光學(xué)薄膜、光學(xué)薄膜的制造方法、偏振板、顯示面板及顯示器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供具有硬度和耐溶劑擦拭性，且可長期持續(xù)抗靜電性能的光學(xué)薄膜及其制造方法。本發(fā)明是在透光性基材的一側(cè)設(shè)置膜厚1～40μm的硬涂層的光學(xué)薄膜，其特征為在所述硬涂層中包含含有陽離子和陰離子的離子液體；在所述硬涂層的膜厚方向上，在從所述硬涂層的所述透光性基材相反側(cè)的界面起算的50～700nm的區(qū)域中，存在有從所述界面起至700nm為止的區(qū)域中存在的所述離子液體的存在量的峰值。
【專利說明】光學(xué)薄膜、光學(xué)薄膜的制造方法、偏振板、顯示面板及顯示 器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜、其制造方法、具備該光學(xué)薄膜的偏振板、顯示面板及顯示 器。

【背景技術(shù)】
[0002] 若電視機和個人計算機的顯示器的顯示面積存靜電，則會附著塵埃而導(dǎo)致辨識性 下降。為了防止此情況，采用使顯示器所使用的透明表面薄膜具有某程度的導(dǎo)電性，以使靜 電逸散的方法。
[0003] 為了具有導(dǎo)電性，有在表面薄膜所涂布的硬涂層內(nèi)，添加金屬氧化物的微粒的方 法（形成電子電導(dǎo)通道）；添加表面活性劑是的抗靜電劑的方法（形成離子電導(dǎo)通道）；以 及在表面薄膜本身用金屬和導(dǎo)電聚合物設(shè)置網(wǎng)孔狀的導(dǎo)電通道的方法等手段。
[0004] 但是，在這些方法中，分別具有問題。即，在表面薄膜本身設(shè)置網(wǎng)孔狀電導(dǎo)通道的 方法，圖像的辨識性也相應(yīng)惡化。另外，添加金屬氧化物微粒的方法會產(chǎn)生如下的問題：隨 著粒子種類和含量的不同，導(dǎo)電性也存在巨大差異，而且，粒子本身也會造成辨識性惡化。
[0005] 作為解決此問題的方法，也有經(jīng)由濺射制作透明導(dǎo)電膜的方法，但必須逐一抽真 空，其現(xiàn)狀為耗費制造成本。
[0006] 另外，添加表面活性劑是的抗靜電劑的方法是通過離子使靜電逸散的方法，但為 了生成離子，必須有水（空氣中的水分）。但是，在干燥的環(huán)境下，即水分少的狀況下，由于 不會生成離子，故具有導(dǎo)電顯著下降的問題。
[0007] 于是，本案 申請人:提出了作為無上述問題的抗靜電劑而使用了"離子液體"的申請 (參照專利文獻1)。離子液體包含陽離子和陰離子，于常溫下為液體，具有經(jīng)常發(fā)生離子的 特征。因此，通過將此材料組裝至硬涂層，可經(jīng)常發(fā)生離子，并且可憑借離子除去靜電。
[0008] 另外，為了使顯示器的顯示面等在操作時不會損傷，故要求透明表面薄膜為高硬 度（硬涂性）。
[0009] [現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0010] [專利文獻]
[0011] [專利文獻1]日本專利特開2008-274266號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

[0012](發(fā)明所要解決的問題）
[0013] 所述專利文獻1所公開的組合物通過涂布至基材，可用于賦予抗靜電性及硬涂 性。
[0014] 但是，已知若將離子液體180混入形成硬涂層的硬涂液并涂布，雖顯示抗靜電性 能，但硬涂層170內(nèi)的離子液體180會集結(jié)存在于硬涂層170的表層（圖8的左圖）。
[0015] 因此，若將如此處理制作的硬涂層170用附著溶劑的碎布等擦拭，在用溶劑將膜 (硬涂層170)濕潤后拭去，則如圖8所示，在層170表面浮起、凝集的離子液體180被除去， 新得知有無法取得充分的抗靜電性能（圖8的右圖）的問題。
[0016] 作為對于所述問題的對策，可考慮在混入離子液體180的硬涂層170上進一步將 具有覆蓋層作用的硬涂層190逐次進行涂布予以層疊（圖9的下圖）。
[0017] 但是，于此方法中，經(jīng)由涂布此覆蓋層190時所使用的溶劑，在下層硬涂層170表 層集結(jié)的離子液體180會不均勻擴散、溶出于硬涂層170上層設(shè)置的覆蓋層190,其結(jié)果，如 圖9所示，在覆蓋層190表面產(chǎn)生抗靜電劑的濃度不均勻化，并且于抗靜電性能方面產(chǎn)生不 均的問題。
[0018] 本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的，其目的在于提供硬涂層具有硬度（硬涂 性），且抗靜電劑難以被覆蓋層的溶劑或附著溶劑的碎布等從硬涂層除去的性質(zhì)（以下，稱 為耐溶劑擦拭性），且可長期持續(xù)抗靜電性能的光學(xué)薄膜、其制造方法、具備該光學(xué)薄膜的 偏振板、顯示面板及顯示器。
[0019] (解決問題的方法）
[0020] 本發(fā)明的主要內(nèi)容如下。
[0021] 1. 一種光學(xué)薄膜，其是在透光性基材的一側(cè)設(shè)置膜厚1?40 μ m的硬涂層的光學(xué) 薄膜，其特征在于，在所述硬涂層中包含含有陽離子和陰離子的離子液體；在所述硬涂層的 膜厚方向上，在從所述硬涂層的所述透光性基材相反側(cè)的界面起算的50?700nm的區(qū)域 中，存在有從所述界面起至700nm為止的區(qū)域中存在的所述離子液體的存在量的峰值。
[0022] 2.如所述1中記載的光學(xué)薄膜，其中，所述峰值的半值寬度為25?500nm。
[0023] 3.如所述1或2中記載的光學(xué)薄膜，其中，相對于所述從界面起至700nm為止的區(qū) 域中存在的所述離子液體的存在量，從所述界面起至50nm為止的區(qū)域中存在的所述離子 液體的存在量的比例為50%以下。
[0024] 4.如所述1至3中任一項記載的光學(xué)薄膜，其中，所述陽離子為從由季銨系陽離 子、季鱗系陽離子、咪唑鎗系陽離子、吡啶鎗系陽離子及吡咯烷鎗系陽離子所構(gòu)成的組中選 出的1種以上的陽離子。
[0025] 5.如所述1至4中任一項記載的光學(xué)薄膜，其中，
[0026] 所述硬涂層的表面電阻值為1.0Χ1013Ω/□以下。
[0027] 6.如所述1至5中任一項記載的光學(xué)薄膜，其中，在所述硬涂層的所述透光性基材 相反側(cè)的面設(shè)置有低折射率層。
[0028] 7. -種光學(xué)薄膜的制造方法，其特征為包括：
[0029] (i)準備透光性基材的步驟；（ii)準備包含含有陽離子和陰離子的離子液體、第 一固化性樹脂及第一溶劑的第一硬涂層用固化性樹脂組合物，以及含有第二固化性樹脂及 第二溶劑的第二硬涂層用固化性樹脂組合物的步驟；（iii)在所述透光性基材的一側(cè)，從 該透光性基材側(cè)開始以至少使所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物及第二硬涂層用固化 性樹脂組合物鄰接的方式進行同時涂布，來制作涂膜的步驟；以及（iv)使所述（iii)步驟 所得的涂膜干燥、固化的步驟。
[0030] 8.如所述7中記載的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，所述陽離子為從由季銨系陽離 子、季鱗系陽離子、咪唑鎗系陽離子、吡啶鎗系陽離子及吡咯烷鎗系陽離子所構(gòu)成的組中選 出的1種以上的陽離子。
[0031] 9. 一種偏振板，其特征為，在所述1至6中任一項所述的光學(xué)薄膜的所述透光性基 材側(cè)的面設(shè)置有偏振兀件。
[0032] 10. -種顯示面板，其特征為具備所述1至6中任一項記載的光學(xué)薄膜。
[0033] 11. -種顯示面板，其特征為具備所述10中記載的偏振板。
[0034] 12. -種顯示器，其特征為具備所述1至6中任一項記載的光學(xué)薄膜。
[0035] 13. -種顯示器，其特征為具備所述11中記載的顯示面板。
[0036] 14. 一種顯示器，其特征為具備所述12中記載的顯示面板。
[0037][發(fā)明效果]
[0038] 本發(fā)明可提供具有硬度和離子液體的耐溶劑擦拭性，可長期持續(xù)抗靜電性能的光 學(xué)薄膜、其制造方法、具備該光學(xué)薄膜的偏振板、顯示面板及顯示器。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0039] 圖1示出本發(fā)明的光學(xué)薄膜的第一方式的剖面的一例的示意圖。
[0040] 圖2示出本發(fā)明的光學(xué)薄膜的第二方式的剖面的一例的示意圖。
[0041] 圖3示出本發(fā)明的光學(xué)薄膜的第三方式的剖面的一例的示意圖。
[0042] 圖4示出使用擠壓型模具涂敷器的同時涂布方法的一例的示意圖。
[0043] 圖5示意性示出本發(fā)明的偏振板一例的剖面圖。
[0044] 圖6示出實施例1?3的硬涂層中的深度方向的硫原子的分布圖。
[0045] 圖7示出比較例1?3的硬涂層中的深度方向的硫原子的分布圖。
[0046] 圖8是具有離子液體的現(xiàn)有硬涂層表面用溶劑擦拭時的概念圖。
[0047] 圖9是在具有離子液體的現(xiàn)有硬涂層表面設(shè)置覆蓋層的情況的概念圖。

【具體實施方式】
[0048] 以下，首先說明關(guān)于本發(fā)明的光學(xué)薄膜，其次說明關(guān)于本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造 方法、偏振板、顯示面板及顯示器。
[0049] 于本發(fā)明中，（甲基）丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，（甲基）丙烯 酸是指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
[0050] 于本發(fā)明中，所謂"硬涂層"，是指以JIS K5600-5-4(1999)規(guī)定的鉛筆硬度試驗 (4. 9Ν荷重），顯示"Η"以上的硬度者。
[0051] 于本發(fā)明中，所謂微粒（包含高折射率微粒）的平均粒徑，在組合物中的微粒的情 況下，是指以動態(tài)光散亂方法測定溶液中的粒子時的平均粒徑，可使用日機裝（股）制的 Microtrac粒度分析計算定。硬涂層中的微粒的情況，是指以ΤΕΜ照片觀察硬涂層剖面的 20個粒子的平均值。
[0052] 于本發(fā)明中，所謂分子量，在不具有分子量分布的情況下，是指化合物本身的分子 量，在具有分子量分布的情況下，是指于THF溶劑中使用凝膠滲透層析（HLC-8220GPC)及數(shù) 據(jù)解析軟件（東梭（股）制）測定（GPC)所測定的聚苯乙烯換算值的重量平均分子量Mw， 關(guān)于Ni個的分子量Mi的分子（i = 1、2、3、…）所構(gòu)成的他分散系，重均分子量Mw以下述 式⑴求出。
[0053] [數(shù) 1]
[0054]

【權(quán)利要求】
1. 一種光學(xué)薄膜的制造方法，其特征為包括： (i) 準備透光性基材的步驟； (ii) 準備包含含有陽離子和陰離子的離子液體、第一固化性樹脂及第一溶劑的第一硬 涂層用固化性樹脂組合物，以及包含第二固化性樹脂及第二溶劑的第二硬涂層用固化性樹 脂組合物的步驟； (iii) 在所述透光性基材的一側(cè)，從該透光性基材側(cè)開始以至少使所述第一硬涂層用 固化性樹脂組合物及第二硬涂層用固化性樹脂組合物在基材側(cè)的縱方向上鄰接的方式進 行同時涂布，來制作涂膜的步驟；以及 (iv) 使所述（iii)步驟所得的涂膜干燥、固化來形成硬涂層的步驟。
2. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，所述工序（iv)中，形成具有膜厚 1?40 μ m的下述硬涂層，所述硬涂層是在其膜厚方向上，在所述硬涂層的與所述透光性基 材相反一側(cè)的界面起算50?700nm的區(qū)域，存在有從所述界面起至700nm為止的區(qū)域中存 在的所述離子液體存在量的峰值的硬涂層。
3. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其中， 所述陽離子為從由季銨系陽離子、季鱗系陽離子、咪唑鎗系陽離子、吡啶鎗系陽離子及 吡咯烷鎗系陽離子所構(gòu)成的組中選出的1種以上的陽離子。
【文檔編號】G02B5/30GK104101915SQ201410299390
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2010年12月22日 優(yōu)先權(quán)日:2009年12月28日
【發(fā)明者】村上茂樹, 唯木隆伸 申請人:大日本印刷株式會社