一種摩擦設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種摩擦設(shè)備，包括摩擦機臺和設(shè)在所述摩擦機臺上側(cè)的摩擦輥，所述摩擦機臺和/或摩擦輥內(nèi)分別設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)；所述空腔結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有冷卻介質(zhì)。本實用新型提供的摩擦設(shè)備，可把溫度與濕度分開進行調(diào)節(jié)，針對摩擦設(shè)備內(nèi)產(chǎn)生熱量的局部位置采用裝有冷卻介質(zhì)的空腔結(jié)構(gòu)進行冷卻，對摩擦機臺和摩擦輥進行局部降溫，既能達到降低溫度的作用，又能保持摩擦設(shè)備的濕度。
【專利說明】一種摩擦設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種摩擦設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]摩擦工藝是目前薄膜晶體管-液晶顯示器(TFT-1XD)行業(yè)中實現(xiàn)液晶取向一個至關(guān)重要的工藝。然而摩擦工藝是通過摩擦進行取向，摩擦過程中會產(chǎn)生大量的熱量。大量的熱量對摩擦設(shè)備內(nèi)部的局部環(huán)境的溫度和濕度產(chǎn)生影響；同時摩擦熱量過高會使摩擦過程中產(chǎn)生的取向膜碎屑更容易結(jié)合到取向膜表面，在取向膜上表現(xiàn)為亮點不良。如圖1所示，目前的摩擦設(shè)備包括摩擦輥I和摩擦基臺2，主要是采用自帶的溫濕度調(diào)節(jié)器(圖中未顯示)來進行，但是有很大的局限。因為摩擦設(shè)備是一個開放的設(shè)備(未封閉)，溫濕度調(diào)節(jié)導(dǎo)致耗能比較大，溫濕度調(diào)控范圍比較??；同時溫度、濕度又是相輔相成的兩個物理參數(shù)，降低溫度后濕度也會降低，導(dǎo)致靜電會增加，使摩擦工藝對半導(dǎo)體基板非常不利，會產(chǎn)生大量的靜電不良，所以溫度的調(diào)控范圍存在局限性。
[0003]為了解決以上問題，本實用新型做了有益改進。
實用新型內(nèi)容
[0004](一)要解決的技術(shù)問題
[0005]本實用新型的目的是提供一種可調(diào)節(jié)溫度的摩擦設(shè)備，能夠把摩擦設(shè)備的溫度和濕度分開進行調(diào)節(jié)，針對摩擦設(shè)備的局部位置進行局部降溫，既能達到降低溫度的作用，又能保持摩擦設(shè)備的濕度。
[0006](二)技術(shù)方案
[0007]本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:一種摩擦設(shè)備，包括摩擦機臺和設(shè)在所述摩擦機臺上側(cè)的摩擦輥，所述摩擦機臺和/或摩擦輥內(nèi)分別設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)；所述空腔結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有冷卻介質(zhì)。
[0008]進一步，還包括冷卻裝置；所述摩擦機臺和/或摩擦輥上分別設(shè)有與所述空腔結(jié)構(gòu)連接的冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口 ；所述冷卻介質(zhì)入口和所述冷卻介質(zhì)出口分別與所述冷卻裝置連接。
[0009]其中，所述冷卻裝置包括循環(huán)管路和設(shè)置在所述循環(huán)管路上的冷卻介質(zhì)循環(huán)泵，所述循環(huán)管路分別與所述冷卻介質(zhì)入口和所述冷卻介質(zhì)出口連接。
[0010]其中，所述摩擦輥內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口設(shè)置在所述摩擦輥的中心軸的一端，且所述冷卻介質(zhì)出口設(shè)置在所述摩擦輥的中心軸的另一端。
[0011]其中，所述摩擦機臺內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口均設(shè)置在所述摩擦機臺的同一側(cè)。
[0012]或者，所述摩擦機臺內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口設(shè)置在所述摩擦機臺的一側(cè)，且所述冷卻介質(zhì)出口設(shè)置在所述摩擦機臺的另一側(cè)。
[0013]其中，所述冷卻介質(zhì)為氣態(tài)冷卻劑、液態(tài)冷卻劑或汽水混合冷卻劑。
[0014]進一步，所述液態(tài)冷卻劑包括液態(tài)氮、液態(tài)氨或冷卻水。
[0015](三)有益效果
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)和產(chǎn)品相比，本實用新型有如下優(yōu)點:
[0017]1、本實用新型提供的摩擦設(shè)備，可把溫度和濕度分開進行調(diào)節(jié)，針對摩擦設(shè)備內(nèi)產(chǎn)生熱量的局部位置采用裝有冷卻介質(zhì)的空腔結(jié)構(gòu)進行冷卻，對摩擦機臺和摩擦輥進行局部降溫，既能達到降低溫度的作用，又能保持摩擦設(shè)備的濕度。
[0018]2、本實用新型能夠?qū)崿F(xiàn)摩擦設(shè)備溫度與濕度的分開調(diào)節(jié)，這樣大大提高了溫度的調(diào)控范圍，并且調(diào)節(jié)溫度效率大大增加，對于能耗和良品率的提升都有很大的意義。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1是現(xiàn)有的摩擦設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是本實用新型的摩擦設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]附圖中，各標(biāo)號所代表的組件列表如下:
[0022]1-摩擦輥；2_摩擦機臺；3_循環(huán)管路，4-空腔結(jié)構(gòu)。

【具體實施方式】
[0023]下面結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】做一個詳細的說明。
[0024]如圖2所示，本實施例提供一種用于顯示領(lǐng)域液晶取向工藝中使用的摩擦設(shè)備，其包括摩擦機臺2和設(shè)在所述摩擦機臺2上側(cè)的摩擦輥I，所述摩擦機臺2和/或摩擦輥I內(nèi)部分別設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)4 (摩擦輥中的空腔結(jié)構(gòu)未顯示)，所述空腔結(jié)構(gòu)4內(nèi)裝有冷卻介質(zhì)。冷卻介質(zhì)可采用低溫的氣體冷卻劑、液體冷卻劑或汽水混合冷卻劑等冷卻介質(zhì)。其中，本實施例可僅在摩擦機臺2和摩擦輥I其中一組件內(nèi)設(shè)置用于調(diào)溫的空腔結(jié)構(gòu)4，也可在兩種組件內(nèi)分別設(shè)置空腔結(jié)構(gòu)4。
[0025]在摩擦機臺2內(nèi)設(shè)置空腔結(jié)構(gòu)4，然后將低溫的氣體、液體冷卻劑或汽水混合冷卻劑等冷卻介質(zhì)放入空腔結(jié)構(gòu)4內(nèi)，對摩擦機臺2進行冷卻，實現(xiàn)摩擦機臺2及玻璃基板的降溫；將摩擦輥I設(shè)計為中空，同樣采用低溫的氣體、液體或汽水混合冷卻劑對摩擦輥I及摩擦布進行冷卻，既能達到降低溫度的作用，又能保持摩擦設(shè)備的濕度。
[0026]進一步，所述摩擦設(shè)備還包括冷卻裝置(圖中未顯示)。所述空腔結(jié)構(gòu)4上設(shè)有冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口，且所述冷卻介質(zhì)入口和所述冷卻介質(zhì)出口分別與所述冷卻裝置連接，從而通過冷卻裝置為空腔結(jié)構(gòu)提供冷卻介質(zhì)。
[0027]具體地，所述冷卻裝置可采用多種方式來對空腔結(jié)構(gòu)內(nèi)提供冷卻介質(zhì)。本實施例中優(yōu)選采用的方式為:冷卻設(shè)備包括循環(huán)管路3和設(shè)置在循環(huán)管路3上的冷卻介質(zhì)循環(huán)泵，所述循環(huán)管路3分別與所述冷卻介質(zhì)入口和所述冷卻介質(zhì)出口連接。冷卻介質(zhì)循環(huán)泵將冷卻介質(zhì)通過循環(huán)管路3傳送至空腔結(jié)構(gòu)內(nèi)，從而對摩擦輥I或摩擦機臺2進行冷卻。
[0028]其中，摩擦輥I設(shè)有中心軸,摩擦輥I整體圍繞中心軸旋轉(zhuǎn)。所述摩擦輥內(nèi)I設(shè)空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口設(shè)置在所述摩擦輥的中心軸的一端，且所述冷卻介質(zhì)出口設(shè)置在所述摩擦輥的中心軸的另一端。中心軸可穿過空腔結(jié)構(gòu)，也可設(shè)置在空腔結(jié)構(gòu)外。循環(huán)管路可通過中心軸處的冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口方便地向空腔結(jié)構(gòu)傳送冷卻介質(zhì)。
[0029]進一步，如圖2所示，所述摩擦機臺2內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)4時，所述冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口可均設(shè)置在所述摩擦機臺2的同一側(cè)；或，所述冷卻介質(zhì)入口設(shè)置在所述摩擦機臺2的一側(cè)，且所述冷卻介質(zhì)出口設(shè)置在所述摩擦機臺2的另一側(cè)。
[0030]其中，冷卻介質(zhì)可采用氣態(tài)冷卻劑、液態(tài)冷卻劑和汽水混合冷卻劑。液態(tài)冷卻劑可選用液態(tài)氮、液態(tài)氨或冷卻水。
[0031]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種摩擦設(shè)備，包括摩擦機臺和設(shè)在所述摩擦機臺上側(cè)的摩擦輥，其特征在于，所述摩擦機臺和/或摩擦輥內(nèi)分別設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)；所述空腔結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有冷卻介質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，還包括冷卻裝置；所述摩擦機臺和/或摩擦輥上分別設(shè)有與所述空腔結(jié)構(gòu)連接的冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口 ；所述冷卻介質(zhì)入口和所述冷卻介質(zhì)出口分別與所述冷卻裝置連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述冷卻裝置包括循環(huán)管路和設(shè)置在所述循環(huán)管路上的冷卻介質(zhì)循環(huán)泵，所述循環(huán)管路分別與所述冷卻介質(zhì)入口和所述冷卻介質(zhì)出口連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦輥內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口設(shè)置在所述摩擦輥的中心軸的一端，且所述冷卻介質(zhì)出口設(shè)置在所述摩擦輥的中心軸的另一端。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦機臺內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口均設(shè)置在所述摩擦機臺的同一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述摩擦機臺內(nèi)設(shè)有空腔結(jié)構(gòu)時，所述冷卻介質(zhì)入口設(shè)置在所述摩擦機臺的一側(cè)，且所述冷卻介質(zhì)出口設(shè)置在所述摩擦機臺的另一側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1?6任一項所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述冷卻介質(zhì)為氣態(tài)冷卻劑、液態(tài)冷卻劑或汽水混合冷卻劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的摩擦設(shè)備，其特征在于，所述液態(tài)冷卻劑包括液態(tài)氮、液態(tài)氨或冷卻水。
【文檔編號】G02F1/1337GK203838449SQ201420100432
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年3月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月6日
【發(fā)明者】董廷澤, 黃東升, 張志男, 管培強, 王羽佳 申請人:北京京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司