向）延伸的微孔的鋁的氧化皮膜的工序。通 過該第一陽極氧化處理，如圖3的（A)所示的那樣，在鋁板12的表面形成具有微孔16a的 鋁的陽極氧化皮膜14a。
[0146] 第一陽極氧化處理可以通過本領(lǐng)域中一直以來進(jìn)行的方法來進(jìn)行，但按照能夠最 終形成上述的微孔16的方式適當(dāng)設(shè)定制造條件。
[0147] 具體而言，第一陽極氧化處理工序中形成的微孔16a的平均直徑（平均開口直徑） 通常為4?14nm左右，優(yōu)選為5?10nm。若為上述范圍內(nèi)，則容易形成具有上述規(guī)定的形 狀的微孔16,所得到的平版印刷版及平版印刷版原版的性能也更優(yōu)異。
[0148] 此外，微孔16a的深度通常為65?IlOnm左右，優(yōu)選為75?95nm。若為上述范圍 內(nèi)，則容易形成具有上述規(guī)定的形狀的微孔16,所得到的平版印刷版及平版印刷版原版的 性能也更優(yōu)異。
[0149] 微孔16a的孔密度沒有特別限定，但孔密度優(yōu)選為50?4000個/ μ m2,更優(yōu)選為 100?3000個/ μ m2。若為上述范圍內(nèi)，則所得到的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫 墨能力、以及平版印刷版原版的機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0150] 此外，通過第一陽極氧化處理工序得到的陽極氧化皮膜的膜厚優(yōu)選為75? 120nm，更優(yōu)選為85?105nm。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)由該工序得到的平版印刷版用支 撐體的平版印刷版的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、耐泡污染性、及耐真圓狀漏白性、以及 平版印刷版原版的機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0151] 進(jìn)而，通過第一陽極氧化處理工序而得到的陽極氧化皮膜的皮膜量優(yōu)選為 0. 18?0. 29g/m2,更優(yōu)選為0. 2?0. 25g/m2。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)由該工序而得到 的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、耐泡污染性、及耐真 圓狀漏白性、以及平版印刷版原版的機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0152] 第一陽極氧化處理工序中，可以使用硫酸、磷酸、草酸等水溶液作為主要電解浴。 根據(jù)情況，也可以使用鉻酸、氨基磺酸、苯磺酸等或?qū)⑺鼈儍煞N以上組合而成的水溶液或非 水溶液。若在上述那樣的電解浴中對鋁板流通直流電或交流電，則能夠在鋁板表面形成陽 極氧化皮膜。
[0153] 另外，電解浴中也可以包含鋁離子。鋁離子的含量沒有特別限定，但優(yōu)選為1? 10g/L。
[0154] 陽極氧化處理的條件根據(jù)所使用的電解液而適當(dāng)設(shè)定，但通常電解液的濃度為 1?80質(zhì)量％ (優(yōu)選為5?20質(zhì)量％ )、液溫為5?70°C (優(yōu)選為10?60°C )、電流密度 為0. 5?60A/dm2 (優(yōu)選為5?50A/dm2)、電壓為1?100V (優(yōu)選為5?50V)、電解時(shí)間為 1?100秒（優(yōu)選為5?60秒）的范圍是適當(dāng)?shù)摹?br> [0155] 這些陽極氧化處理中，特別優(yōu)選在英國專利第1，412, 768號說明書中記載的在硫 酸中以高電流密度進(jìn)行陽極氧化的方法。
[0156] 〈擴(kuò)孔處理工序〉
[0157] 擴(kuò)孔處理工序?yàn)槭雇ㄟ^上述第一陽極氧化處理工序而形成的存在于陽極氧化皮 膜中的微孔的直徑（孔徑）擴(kuò)大的處理（孔徑擴(kuò)大處理）。通過該擴(kuò)孔處理，如圖3的（B) 所示的那樣，微孔16a的直徑被擴(kuò)大，形成具備具有更大的平均直徑的微孔16b的陽極氧化 皮膜14b。
[0158] 優(yōu)選通過該擴(kuò)孔處理，微孔16b的平均直徑擴(kuò)大至IOnm以上且低于30nm的范圍。 另外，該微孔16b成為相當(dāng)于上述大直徑孔部18的部分。
[0159] 此外，優(yōu)選通過該處理，按照距離微孔16b的表面的平均深度達(dá)到與上述深度A相 同程度的方式進(jìn)行調(diào)整。
[0160] 擴(kuò)孔處理通過使利用上述第一陽極氧化處理工序而得到的鋁板與酸水溶液或堿 水溶液接觸來進(jìn)行。接觸的方法沒有特別限定，可列舉出例如浸漬法、噴霧法。其中，優(yōu)選 浸漬法。
[0161] 擴(kuò)孔處理工序中使用堿水溶液的情況下，優(yōu)選使用選自由氫氧化鈉、氫氧化鉀、及 氫氧化鋰組成的組中的至少一種的堿水溶液。堿水溶液的濃度優(yōu)選為0. 1?5質(zhì)量％。
[0162] 另外，將堿水溶液的pH調(diào)整為11?13后，在10?70°C (優(yōu)選為20?50°C )的 條件下，使鋁板與堿水溶液接觸1?300秒（優(yōu)選為1?50秒）是適當(dāng)?shù)摹?br> [0163] 此時(shí)，堿處理液中還可以包含碳酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽等多元弱酸的金屬鹽。
[0164] 擴(kuò)孔處理工序中使用酸水溶液的情況下，優(yōu)選使用硫酸、磷酸、硝酸、鹽酸等無機(jī) 酸或它們的混合物的水溶液。酸水溶液的濃度優(yōu)選為1?80質(zhì)量％，更優(yōu)選為5?50質(zhì) 量％。
[0165] 另外，在酸水溶液的液溫為5?70°C (優(yōu)選為10?60°C )的條件下，使鋁板與酸 水溶液接觸1?300秒（優(yōu)選為1?150秒）是適當(dāng)?shù)摹?br> [0166] 另外，堿水溶液或酸水溶液中也可以包含鋁離子。鋁離子的含量沒有特別限定，但 優(yōu)選為1?l〇g/L。
[0167] 〈第二陽極氧化處理工序〉
[0168] 第二陽極氧化處理工序?yàn)橥ㄟ^對實(shí)施了上述擴(kuò)孔處理的鋁板實(shí)施陽極氧化處理， 形成進(jìn)一步向深度方向（厚度方向）延伸的微孔的工序。通過該第二陽極氧化處理工序， 如圖3的（C)所示的那樣，形成具有向深度方向延伸的微孔16c的陽極氧化皮膜14c。
[0169] 通過該第二陽極氧化處理工序，形成與擴(kuò)大了平均直徑的微孔16b的底部連通、 且平均直徑小于微孔16b (相當(dāng)于大直徑孔部18)的平均直徑的從連通位置向深度方向延 伸的新的孔部。該孔部相當(dāng)于上述小直徑孔部20。
[0170] 第二陽極氧化處理工序中，新形成的孔部的平均直徑大于0且低于10nm，并且按 照距離與大直徑孔部18的連通位置的平均深度達(dá)到上述規(guī)定范圍的方式實(shí)施處理。另外， 處理中使用的電解浴與上述的第一陽極氧化處理工序相同，作為處理?xiàng)l件，根據(jù)所使用的 材料而適當(dāng)設(shè)定。
[0171] 陽極氧化處理的條件根據(jù)所使用的電解液而適當(dāng)設(shè)定，但通常電解液的濃度為 1?80質(zhì)量％ (優(yōu)選為5?20質(zhì)量％ )、液溫為5?70°C (優(yōu)選為10?60°C )、電流密度 為0. 5?60A/dm2 (優(yōu)選為1?30A/dm2)、電壓為1?100V (優(yōu)選為5?50V)、電解時(shí)間為 1?100秒（優(yōu)選為5?60秒）的范圍是適當(dāng)?shù)摹?br> [0172] 通過第二陽極氧化處理工序而得到的陽極氧化皮膜的膜厚通常為900?2000nm， 優(yōu)選為900?1500nm。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)由該工序所得到的平版印刷版用支撐體 的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0173] 此外，通過第二陽極氧化處理工序而得到的陽極氧化皮膜的皮膜量通常為2. 2? 5. 4g/m2,優(yōu)選為2. 2?4. Og/m2。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)由該工序而得到的平版印刷版 用支撐體的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機(jī)上顯影 性優(yōu)異。
[0174] 通過第一陽極氧化處理工序而得到的陽極氧化皮膜的厚度（皮膜厚度1)與通過 第二陽極氧化處理工序而得到的陽極氧化皮膜的厚度（皮膜厚度2)的比（皮膜厚度1/皮 膜厚度2)優(yōu)選為0. 01?0. 15,更優(yōu)選為0. 02?0. 10。若為上述范圍內(nèi)，則平版印刷版用 支撐體的耐劃傷性優(yōu)異。
[0175] 此外，為了制造上述小直徑孔部的形狀，在第二陽極氧化處理工序的處理中，也可 以使所施加的電壓階段性或連續(xù)地增加。通過所施加的電壓增加，所形成的孔部的直徑變 大。
[0176] 另外，通過使第二陽極氧化處理工序中所施加的電壓增加，位于所得到的小直徑 孔部的底部與鋁板之間的陽極氧化皮膜的厚度存在增加的傾向。在通過實(shí)施上述那樣的處 理，位于小直徑孔部的底部與鋁板之間的陽極氧化皮膜達(dá)到規(guī)定的厚度的情況下，也可以 不實(shí)施后述的第三陽極氧化處理工序。
[0177] 〈第三陽極氧化處理工序〉
[0178] 第三陽極氧化處理工序?yàn)橥ㄟ^對實(shí)施了上述第二陽極氧化處理的鋁板進(jìn)一步實(shí) 施陽極氧化處理，主要增大位于小直徑孔部的底部與鋁板之間的陽極氧化皮膜的厚度（阻 擋層的厚度）的工序。通過該第三陽極氧化處理工序，如圖3的（D)所示的那樣，厚度X達(dá) 到規(guī)定的大小。
[0179] 另外，如上述那樣，在第二陽極氧化處理工序中已經(jīng)得到所期望的形狀的微孔的 情況下，也可以不實(shí)施第三陽極氧化處理工序。
[0180] 第三陽極氧化處理工序中的陽極氧化處理的條件根據(jù)所使用的電解液而適當(dāng)設(shè) 定，但通常以比第二陽極氧化處理工序中施加的電壓高的電壓進(jìn)行處理。
[0181] 此外，所使用的電解液的種類也沒有特別限定，可以使用上述電解液。例如，通過 使用包含硼酸的水溶液作為電解浴，可以在不改變第二陽極氧化處理中得到的小直徑孔部 的形狀的情況下高效地增大厚度X。
[0182] 此外，通過第三陽極氧化處理工序而得到的陽極氧化皮膜的皮膜量通常為 0. 13?0. 65g/m2,優(yōu)選為0. 26?0. 52g/m2。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)由該工序而得到的 平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、耐泡污染性、及耐真圓 狀漏白性、以及平版印刷版原版的機(jī)上顯影性優(yōu)異。
[0183] 另外，通過實(shí)施第三陽極氧化處理工序，微孔還可以進(jìn)一步向鋁側(cè)延伸。
[0184] 〈親水化處理工序〉
[0185] 本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法也可以具有在上述第二或第三陽極氧 化處理工序之后實(shí)施親水化處理的親水化處理工序。另外，作為親水化處理，可以使用日本 特開2005-254638號公報(bào)的段落[0109]?[0114]中公開的公知的方法。
[0186] 另外，優(yōu)選通過浸漬于硅酸鈉、硅酸鉀等堿金屬硅酸鹽的水溶液中的方法、涂布親 水性乙烯基聚合物或親水性化合物而形成親水性的下涂層的方法等進(jìn)行親水化處理。
[0187] 利用硅酸鈉、硅酸鉀等堿金屬硅酸鹽的水溶液的親水化處理可以按照美國專利第 2, 714, 066號說明書及美國專利第3, 181，461號說明書中記載的方法及步驟來進(jìn)行。
[0188] 另一方面，作為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體，優(yōu)選對上述鋁板按照以下所示的 順序?qū)嵤┮韵碌腁方式或B方式所示的各處理而得到的平版印刷版用支撐體，從耐刷性的 方面出發(fā)，特別優(yōu)選A方式。另外，優(yōu)選在以下的各處理之間進(jìn)行水洗。但是，在連續(xù)進(jìn)行 的2個工序（處理）使用相同的組成的溶液的情況下也可以省略水洗。
[0189] (A 方式）
[0190] (2)在堿水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第一堿蝕刻處理）
[0191] (3)在酸性水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第一除灰處理）
[0192] (4)在以硝酸為主體的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)粗面化處理（第一電化學(xué)粗面化處 理）
[0193] (5)在堿水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第二堿蝕刻處理）
[0194] (6)在酸性水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第二除灰處理）
[0195] (7)在以鹽酸為主體的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)粗面化處理（第二電化學(xué)粗面化處 理）
[0196] (8)在堿水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第三堿蝕刻處理）
[0197] (9)在酸性水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第三除灰處理）
[0198] (10)陽極氧化處理（第一陽極氧化處理、擴(kuò)孔處理、第二陽極氧化處理、第三陽極 氧化處理）
[0199] (11)親水化處理
[0200] (B 方式）
[0201] (2)在堿水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第一堿蝕刻處理）
[0202] (3)在酸性水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第一除灰處理）
[0203] (12)在以鹽酸為主體的水溶液中進(jìn)行電化學(xué)粗面化處理
[0204] (5)在堿水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第二堿蝕刻處理）
[0205] (6)在酸性水溶液中進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理（第二除灰處理）
[0206] (10)陽極氧化處理（第一陽極氧化處理、擴(kuò)孔處理、第二陽極氧化處理、第三陽極 氧化處理）
[0207] (11)親水化處理
[0208] 另外，在上述A方式及B方式的（2)的處理之前，根據(jù)需要，還可以實(shí)施（1)機(jī)械 粗面化處理。另外，從耐刷性等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在各方式中不包含該（1)的處理。
[0209] 這里，上述（1)?（12)中的機(jī)械粗面化處理、電化學(xué)粗面化處理、化學(xué)蝕刻處理、 陽極氧化處理及親水化處理可以用與上述的處理方法、條件相同的方法來進(jìn)行，但優(yōu)選在 以下說明的處理方法、條件下實(shí)施。
[0210] 機(jī)械粗面化處理優(yōu)選用毛徑為0. 2?I. 61mm的旋轉(zhuǎn)的尼龍刷輥和供給到鋁板表 面的漿液進(jìn)行機(jī)械粗面化處理。
[0211] 作為研磨劑，可以使用公知的研磨劑，但優(yōu)選硅砂、石英、氫氧化鋁或它們的混合 物。
[0212] 漿液的比重優(yōu)選為1. 05?1. 3。當(dāng)然，也可以采用吹附漿液的方式、使用線刷的方 式、將帶凹凸的軋輥的表面形狀轉(zhuǎn)印到鋁板上的方式等。
[0213] 堿水溶液中的化學(xué)蝕刻處理中使用的堿水溶液的濃度優(yōu)選為1?30質(zhì)量％，鋁及 鋁合金中含有的合金成分可以含有〇?10質(zhì)量％。
[0214] 作為堿水溶液，特別優(yōu)選以苛性鈉為主體的水溶液。優(yōu)選液溫為常溫?95°C，且處 理1?120秒。
[0215] 在蝕刻處理結(jié)束后，為了不將處理液帶入到下一工序中，優(yōu)選進(jìn)行利用夾持輥的 除液和利用噴霧器的水洗。
[0216] 第一堿蝕刻處理中的錯板的溶解量優(yōu)選為0. 5?30g/m2,更優(yōu)選為I. 0?20g/m2, 進(jìn)一步優(yōu)選為3. 0?15g/m2。
[0217] 第二堿蝕刻處理中的鋁板的溶解量優(yōu)選為0. 001?30g/m2,更優(yōu)選為0. 1?4g/ m2,進(jìn)一步優(yōu)選為0· 2?I. 5g/m2。
[0218] 第三堿蝕刻處理中的鋁板的溶解量優(yōu)選為0. 001?30g/m2,更優(yōu)選為0. 01? 〇· 8g/m2,進(jìn)一步優(yōu)選為 0· 02 ?0· 3g/m2。
[0219] 酸性水溶液中，化學(xué)蝕刻處理（第一?第三除灰處理）中，適宜使用磷酸、硝酸、硫 酸、鉻酸、鹽酸、或含有它們2種以上的酸的混酸。
[0220] 酸性水溶液的濃度優(yōu)選為0. 5?60質(zhì)量％。
[0221] 此外，酸性水溶液中，鋁及鋁合金中含有的合金成分也可以溶解0?5質(zhì)量％。
[0222] 此外，在液溫為常溫到95°C下實(shí)施，處理時(shí)間優(yōu)選為1?120秒。在除灰處理結(jié)束 后，為了不將處理液帶入到下一工序中，優(yōu)選進(jìn)行利用夾持輥的除液和利用噴霧器的水洗。
[0223] 對電化學(xué)粗面化處理中使用的水溶液進(jìn)行說明。
[0224] 第一電化學(xué)粗面化處理中使用的以硝酸為主體的水溶液可以使用通常的使用直 流電或交流電的電化學(xué)粗面化處理中使用的水溶液，可以在1?l〇〇g/L的硝酸水溶液中添 加具有硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等硝酸離子；氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等鹽酸離子等的鹽酸或 硝酸化合物的1種以上至lg/L?飽和而使用。
[0225] 此外，在以硝酸為主體的水溶液中，也可以溶解鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅等在鋁合 金中包含的金屬。
[0226] 具體而言，優(yōu)選使用在硝酸0. 5?2質(zhì)量％水溶液中按照鋁離子達(dá)到3?50g/L 的方式添加氯化鋁、硝酸鋁而成的溶液。
[0227] 此外，溫度優(yōu)選為10?90°C，更優(yōu)選為40?80°C。
[0228] 另一方面，第二電化學(xué)粗面化處理中使用的以鹽酸為主體的水溶液可以使用通常 的使用直流電或交流電的電化學(xué)粗面化處理中使用的水溶液，可以在1?l〇〇g/L的鹽酸水 溶液中添加具有硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等硝酸離子；氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等鹽酸離子等 的鹽酸或硝酸化合物的1種以上至lg/L?飽和而使用。
[0229] 此外，在以鹽酸為主體的水溶液中，也可以溶解鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅等在鋁合 金中包含的金屬。
[0230] 具體而言，優(yōu)選使用在鹽酸0. 5?2質(zhì)量％水溶液中按照鋁離子達(dá)到3?50g/L 的方式添加氯化鋁、硝酸鋁而成的溶液。
[0231] 此外，溫度優(yōu)選為10?60°C，更優(yōu)選為20?50°C。另外，也可以添加次氯酸。
[0232] 另一方面，B方式中的鹽酸水溶液中的電化學(xué)粗面化處理中使用的以鹽酸為主體 的水溶液可以使用通常的使用直流電或交流電的電化學(xué)粗面化處理中使用的水溶液，可以 在1?100g/L的鹽酸水溶液中添加0?30g/L硫酸而使用。此外，可以在該溶液中添加具 有硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等硝酸離子；氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等鹽酸離子等的鹽酸或硝酸 化合物的1種以上至lg/L?飽和而使用。
[0233] 此外，在以鹽酸為主體的水溶液中，也可以溶解鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅等在鋁合 金中包含的金屬。
[0234] 具體而言，優(yōu)選使用在硝酸0. 5?2質(zhì)量％水溶液中按照鋁離子達(dá)到3?50g/L 的方式添加氯化鋁、硝酸鋁等而成的溶液。
[0235] 此外，溫度優(yōu)選為10?60°C，更優(yōu)選為20?50°C。另外，也可以添加次氯酸。
[0236] 電化學(xué)粗面化處理的交流電源波形可以使用正弦波、矩形波、梯形波、三角波等。 頻率優(yōu)選為0. 1?250Hz。
[0237] 圖4為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的電化學(xué)粗面化處理中 使用的交變波形電流波形圖的一例的圖表。
[0238] 圖4中，ta為陽極反應(yīng)時(shí)間，tc為陰極反應(yīng)時(shí)間，tp為電流從0至達(dá)到峰值的時(shí) 間，Ia為陽極循環(huán)側(cè)的峰值時(shí)的電流，Ic為陰極循環(huán)側(cè)的峰值時(shí)的電流。梯形波中，電流 從0至達(dá)到峰值的時(shí)間tp優(yōu)選為1?10msec。由于電源電路的電阻的影響，所以若tp低 于1，則電流波形的上升時(shí)需要大的電源電壓，電源的設(shè)備成本變高。若大于10msec，則容 易受到電解液中的微量成分的影響而難以進(jìn)行均勻的粗面化。電化學(xué)粗面化中使用的1個 循環(huán)交流電的條件優(yōu)選鋁板的陽極反應(yīng)時(shí)間ta與陰極反應(yīng)時(shí)間tc的比tc/ta為1?20， 鋁板的陽極時(shí)的電量Qc與陽極時(shí)的電量Qa的比Qc/Qa為0. 3?20,陽極反應(yīng)時(shí)間ta為 5?IOOOmsec的范圍。tc/ta更優(yōu)選為2. 5?15。Qc/Qa更優(yōu)選為2. 5?15。電流密度以 梯形波的峰值計(jì)電流的陽極循環(huán)側(cè)la、陰極循環(huán)側(cè)Ic均優(yōu)選為10?200A/dm2。Ic/Ia優(yōu) 選為0. 3?20的范圍。電化學(xué)粗面化結(jié)束的時(shí)刻的參與鋁板的陽極反應(yīng)的電量的總和優(yōu) 選為 25 ?1000C/dm2。
[0239] 本發(fā)明中，使用交流電的電化學(xué)粗面化中使用的電解槽可以使用縱型、扁平型、徑 向型等公知的表面處理中使用的電解槽，但特別優(yōu)選日本特開平5-195300號公報(bào)中記載 的那樣的徑向型電解槽。
[0240] 使用了交流電的電化學(xué)粗面化中可以使用圖5所示的裝置。
[0241] 圖5為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的使用了交流電的電化 學(xué)粗面化處理中的徑向型池的一例的側(cè)視圖。
[0242] 圖5中，50為主電解槽，51為交流電源，52為徑向轉(zhuǎn)筒輥，53a、53b為主極，54為電 解液供給口，55為電解液，56為狹縫，57為電解液通路，58為輔助陽極，60為輔助陽極槽，W 為鋁板。使用2個以上電解槽時(shí)，電解條件可以相同，也可以不同。
[0243] 鋁板W被卷繞到浸漬在主電解槽50中而配置的徑向轉(zhuǎn)筒輥52上，在搬送過程中 通過與交流電源51連接的主極53a、53b進(jìn)行電解處理。電解液55從電解液供給口 54通過 狹縫56供給到徑向轉(zhuǎn)筒輥52與主極53a、53b之間的電解液通路57中。在主電解槽50中 處理過的鋁板W接下來在輔助陽極槽60中進(jìn)行電解處理。在該輔助陽極槽60中輔助陽極 58與鋁板W相對配置，電解液55按照流過輔助陽極58與鋁板W之間的空間的方式供給。
[0244] 另一方面，在電化學(xué)粗面化處理（第一及第二電化學(xué)粗面化處理）中，也可以是在 鋁板和與其相對的電極間施加直流電流，進(jìn)行電化學(xué)粗面化的方法。
[0245] 〈干燥工序〉
[0246] 優(yōu)選在得到通過上述工序而得到的平版印刷版用支撐體后，且在設(shè)置后述的圖像 記錄層前，實(shí)施使平版印刷版用支撐體的表面進(jìn)行干燥的處理（干燥工序）。
[0247] 干燥優(yōu)選在表面處理的最后的處理之后，且在水洗處理及用夾持輥進(jìn)行除液后進(jìn) 行。作為具體的條件，沒有特別限制，但優(yōu)選通過熱風(fēng)（50?200°C)、或冷風(fēng)自然干燥法等 進(jìn)行干燥。
[0248] 〈平版印刷版原版〉
[0249] 可以在本發(fā)明的平版印刷版用支撐體上設(shè)置以下例示的光敏層、熱敏層等圖像記 錄層而制成本發(fā)明的平版印刷版原版。圖像記錄層沒有特別限定，但可適當(dāng)列舉出例如日 本特開2003-1956號公報(bào)的段落[0042]?[0198]中記載的常規(guī)的正型、常規(guī)的負(fù)型、光聚 合物型（光聚合型感光性組合物）、熱正型、熱負(fù)型、能夠機(jī)上顯影的未處理型。
[0250] 以下，對合適的圖像記錄層進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0251] 〈圖像記錄層〉
[0252] 作為本發(fā)明的平版印刷版原版中可以使用的優(yōu)選的圖像記錄層，為能夠通過印刷 墨液和/或潤版液除去的圖像記錄層，具體而言，優(yōu)選為具有紅外線吸收劑、聚合引發(fā)劑和 聚合性化合物、且能夠通過紅外線的照射進(jìn)行記錄的圖像記錄層。此外，也可以是具有熱塑 性聚合物粒子、紅外線吸收劑、且能夠通過紅外線的照射進(jìn)行記錄的圖像記錄層，圖像記錄 層中也可以具有聚甘油化合物。
[0253] 在本發(fā)明的平版印刷版原版中，通過紅外線的照射使圖像記錄層的曝光部固化而 形成疏水性（親油性）區(qū)域，且在印刷開始時(shí)未曝光部通過潤版液、墨液或潤版液與墨液的 乳化物從支撐體上快速除去。
[0254] 以下，對圖像記錄層的各構(gòu)成成分進(jìn)行說明。
[0255] (第一方式：具有紅外線吸收劑、聚合引發(fā)劑和聚合性化合物、且能夠通過紅外線 的照射進(jìn)行記錄的圖像記錄層）
[0256] (紅外線吸收劑）
[0257] 對本發(fā)明的平版印刷版原版以發(fā)出760?1200nm的紅外線的激光作為光源進(jìn)行 圖像形成時(shí)，通常使用紅外線吸收劑。
[0258] 紅外線吸收劑具有將吸收的紅外線轉(zhuǎn)換成熱的功能和通過紅外線進(jìn)行激發(fā)對后 述的聚合引發(fā)劑（自由基產(chǎn)生劑）進(jìn)行電子轉(zhuǎn)移/能量轉(zhuǎn)移的功能。
[0259] 本發(fā)明中可以使用的紅外線吸收劑為在波長為760?1200nm下具有最大吸收的 染料或顏料。
[0260] 作為染料，可以利用市售的染料、例如"染料便覽"（有機(jī)合成化學(xué)協(xié)會編集、昭和 45年刊）等文獻(xiàn)中記載的公知的染料。
[0261] 具體而言，可列舉出偶氮染料、金屬絡(luò)合鹽偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染 料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎗染料、醌亞胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸菁色素、吡喃 鎗鹽、金屬硫醇鹽絡(luò)合物等染料。可以適當(dāng)使用例如日本特開2009-255434號公報(bào)的段落
[0096]?[0107]中公開的染料。
[0262] 另一方面，作為顏料，可以利用例如日本特開2009-255434號公報(bào)的段落 [0108]?[0112]中記載的顏料。
[0263] (聚合引發(fā)劑）
[0264] 上述聚合引發(fā)劑為通過光、熱或其兩者的能量產(chǎn)生自由基，引發(fā)、促進(jìn)具有聚合性 的不飽和基的化合物的聚合的物質(zhì)，本發(fā)明中，優(yōu)選使用通過熱產(chǎn)生自由基的化合物（熱 自由基產(chǎn)生劑）。
[0265] 作為上述聚合引發(fā)劑，可以使用公知的熱聚合引發(fā)劑或具有鍵合解離能量小的鍵 的化合物、光聚合引發(fā)劑等。
[0266] 作為聚合引發(fā)劑，可以利用例如日本特開2009-255434號公報(bào)的段落[0115]? [0141]中記載的聚合引發(fā)劑等。
[0267] 另外，作為聚合引發(fā)劑可以使用鎗鹽等，從反應(yīng)性、穩(wěn)定性方面出發(fā)，可列舉出上 述肟酯化合物或重氮鎗鹽、碘鎗鹽、锍鹽作為適合的聚合引發(fā)劑。
[0268] 這些聚合引發(fā)劑相對于構(gòu)成圖像記錄層的全部固體成分可以以0. 1?50質(zhì)量％、 優(yōu)選以0. 5?30質(zhì)量％、特別優(yōu)選以1?20質(zhì)量％的比例添加。在該范圍內(nèi)，可得到良好 的感光度和印刷時(shí)的非圖像部的良好的不易污染性。
[0269] (聚合性化合物）
[0270] 聚合性化合物為具有至少一個烯屬不飽和雙鍵的加成聚合性化合物，從具有至少 1個、優(yōu)選2個以上的末端烯屬不飽和鍵的化合物中選擇。本發(fā)明中，這樣的化合物可以沒 有特別限定地使用本發(fā)明的【技術(shù)領(lǐng)域】中廣泛已知的化合物。
[0271] 作為聚合性化合物，可以使用例如日本特開2009-255434號公報(bào)的段落[0142]? [0163]中例示的聚合性化合物等。
[0272] 此外，使用異氰酸酯與羥基的加成反應(yīng)而制造的氨基甲酸酯系加成聚合性化合物 也是合適的。作為其具體例子，可列舉出在日本特公昭48-41708號公報(bào)中記載的在1分子 中具有2個以上的異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物上加成下述通式（A)表示的含有羥基的 乙烯基單體而成的1分子中含有2個以上的聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。
[0273] CH2 = C (R4) COOCH2CH (R5) OH (A)
[0274] (其中，R4及R 5表示H或CH 3。）
[0275] 聚合性化合物相對于圖像記錄層中的不揮發(fā)性成分優(yōu)選在5?80質(zhì)量％、進(jìn)一步 優(yōu)選在25?75質(zhì)量％的范圍內(nèi)使用。此外，它們可以單獨(dú)使用也可以將2種以上并用。
[0276] (粘合劑聚合物）
[0277] 本發(fā)明中，圖像記錄層中為了提高圖像記錄層的皮膜形成性，可以使用粘合劑聚 合物。
[0278] 粘合劑聚合物可以沒有限制地使用以往公知的粘合劑聚合物，優(yōu)選具有皮膜性的 聚合物。作為這樣的粘合劑聚合物，具體而言，可列舉出例如丙烯酸樹脂、聚乙烯醇縮醛樹 月旨、聚氨酯樹脂、聚脲樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚苯乙 烯系樹脂、酚醛清漆型酚系樹脂、聚酯樹脂、合成橡膠、天然橡膠等。
[0279] 為了提高圖像部的皮膜強(qiáng)度，粘合劑聚合物也可以具有交聯(lián)性。為了使粘合劑聚 合物具有交聯(lián)性，可以將烯屬不飽和鍵等交聯(lián)性官能團(tuán)導(dǎo)入高分子的主鏈中或側(cè)鏈中。交 聯(lián)性官能團(tuán)也可以通過共聚導(dǎo)入。
[0280] 作為粘合劑聚合物，也可以使用例如日本特開2009-255434號公報(bào)的段落
[0165]?[0172]中公開的粘合劑聚合物。
[0281] 粘合劑聚合物的含量相對于圖像記錄層的全部固體成分為5?90質(zhì)量％，優(yōu)選為 5?80質(zhì)量％，更優(yōu)選為10?70質(zhì)量％。在該范圍內(nèi)，可得到良好的圖像部的強(qiáng)度和圖像 形成性。
[0282] 此外，聚合性化合物和粘合劑聚合物優(yōu)選按照以質(zhì)量比計(jì)達(dá)到0. 5/1?4/1的量 使用。
[0283] (表面活性劑）
[0284] 圖像記錄層中，為了促進(jìn)印刷開始時(shí)的機(jī)上顯影性、及為了提高涂布面狀，優(yōu)選使 用表面活性劑。
[0285] 作為表面活性劑，可列舉出非離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、陽離子表面活 性劑、兩性表面活性劑、氟系表面活性劑等。
[0286] 作為表面活性劑，可以使用例如日本特開2009-255434號公報(bào)的段落[0175]?
[0179]中公開的表面活性劑等。
[0287] 表面活性劑可以單獨(dú)使用或?qū)?種以上組合使用。
[0288] 表面活性劑的含量相對于圖像記錄層的全部固體成分優(yōu)選為0. 001?10質(zhì)量％， 更優(yōu)選為0.01?5質(zhì)量％。
[0289] 圖像記錄層中根據(jù)需要還可以添加除了它們以外的各種化合物?？闪信e出例如日 本特開2009-255434號公報(bào)的段落[0181]?[0190]中公開的著色劑、曬印劑、阻聚劑、高 級脂肪酸衍生物、增塑劑、無機(jī)微粒、低分子親水性化合物等。
[0290] 另外，除了上述方式以外，也可以使用含有加成聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑和高 分子結(jié)合劑的光聚合型感光性組合物（光聚合物型）來制作圖像記錄層。
[0291] 作為加成聚合性化合物，可適當(dāng)列舉出含有能夠加成聚合的烯屬不飽和鍵的化合 物。含有烯屬不飽和鍵的化合物為具有末端烯屬不飽和鍵的化合物。
[0292] 作為光聚合引發(fā)劑，可以根據(jù)所使用的光源的波長適當(dāng)選擇使用各種光聚合引發(fā) 劑或2種以上的光聚合引發(fā)劑的并用體系（光聚合體系）。
[0293] (第二方式：具有熱塑性聚合物粒子、紅外線吸收劑、且能夠通過紅外線的照射進(jìn) 行記錄的圖像記錄層）
[0294] (熱塑性聚合物粒子）
[0295] 熱塑性聚合物粒子的平均粒徑優(yōu)選為45nm?63nm，更優(yōu)選為45nm?60nm, 進(jìn)一步優(yōu)選為45nm?59nm,特別優(yōu)選為45nm?55nm,最優(yōu)選為48nm?52nm。本說 明書中，粒徑被定義為通過作為準(zhǔn)彈性（Quasi-Elastic)或動力學(xué)光線散射（Dynamic Light-Scattering)也已知的光子相關(guān)分光分析（Photon Correlation Spectrometry)所 測定的粒子直徑。該方法為用于測定粒徑的便利的方法，所測定的粒徑的值與通過2000年 5 月 15 日的 Technical Note_002B 中的 Calibration of Spherical Particles by Light Scattering(利用光散射的球形粒徑的刻度修正）中由Stanley D. Duke等公開的那樣的 (1/3/2000 中 Particulate Science and Technology 7，P. 223-228(1989)中發(fā)表的論文 改訂）透射型電子顯微鏡（TEM)測定的粒徑充分一致。
[0296] 圖像記錄層中的熱塑性聚合物粒子的量優(yōu)選為70質(zhì)量％?85質(zhì)量％，更優(yōu)選為 75質(zhì)量％?85質(zhì)量％。熱塑性聚合物粒子的質(zhì)量百分率根據(jù)圖像記錄層中的全部成分的 質(zhì)量來決定。
[0297] 熱塑性聚合物粒子優(yōu)選為聚乙烯、聚氯（乙烯）、聚（甲基）丙烯酸甲酯、聚（甲 基）丙烯酸乙酯、聚偏氯乙烯、聚（甲基）丙烯腈、聚乙烯基咔唑、聚苯乙烯或它們的共聚 物。根據(jù)優(yōu)選的方式，則熱塑性聚合物粒子包含聚苯乙烯或其衍生物、包含聚苯乙烯及聚 (甲基）丙烯腈或它們的衍生物而成的混合物、或包含聚苯乙烯及聚（甲基）丙烯腈或它們 的衍生物而成的共聚物。后者的共聚物可以包含至少50質(zhì)量％的聚苯乙烯、進(jìn)一步更優(yōu)選 至少65質(zhì)量％的聚苯乙烯。為了得到對烴那樣的有機(jī)化學(xué)藥品的充分的抵抗性，熱塑性聚 合物粒子優(yōu)選包含至少5質(zhì)量％的歐洲專利第1，219, 416號說明書中記載的那樣的含氮單 元、更優(yōu)選至少30質(zhì)量％的（甲基）丙烯腈那樣的含氮單元。根據(jù)最優(yōu)選的方式，熱塑性 聚合物粒子由I : 1?5 : 1(苯乙烯：丙烯腈）的質(zhì)量比的例如2 : 1的比率的本質(zhì)上 的苯乙烯及丙烯腈單元構(gòu)成。
[0298] 熱塑性聚合物粒子的重均分子量優(yōu)選為5, 000?1，000, OOOg/摩爾的范圍內(nèi)。
[0299] (紅外線吸收劑）
[0300] 紅外線吸收劑在圖像記錄層中的濃度優(yōu)選根據(jù)圖像記錄層中的全部成分的重量 至少為6質(zhì)量％，更優(yōu)選至少為8質(zhì)量％。優(yōu)選的IR吸收化合物為花青、部花青、靛苯胺 (indoaniline)、氧雜菁、批喃鐵及方酸菁染料那樣的染料或碳黑那樣的顏料。作為適合的 紅外線吸收劑的例子，記載于例如歐洲專利第823327號、第978376號、第1029667號、第 1053868號、第1093934號說明書、國際公開第97/39894號及第00/29214號公報(bào)中。優(yōu)選 的化合物為以下的花青染料。
[0301] [化學(xué)式1]
[0302]

【權(quán)利要求】
1. 一種平版印刷版用支撐體，其是具備鋁板和位于該鋁板上的鋁的陽極氧化皮膜、且 在所述陽極氧化皮膜中具有從與所述鋁板相反側(cè)的表面向深度方向延伸的微孔的平版印 刷版用支撐體， 所述微孔具有從所述陽極氧化皮膜表面延伸至平均深度為75?120nm即深度A的位 置的大直徑孔部、和與所述大直徑孔部的底部連通且從連通位置延伸至平均深度為900? 2000nm的位置的小直徑孔部， 所述大直徑孔部在所述陽極氧化皮膜表面的平均直徑為l〇nm以上且低于30nm，所述 大直徑孔部的所述平均直徑與深度A滿足深度A/平均直徑=超過4. 0且為12. 0以下的關(guān) 系， 所述小直徑孔部在所述連通位置的平均直徑為大于〇且低于10. 〇nm。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷板用支撐體，其中，所述小直徑孔部具有平均深度 不同的第一小直徑孔部和第二小直徑孔部， 所述第一小直徑孔部的平均深度比所述第二小直徑孔部的平均深度深， 從所述第一小直徑孔部的底部至所述鋁板表面為止的陽極氧化皮膜的平均厚度為 17nm以上，最小厚度為15nm以上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版板用支撐體，其中，所述第一小直徑孔部的密 度為550?700個/iim2。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體，其中，所述第一小直徑孔 部的平均深度與所述第二小直徑孔部的平均深度之差為75?200nm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體，其中，所述大直徑孔部的 直徑從所述陽極氧化皮膜表面向著所述鋁板側(cè)逐漸增加，與所述大直徑孔部在所述陽極氧 化皮膜表面的平均直徑即表層平均直徑相比，所述連通位置的大直徑孔部的平均直徑即底 部平均直徑大，所述底部平均直徑為超過l〇nm且為60nm以下，所述底部平均直徑與深度A 之比即深度A/底部平均直徑為1. 2以上且低于12. 0。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的平版印刷版用支撐體，其中，所述大直徑孔部的下述式（A)所 示的表面積增加倍率為1. 9?16. 0， 式（A):(表面積增加倍率）=1+孔密度X ((Jr X (表層平均直徑/2+底部平均 直徑/2) X ((底部平均直徑/2-表層平均直徑/2)2+深度A2)1/2+ X (底部平均直徑 /2)2-ji X(表層平均直徑/2)2))。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體，其中，所述大直徑孔部在 陽極氧化皮膜表面的平均直徑與所述小直徑孔部在所述連通位置的平均直徑之比即大直 徑孔部的平均直徑/小直徑孔部的平均直徑為超過1. 00且為1. 50以下。
8. -種平版印刷版原版，其特征在于，在權(quán)利要求1?7中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用 支撐體上具有圖像記錄層。
9. 一種平版印刷版用支撐體的制造方法，其是制造權(quán)利要求1?7中任一項(xiàng)所述的平 版印刷版用支撐體的方法，其具備以下工序： 對鋁板進(jìn)行陽極氧化的第一陽極氧化處理工序；和 將所述第一陽極氧化處理工序中得到的具有陽極氧化皮膜的鋁板進(jìn)一步進(jìn)行陽極氧 化的第二陽極氧化處理工序。
【文檔編號】G03F7/00GK104487261SQ201380039683
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2013年7月26日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月27日
【發(fā)明者】田川義治, 黑川真也, 松浦睦, 宮川侑也, 澤田宏和, 西野溫夫 申請人:富士膠片株式會社