一種溫度控制曝光的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種溫度控制曝光機(jī)?，F(xiàn)有技術(shù)易導(dǎo)致曝光質(zhì)量無法控制，造成產(chǎn)品缺陷。本實(shí)用新型包括：曝光平臺(tái)，用以放置待曝光金屬片材；發(fā)光部件，通過支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置于曝光平臺(tái)上方；復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器，均布于曝光平臺(tái)上；控制器，分別連接光強(qiáng)傳感器及發(fā)光部件，用以根據(jù)光強(qiáng)傳感器的感應(yīng)結(jié)果控制發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度；溫度傳感器，設(shè)置于曝光平臺(tái)上,并與控制器連接；冷卻裝置，匹配于曝光平臺(tái)，并與控制器連接。本實(shí)用新型根據(jù)待曝光金屬片材的光環(huán)境調(diào)整發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度；光強(qiáng)傳感器的感光部通過待曝光金屬片材上的預(yù)制通孔進(jìn)行感應(yīng)，獲得的感應(yīng)結(jié)果更精確；當(dāng)溫度過高時(shí)冷卻裝置工作，進(jìn)行降溫，保持曝光區(qū)域處于合理的溫度。
【專利說明】一種溫度控制曝光機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于加工設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種金屬蝕刻片加工過程中的溫度控制曝光機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002]金屬蝕刻片是將金屬片材經(jīng)化學(xué)浸濕后得到的帶有預(yù)定圖文的金屬結(jié)構(gòu)，其被廣泛的應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域以及用做外觀裝飾件。
[0003]現(xiàn)有的金屬蝕刻片加工方法，一般是通過在金屬片材上滾涂光膠，隨后通過帶有預(yù)設(shè)圖案的光罩進(jìn)行曝光使金屬片材上留下圖案化的光膠膜，隨后通過化學(xué)浸蝕，將金屬片材上沒有覆蓋光膠膜的部分腐蝕，留下的部分則形成金屬蝕刻片。
[0004]曝光過程的控制直接關(guān)系到最終獲得金屬蝕刻片的圖紋精度，現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行曝光時(shí)由于發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度為事先預(yù)設(shè)，當(dāng)發(fā)光部件老化，或者曝光區(qū)域與發(fā)光部件之間的距離發(fā)生不可控制的變化時(shí)，如因機(jī)件磨損出現(xiàn)的位移，則會(huì)導(dǎo)致曝光質(zhì)量無法控制，可能造成最終產(chǎn)品的缺陷。
[0005]同時(shí)，由于曝光過程中光線照射以及機(jī)械部件運(yùn)轉(zhuǎn)會(huì)造成曝光區(qū)域溫度升高，過高的溫度會(huì)使金屬片材以及其上的光膠膜產(chǎn)生熱膨脹效應(yīng)，由于金屬片材和光膠膜的熱膨脹系數(shù)并不相同，從而可能造成光膠膜產(chǎn)生應(yīng)力，并在某些特定的環(huán)境中造成光膠膜變形或者脫落，影響最終產(chǎn)品的良率。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]針對(duì)現(xiàn)有的金屬蝕刻片曝光技術(shù)存在的上述問題，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案的主要目的是:提供一種可調(diào)節(jié)曝光區(qū)域溫度的溫度控制曝光機(jī)。
[0007]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了如下的技術(shù)方案:
[0008]一種溫度控制曝光機(jī)，其中，包括:
[0009]曝光平臺(tái)，用以放置待曝光金屬片材；
[0010]發(fā)光部件，通過支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述曝光平臺(tái)上方；
[0011]復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器，均布于所述曝光平臺(tái)上；
[0012]控制器，分別連接所述光強(qiáng)傳感器及所述發(fā)光部件，用以根據(jù)所述光強(qiáng)傳感器的感應(yīng)結(jié)果控制所述發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度；
[0013]溫度傳感器，設(shè)置于曝光平臺(tái)上，并與所述控制器連接；
[0014]冷卻裝置，匹配于所述曝光平臺(tái)，并與所述控制器連接。
[0015]本實(shí)用新型的另一方面，所述光強(qiáng)傳感器的布設(shè)于待曝光金屬片材放置范圍內(nèi)，所述金屬片材上預(yù)制通孔使所述光強(qiáng)傳感器的傳感部露出。
[0016]本實(shí)用新型的另一方面，還包括傳送裝置，所述傳送裝置連接于所述曝光平臺(tái)上，所述待曝光金屬片材設(shè)置于所述傳送裝置上。
[0017]本實(shí)用新型的另一方面，所述傳送裝置包括復(fù)數(shù)個(gè)被連續(xù)傳送的框架，每片待曝光金屬片材設(shè)置于所述框架內(nèi)。
[0018]本實(shí)用新型的另一方面，包括一箱體，所述曝光平臺(tái)及所述發(fā)光部件設(shè)置于所述箱體內(nèi)，所述傳送裝置通過所述箱體上的一第一開口由所述箱體外將所述框架傳送入所述箱體內(nèi)，并通過所述箱體上的一第二開口由所述箱體內(nèi)傳送出所述箱體外。
[0019]本實(shí)用新型的另一方面，所述第一開口及所述第二開口處分別設(shè)置有可升降的阻隔板。
[0020]本實(shí)用新型的另一方面，所述冷卻裝置為風(fēng)扇。
[0021]通過對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案的實(shí)施，可以獲得以下技術(shù)效果:
[0022]1，可根據(jù)待曝光金屬片材的光環(huán)境調(diào)整發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度；
[0023]2，光強(qiáng)傳感器的感光部通過待曝光金屬片材上的預(yù)制通孔進(jìn)行感應(yīng)，獲得的感應(yīng)結(jié)果更精確；
[0024]3，當(dāng)溫度過高時(shí)冷卻裝置工作，對(duì)曝光區(qū)域進(jìn)行降溫，保持曝光區(qū)域處于合理的溫度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1為本實(shí)用新型的溫度控制曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本實(shí)用新型的溫度控制曝光機(jī)的光強(qiáng)傳感器組的分布結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖3為本實(shí)用新型的曝光機(jī)的裝置連接結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0028]以下通過具體的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行說明，在與本實(shí)用新型的實(shí)用新型目的無沖突的前提下，下文中提到的實(shí)施例以及實(shí)施例中的技術(shù)特征可以相互組口 ο
[0029]如圖1-3所示，本實(shí)用新型提供一種溫度控制曝光機(jī)，其中，包括:
[0030]一種溫度控制曝光機(jī)，其中，包括:
[0031]曝光平臺(tái)1，用以放置待曝光金屬片材O ;
[0032]發(fā)光部件2，通過支撐結(jié)構(gòu)3設(shè)置于曝光平臺(tái)I上方；
[0033]復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器4，均布于曝光平臺(tái)I上；
[0034]控制器5，分別連接光強(qiáng)傳感器4及發(fā)光部件2，用以根據(jù)光強(qiáng)傳感器4的感應(yīng)結(jié)果控制發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度；
[0035]溫度傳感器51，設(shè)置于曝光平臺(tái)I上，并與控制器5連接；
[0036]冷卻裝置52，匹配于曝光平臺(tái)1，并與控制器5連接。
[0037]上述技術(shù)方案中，光強(qiáng)傳感器4布設(shè)于曝光臺(tái)I上，使光強(qiáng)傳感器4的感應(yīng)結(jié)果更接近待曝光金屬片材O所處的光環(huán)境，從而令控制器5對(duì)發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度的控制更精確。溫度傳感器51感應(yīng)曝光平臺(tái)I的溫度，當(dāng)溫度過高時(shí)啟動(dòng)冷卻裝置52進(jìn)行進(jìn)行，使曝光平臺(tái)I的溫度降低，從而控制曝光過程保持合理的溫度，防止溫度過高或者過低對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。
[0038]本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，光強(qiáng)傳感器4的布設(shè)于待曝光金屬片材O放置范圍內(nèi)，待曝光金屬片材O上預(yù)制通孔01使光強(qiáng)傳感器4中的傳感部露出。
[0039]該技術(shù)方案中，由于光強(qiáng)傳感器4的傳感部通過待曝光金屬片材O上的預(yù)制通孔露出，使光強(qiáng)傳感器4的傳感部感應(yīng)到待曝光金屬片材O的光照強(qiáng)度，從而進(jìn)一步提高控制器5對(duì)發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度的控制的精確性。
[0040]本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，還包括傳送裝置6，傳送裝置6連接于曝光平臺(tái)I上，待曝光金屬片材O設(shè)置于傳送裝置6上。傳送裝置6用于將待曝光金屬片材O傳送至曝光平臺(tái)I上。
[0041]本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，傳送裝置6包括復(fù)數(shù)個(gè)被連續(xù)傳送的框架61，每片待曝光金屬片材O設(shè)置于框架61內(nèi)。
[0042]本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，包括一箱體7，曝光平臺(tái)I及發(fā)光部件2設(shè)置于箱體7內(nèi)，傳送裝置6通過箱體7上的一第一開口 71由箱體7外將框架61傳送入箱體7內(nèi)，并通過箱體7上的一第二開口 72由箱體7內(nèi)傳送出箱體7外。
[0043]在一中較優(yōu)的實(shí)施例中，箱體7內(nèi)壁上可設(shè)置防反射層，進(jìn)一步的，防反射層可采用深色植絨層或者防反射涂料。通過防反射層可防止箱體7內(nèi)光線反射后光照能量疊加，導(dǎo)致曝光過程不可控制。
[0044]本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，第一開口 71及第二開口 72處分別設(shè)置有可升降的阻隔板73及阻隔板74。此技術(shù)方案中，當(dāng)箱體7中的金屬片材執(zhí)行曝光過程時(shí)阻隔板73及阻隔板74落下，封堵住第一開口 71及第二開口 72，使箱體7外的待曝光金屬片材O和已曝光金屬片材不會(huì)受到箱體7內(nèi)的發(fā)光部件2的光線影響。
[0045]本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，冷卻裝置52可采用風(fēng)扇，也可以采用具有冷卻液管道和風(fēng)機(jī)盤管的冷卻器。
[0046]上述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的部分體現(xiàn)，并不能涵蓋本實(shí)用新型的全部，在上述實(shí)施例以及附圖的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下可獲得更多的實(shí)施方式，因此這些不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下獲得的實(shí)施方式均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種溫度控制曝光機(jī),用于金屬片材曝光,其特征在于,包括: 曝光平臺(tái)，用以放置待曝光金屬片材； 發(fā)光部件，通過支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述曝光平臺(tái)上方； 復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器，均布于所述曝光平臺(tái)上； 控制器，分別連接所述光強(qiáng)傳感器及所述發(fā)光部件，用以根據(jù)所述光強(qiáng)傳感器的感應(yīng)結(jié)果控制所述發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度； 溫度傳感器，設(shè)置于曝光平臺(tái)上，并與所述控制器連接； 冷卻裝置，匹配于所述曝光平臺(tái)，并與所述控制器連接。
2.如權(quán)利要求1所述溫度控制曝光機(jī)，其特征在于:所述光強(qiáng)傳感器的布設(shè)于待曝光金屬片材放置范圍內(nèi)，所述金屬片材上預(yù)制通孔使所述光強(qiáng)傳感器的傳感部露出。
3.如權(quán)利要求1所述溫度控制曝光機(jī)，其特征在于:還包括傳送裝置，所述傳送裝置連接于所述曝光平臺(tái)上，所述待曝光金屬片材設(shè)置于所述傳送裝置上。
4.如權(quán)利要求3所述溫度控制曝光機(jī)，其特征在于:所述傳送裝置包括復(fù)數(shù)個(gè)被連續(xù)傳送的框架，每片待曝光金屬片材設(shè)置于所述框架內(nèi)。
5.如權(quán)利要求4所述溫度控制曝光機(jī)，其特征在于:還包括一箱體，所述曝光平臺(tái)及所述發(fā)光部件設(shè)置于所述箱體內(nèi)，所述傳送裝置通過所述箱體上的一第一開口由所述箱體外將所述框架傳送入所述箱體內(nèi)，并通過所述箱體上的一第二開口由所述箱體內(nèi)傳送出所述箱體外。
6.如權(quán)利要求5所述溫度控制曝光機(jī)，其特征在于:所述第一開口及所述第二開口處分別設(shè)置有可升降的阻隔板。
7.如權(quán)利要求1所述溫度控制曝光機(jī)，其特征在于:所述冷卻裝置為風(fēng)扇。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK203941383SQ201420373074
【公開日】2014年11月12日 申請(qǐng)日期:2014年7月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月7日
【發(fā)明者】王滿根 申請(qǐng)人:寧波東盛集成電路元件有限公司