偏極化曝光裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種偏極化曝光裝置是用以對一基板進(jìn)行曝光并包含一基板承載單元、一溫控單元以及一曝光單元?；宄休d單元用以承載基板。溫控單元控制基板達(dá)到一工藝溫度。曝光單元提供一偏極化光，并對該基板進(jìn)行曝光。以此，本實用新型可提高曝光效能并縮短工站時間。
【專利說明】偏極化曝光裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型是關(guān)于一種曝光裝置，特別關(guān)于一種偏極化曝光裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]液晶配向技術(shù)為決定一液晶顯示裝置所顯示畫面品質(zhì)的關(guān)鍵技術(shù)之一。只有液晶顯示面板內(nèi)液晶材料具有穩(wěn)定且均勻的初始排列，才能呈現(xiàn)高品質(zhì)的畫面。一般液晶顯示裝置內(nèi)具有用來誘導(dǎo)液晶分子定向排列的薄層，稱為液晶配向?qū)?al i gnment I ay er )。
[0003]目前業(yè)界在廣視角技術(shù)的應(yīng)用中，如垂直配向型(VA)、平面內(nèi)轉(zhuǎn)換型(In-PlaneSwitching, IPS)與邊緣電場轉(zhuǎn)換型(Fringe Field Switching, FFS),已利用光配向(Photo-alignment)技術(shù)來控制液晶分子配置方向，以提高產(chǎn)品光學(xué)性能與良率。但光配向材料往往需要高曝光量，以致工站時間增加并且產(chǎn)出量(throughput)下降。
[0004]因此，如何提供一種偏極化曝光裝置，能提高曝光效能并縮短工站時間進(jìn)而提升產(chǎn)出量，實為當(dāng)前重要課題之一。
實用新型內(nèi)容
[0005]有鑒于上述課題，本實用新型的目的為提供一種偏極化曝光裝置，能提高曝光效能并縮短工站時間進(jìn)而提升產(chǎn)出量。
[0006]為達(dá)上述目的，依本實用新型的一種偏極化曝光裝置用以對一基板進(jìn)行曝光并包含一基板承載單元、一溫控單元以及一曝光單元?；宄休d單元用以承載基板。溫控單元控制基板達(dá)到一工藝溫度。曝光單元提供一偏極化光，并對該基板進(jìn)行曝光。
[0007]在一實施例中，基板為一薄膜晶體管基板、一彩色濾光基板或一液晶顯不面板。
[0008]在一實施例中，基板承載單元具有一基板平臺以及一轉(zhuǎn)動模塊，基板設(shè)置于基板平臺上，轉(zhuǎn)動模塊使基板平臺轉(zhuǎn)動。
[0009]在一實施例中，溫控單兀具有一熱板、一熱風(fēng)提供模塊、一紅外線提供模塊或一激光提供模塊，以加熱基板達(dá)到工藝溫度。
[0010]在一實施例中，溫控單元對設(shè)置于基板承載單元上的基板進(jìn)行溫控。
[0011]在一實施例中，偏極化曝光裝置更包含一傳送單元，其中該傳送單元將經(jīng)該溫控單元的該基板傳送至該基板承載單元。
[0012]在一實施例中，溫控單元具有一第一溫控單元及一第二溫控單元，第一溫控單元對基板進(jìn)行溫控，一傳送單元將經(jīng)該第一溫控單元的基板傳送至基板承載單元，第二溫控單元對設(shè)置于基板承載單元上的基板進(jìn)行溫控。
[0013]在一實施例中，該基板進(jìn)行該曝光時達(dá)到該工藝溫度。
[0014]在一實施例中，該基板進(jìn)行曝光后，于在基板產(chǎn)生一光配向?qū)踊蛞还獬滩顚印?br> [0015]在一實施例中，曝光單兀包含一偏極化光源，偏極化光源鄰設(shè)于基板承載單兀。
[0016]承上所述，依本實用新型的偏極化曝光裝置包含一溫控單元，其可控制基板達(dá)到一工藝溫度，例如是利用加熱手段使基板達(dá)到工藝溫度。當(dāng)基板在工藝溫度時，其曝光效能會大幅提升，因而在同樣的曝光光源下，能縮短基板的曝光時間。因此，本實用新型的偏極化曝光裝置能縮短工站時間并提升產(chǎn)出量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為本實用新型一實施例的一種偏極化曝光裝置的示意圖。
[0018]圖2至圖5為本實用新型的一偏極化曝光裝置的不同實施態(tài)樣的示意圖。
[0019]附圖標(biāo)記
[0020]1:偏極化曝光裝置
[0021]11:基板承載單元
[0022]111:基板平臺
[0023]112:轉(zhuǎn)動模塊
[0024]12:溫控單元
[0025]121:第一溫控單元
[0026]122:第二溫控單元
[0027]13:曝光單元
[0028]14:清洗單元
[0029]15:傳送單元
[0030]S:基板
[0031]SD:掃描方向

【具體實施方式】
[0032]以下將參照相關(guān)附圖，說明依本實用新型較佳實施例的一種偏極化曝光裝置，其中相同的元件將以相同的元件符號加以說明。
[0033]圖1為本實用新型一實施例的一種偏極化曝光裝置I的示意圖。如圖1所示，偏極化曝光裝置I用以對一基板S進(jìn)行曝光并包含一基板承載單元11、一溫控單元12以及一曝光單元13。本實用新型不特別限制偏極化曝光裝置I的應(yīng)用范圍，其例如是應(yīng)用于一光配向工藝的曝光以產(chǎn)生一光配向?qū)?、或是?yīng)用于3D顯不面板的曝光以產(chǎn)生一光程差層(retardat1n layer)?；錝具有一光敏(photo-sensitive)材料以感測偏極化曝光裝置I的曝光單元13所發(fā)出的光線。其中，基板S例如是一素玻璃基板(即一單純的玻璃基材，尚未具有圖案化的層別)、一素軟性基板、一薄膜晶體管(TFT)基板、一彩色濾光(CF)基板或一液晶顯示(LCD)面板。此外，本實施例的偏極化曝光裝置I可應(yīng)用于廣視角技術(shù)，例如包含垂直配向型(VA)、平面內(nèi)轉(zhuǎn)換型(In-Plane Switching, IPS)與邊緣電場轉(zhuǎn)換型(FringeField Switching, FFS)顯不面板等等。
[0034]基板承載單元11用以承載基板S。基板承載單元11例如包含一基板平臺111，基板S可設(shè)置于基板平臺111上。在一實施例中，基板平臺111可平移及或轉(zhuǎn)動。在本實施例中，基板承載單元11更包含一轉(zhuǎn)動模塊112，其使基板平臺111轉(zhuǎn)動以致基板S可被旋轉(zhuǎn)至一特定方位適合于后續(xù)的工藝。轉(zhuǎn)動模塊112例如包含一驅(qū)動電機(jī)、一轉(zhuǎn)軸或其他合適的元件。由于轉(zhuǎn)動模塊112可利用已知技藝來達(dá)成，故于此不再贅述。
[0035]溫控單元12控制基板S達(dá)到一工藝溫度。于此，當(dāng)基板S達(dá)到工藝溫度時，其有利于曝光工藝的效能的提升。溫控單元12可使基板S升溫、降溫或升溫及降溫。本實施例的溫控單元12可應(yīng)用多種手段來達(dá)到，例如溫控單元12具有一熱板、一熱風(fēng)提供模塊、一紅外線提供模塊或一激光提供模塊，以加熱基板S達(dá)到工藝溫度。另外，溫控單元12對基板S進(jìn)行溫控的時間點(diǎn)可有多種態(tài)樣。在一態(tài)樣中，溫控單元12可對設(shè)置于基板承載單元11上的基板S進(jìn)行溫控。在另一態(tài)樣中，溫控單元12可對基板S進(jìn)行溫控，已溫控的基板S再通過一傳送單元傳送至基板承載單元11上。在另一態(tài)樣中，溫控單元12具有一第一溫控單元121及一第二溫控單元122，第一溫控單元121對基板S進(jìn)行溫控，一傳送單元將已溫控的基板S傳送至基板承載單元11，第二溫控單元122對設(shè)置于基板承載單元11上的基板S進(jìn)行溫控以使基板S達(dá)到所需的工藝溫度。據(jù)此，溫控單元12可與基板承載單元11整合、或是設(shè)置于基板承載單元11之外、或是一部分與基板承載單元11整合且另一部分設(shè)置于基板承載單元11之外。
[0036]另外，上述的工藝溫度可指有利于曝光工藝產(chǎn)生最大效能的溫度。或者，考慮到曝光時也會對基板提供一些熱能，因此工藝溫度也可比有利于曝光工藝產(chǎn)生最大效能的溫度再低一些的溫度。然而，本實用新型不限于此。
[0037]曝光單元13對達(dá)到工藝溫度的基板S進(jìn)行一偏極化曝光。曝光單元13包含一偏極化光源，偏極化光源例如具有至少一燈管或其他發(fā)光元件。偏極化光源例如發(fā)出線偏振、圓偏振或橢圓偏振的光線，可視實際需求而實施。偏極化光源例如為一紫外光光源，當(dāng)然，依據(jù)實際需求，其也可發(fā)出其他波長的光線。在一實施例中，偏極化光源鄰設(shè)于基板承載單元11的至少一部分。如此，當(dāng)基板S在基板平臺111上受溫控單元12的控制而使其達(dá)到工藝溫度時，可立即進(jìn)入曝光單元13的操作范圍而被曝光，藉此可使基板S維持在工藝溫度時進(jìn)行曝光，進(jìn)而提升曝光效能。
[0038]另外，在本實施例中，偏極化曝光裝置I可更包含一清洗單元14，其用以清洗基板
S。于此，基板S先經(jīng)過清洗單元14再經(jīng)過溫控單元12。換言之，基板S先由清洗單元14除去不必要的雜質(zhì)之后，再由溫控單元12進(jìn)行加熱。藉此可避免雜質(zhì)也被加熱而影響后續(xù)的曝光工藝。清洗單元14可利用干式或濕式來進(jìn)行清洗。
[0039]相較于已知技藝中基板不受溫度控制而直接進(jìn)行曝光，基板通過本實用新型的一實施例的溫控單元12控制在工藝溫度再進(jìn)行曝光時，依據(jù)驗證可使曝光時間縮短至少50%，進(jìn)而大幅減少工站時間并提升產(chǎn)出量。
[0040]本實施例的偏極化曝光裝置I具有多個實施態(tài)樣，以下以圖2至圖5舉例說明之，圖2至圖5為本實用新型的一偏極化曝光裝置I的不同實施態(tài)樣的示意圖。
[0041]如圖2所示，基板S設(shè)置于偏極化曝光裝置I的一基板平臺111上，并且溫控單元12與基板承載單元11連接、或是與基板承載單元11 一同整合。藉此，當(dāng)基板S設(shè)置于基板平臺111上時，溫控單元12可對基板S進(jìn)行溫控，而使其達(dá)到工藝溫度。在其他態(tài)樣中，溫控單元12可設(shè)置于基板平臺111之外，例如其上方，以對基板S加熱。然后，基板S被傳送至曝光單元13以進(jìn)行曝光。由于基板平臺111與曝光單元13相當(dāng)接近，因此基板S可在維持于工藝溫度的情況下進(jìn)行曝光，進(jìn)而提升曝光效能。
[0042]如圖3所示，溫控單元12設(shè)置于基板平臺111之外。于此，溫控單元12以包含一熱板為例?；錝先設(shè)置于溫控單元12上以受溫控單元12加熱至一工藝溫度。然后，一傳送單元15將已溫控的基板S傳送至基板平臺111上。傳送單元15例如包含一機(jī)械手臂及一驅(qū)動電機(jī)，驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動機(jī)械手臂以將基板S傳送至基板平臺111上。由于傳送單元15可利用已知技藝來達(dá)成，故于此不再贅述?；錝設(shè)置于基板平臺111上之后，可直接送入曝光單元13進(jìn)行曝光、或是先由上述的轉(zhuǎn)動模塊轉(zhuǎn)動至一特定角度再進(jìn)入曝光單元13進(jìn)行曝光。由于溫控單元12設(shè)置于基板平臺111之外，故可避免加熱至一工藝溫度所需的時間影響工站時間與產(chǎn)出量。
[0043]如圖4所示，基板S設(shè)置于基板平臺111上，溫控單元12設(shè)置于基板平臺111之夕卜，例如其上方。于此，溫控單元12以包含一激光提供模塊為例，激光提供模塊發(fā)射一激光光以對基板S加熱。在此態(tài)樣中，激光提供模塊可移動以對基板S的不同地方加熱，例如沿一掃描方向SD移動以對基板S均勻加熱，等溫控完成之后，基板S再送入曝光單元13進(jìn)行曝光?；蛘撸す馓峁┠K被固定，而基板平臺111可沿掃描方向SD的反方向朝曝光單元13前進(jìn)，使得基板S —面受激光提供模塊加熱，一面進(jìn)入曝光單元，藉此可縮短整體工藝時間并使基板S更能維持在工藝溫度的情況下進(jìn)行曝光。
[0044]如圖5所示，溫控單元12包含一第一溫控單元121及一第二溫控單元122。第一溫控單元121先對基板S進(jìn)行溫控。于此，第一溫控單元121設(shè)置于基板平臺111之外。第一溫控單元121將基板S加熱至一工藝溫度或接近該工藝溫度之后，傳送單元15將基板S傳送至基板平臺111上，第二溫控單元122再對基板S進(jìn)行溫控。于此，第二溫控單元122與基板承載單元11連接、或是與基板承載單元11 一同整合。通過第二溫控單元122對基板S的溫控，可使基板S更精確地維持在工藝溫度，以進(jìn)一步提升曝光效能。
[0045]需注意者，上述實施態(tài)樣的技術(shù)特征可單獨(dú)實施或合并實施。
[0046]綜上所述，依本實用新型的偏極化曝光裝置包含一溫控單元，其可控制基板達(dá)到一工藝溫度，例如是利用加熱手段使基板達(dá)到工藝溫度。當(dāng)基板在工藝溫度時，其曝光效能會大幅提升，因而在同樣的曝光光源下，能縮短基板的曝光時間。因此，本實用新型的偏極化曝光裝置能縮短工站時間并提升產(chǎn)出量。
[0047]以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本實用新型的精神與范疇，而對其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于上附的權(quán)利要求書范圍中。
【權(quán)利要求】
1.一種偏極化曝光裝置，用以對一基板進(jìn)行曝光，其特征在于，所述偏極化曝光裝置包含: 一基板承載單元，所述基板設(shè)置于所述基板承載單元上； 一溫控單元，與所述基板對應(yīng)設(shè)置并控制所述基板達(dá)到一工藝溫度；以及 一曝光單元，與所述基板對應(yīng)設(shè)置并提供一偏極化光，并對所述基板進(jìn)行曝光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述基板為一薄膜晶體管基板、一彩色濾光基板或一液晶顯不面板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述基板承載單元具有一基板平臺以及一轉(zhuǎn)動模塊，所述基板設(shè)置于所述基板平臺上，所述轉(zhuǎn)動模塊使所述基板平臺轉(zhuǎn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述溫控單元具有一熱板、一熱風(fēng)提供模塊、一紅外線提供模塊或一激光提供模塊，以加熱所述基板達(dá)到所述工藝溫度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述溫控單元對設(shè)置于所述基板承載單元上的所述基板進(jìn)行溫控。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述偏極化曝光裝置還包含: 一傳送單元，其中所述傳送單元將經(jīng)所述溫控單元的所述基板傳送至所述基板承載單J Li ο
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述溫控單元具有一第一溫控單元及一第二溫控單元，所述第一溫控單元對所述基板進(jìn)行溫控，一傳送單元將經(jīng)所述第一溫控單元的所述基板傳送至所述基板承載單元，所述第二溫控單元對設(shè)置于所述基板承載單元上的所述基板進(jìn)行溫控。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述基板進(jìn)行所述曝光時達(dá)到所述工藝溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述基板進(jìn)行曝光后，于所述基板產(chǎn)生一光配向?qū)踊蛞还獬滩顚印?br> 10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏極化曝光裝置，其特征在于，所述曝光單元包含一偏極化光源，所述偏極化光源鄰設(shè)于所述基板承載單元。
【文檔編號】G03F7/20GK204009353SQ201420065727
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年2月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月14日
【發(fā)明者】高克毅, 李建興, 紀(jì)仁海 申請人:群創(chuàng)光電股份有限公司