本公開涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種彩膜基板以及具有該彩膜基板的顯示裝置。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，人們對(duì)顯示裝置的顯示品質(zhì)的追求越來越高，其中，窄邊框甚至于無邊框顯示屏幕已成為顯示屏幕設(shè)計(jì)的亮點(diǎn)之一。在顯示裝置的制造過程中，通常是將陣列基板和彩膜基板事先獨(dú)立制造，再將陣列基板和彩膜基板進(jìn)行對(duì)盒，形成液晶盒。其中，彩膜基板上的黑矩陣與陣列基板上的掃描線(柵線)、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管(tft)等部件的位置相對(duì)應(yīng)，以遮擋住掃描線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管等部件。

為了避免黑矩陣暴露在環(huán)境中，使靜電通過黑矩陣導(dǎo)入到液晶盒內(nèi)，造成液晶偏轉(zhuǎn)異常而導(dǎo)致的顯示不良。通常會(huì)在黑矩陣的周邊進(jìn)行開槽，將黑矩陣的邊緣和內(nèi)部斷開，以切斷靜電的導(dǎo)入路徑，防止靜電進(jìn)入液晶盒內(nèi)。但是，這種黑矩陣的開槽設(shè)計(jì)容易造成漏光，影響顯示效果。

需要說明的是，在上述背景技術(shù)部分公開的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開的背景的理解，因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本公開的目的在于提供一種彩膜基板以及具有該彩膜基板的顯示裝置，進(jìn)而至少在一定程度上克服由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺陷而導(dǎo)致的一個(gè)或者多個(gè)問題。

根據(jù)本公開的一個(gè)方面，提供一種彩膜基板，包括：

基板；

黑矩陣，設(shè)置于所述基板靠近陣列基板的一面，所述黑矩陣上設(shè)有將所述黑矩陣截?cái)嗟沫h(huán)形的凹槽，所述凹槽與所述黑矩陣邊沿的間距為預(yù)定距離；

遮光條，設(shè)置于所述基板遠(yuǎn)離所述陣列基板的一面，所述遮光條與所述凹槽相對(duì)應(yīng)，以遮蔽所述凹槽。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述遮光條的寬度大于或等于所述凹槽的寬度。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述遮光條的材質(zhì)與所述黑矩陣的材質(zhì)相同。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述黑矩陣和所述遮光條的電阻值均為10⁸ω～10⁹ω。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述預(yù)定距離為150um，所述凹槽的寬度為20um。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述遮光條為一體式的環(huán)狀結(jié)構(gòu)。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述彩膜基板還包括：

接線端，與所述黑矩陣的邊沿和/或所述遮光條導(dǎo)電連接；

導(dǎo)電線，與所述接線端導(dǎo)電連接，所述導(dǎo)電線用于導(dǎo)出靜電。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述接線端的材質(zhì)為導(dǎo)電銀膠。

在本公開的一種示例性實(shí)施方式中，所述接線端的數(shù)量為兩個(gè)。

根據(jù)本公開的一個(gè)方面，提供一種顯示裝置，包括上述任意一項(xiàng)所述的彩膜基板。

本公開的彩膜基板及顯示裝置，可通過環(huán)形的凹槽將黑矩陣截?cái)?，使黑矩陣被分割為凹槽圍繞的部分和凹槽外側(cè)的部分，避免靜電從黑矩陣的邊緣向內(nèi)導(dǎo)入，以防止顯示不良；

由于遮光條和黑矩陣位于基板的不同表面，且遮光條與凹槽相對(duì)應(yīng)，可通過遮光條對(duì)凹槽進(jìn)行遮蔽，從而防止在凹槽處出現(xiàn)漏光，以保證顯示效果；

可通過將黑矩陣的邊沿和遮光條接地將靜電導(dǎo)出，防止靜電殘留，可以避免在彩膜基板上采用高阻膜和防靜電的偏光膜，有利于降低成本。

應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本公開。

附圖說明

此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分，示出了符合本公開的實(shí)施方式，并與說明書一起用于解釋本公開的原理。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本公開的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明彩膜基板一實(shí)施方式的仰視圖。

圖2是圖1中a部的放大視圖。

圖3是本發(fā)明彩膜基板一實(shí)施方式的俯視圖。

圖4是本發(fā)明彩膜基板的局部截面圖。

圖5是是本發(fā)明顯示裝置的局部界面圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實(shí)施方式。然而，示例實(shí)施方式能夠以多種形式實(shí)施，且不應(yīng)被理解為限于在此闡述的實(shí)施方式；相反，提供這些實(shí)施方式使得本發(fā)明將全面和完整，并將示例實(shí)施方式的構(gòu)思全面地傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同或類似的結(jié)構(gòu)，因而將省略它們的詳細(xì)描述。

雖然本說明書中使用相對(duì)性的用語，例如“上”、“下”來描述圖標(biāo)的一個(gè)組件對(duì)于另一組件的相對(duì)關(guān)系，但是這些術(shù)語用于本說明書中僅出于方便，例如根據(jù)附圖中所述的示例的方向。能理解的是，如果將圖標(biāo)的裝置翻轉(zhuǎn)使其上下顛倒，則所敘述在“上”的組件將會(huì)成為在“下”的組件。當(dāng)某結(jié)構(gòu)在其它結(jié)構(gòu)“上”時(shí)，有可能是指某結(jié)構(gòu)一體形成于其它結(jié)構(gòu)上，或指某結(jié)構(gòu)“直接”設(shè)置在其它結(jié)構(gòu)上，或指某結(jié)構(gòu)通過另一結(jié)構(gòu)“間接”設(shè)置在其它結(jié)構(gòu)上。

用語“一個(gè)”、“一”、“該”和“所述”用以表示存在一個(gè)或多個(gè)要素/組成部分/等；用語“包括”和“具有”用以表示開放式的包括在內(nèi)的意思并且是指除了列出的要素/組成部分/等之外還可存在另外的要素/組成部分/等。

本發(fā)明示例實(shí)施方式提供了一種彩膜基板，可用于顯示裝置，該顯示裝置可包括陣列基板和與該陣列基板對(duì)盒的彩膜基板；如圖1～圖5所示，本實(shí)施方式的彩膜基板可以包括基板1、黑矩陣2和遮光條3。

在本實(shí)施方式中，基板1可為玻璃基板，其形狀可以是矩形，還可以是圓形、橢圓形等其它形狀；其尺寸可視其應(yīng)用的顯示裝置的尺寸而定，在此不做特殊限定；基板1靠近陣列基板6的表面可包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，顯示區(qū)用于顯示圖像，該非顯示區(qū)可位于顯示區(qū)的外圍。

在本實(shí)施方式中，如圖1、圖2和圖4所示，黑矩陣2可設(shè)置于基板1靠近陣列基板6的一面，且黑矩陣2上可開設(shè)環(huán)形的凹槽21，該凹槽21可將黑矩陣2截?cái)?，以將黑矩?分割為兩部分，即凹槽21所環(huán)繞的部分和凹槽21外側(cè)的部分；其中，凹槽21環(huán)繞的部分可位于基板1的顯示區(qū)，凹槽21外側(cè)的部分可位于非顯示區(qū)；黑矩陣21被凹槽21環(huán)繞的部分，即顯示區(qū)內(nèi)的部分可包括多個(gè)陣列分布的陣元；黑矩陣21位于凹槽21外側(cè)的部分，即位于非顯示區(qū)的部分可為環(huán)形。

在本實(shí)施方式中，上述凹槽21可靠近黑矩陣2的邊沿設(shè)置，且凹槽21與黑矩陣2的邊沿的間距可為預(yù)定距離，該預(yù)定距離可以是凹槽21的中心線至黑矩陣2邊沿的距離，或者該預(yù)定距離還可以是凹槽21上靠近黑矩陣2邊沿的側(cè)邊與黑矩陣2邊沿間的距離。該預(yù)定距離可以是150um或接近150um，例如145um、150um或155um等，當(dāng)然，該預(yù)定距離并不以此為限，其還可以采用其它取值，且不限定于150um或接近150um，具體可視黑矩陣2的整體尺寸而定；凹槽21的寬度可以是20um，當(dāng)然，凹槽21的寬度也可以是其它數(shù)值，在此不對(duì)凹槽21的寬度做特殊限定。此外，凹槽21的橫截面的形狀可以是矩形、半圓形，但不以此為限，其還可以是其它形狀。

在本實(shí)施方式中，形成上述黑矩陣2的工藝可參考現(xiàn)有技術(shù)中形成黑矩陣的工藝，其可包括依次進(jìn)行的涂布、曝光和顯影等步驟，舉例而言，可先在基板1上涂布用于制造黑矩陣2的黑色的光刻膠；然后，利用掩膜版遮蓋涂布光刻膠的基板1并進(jìn)行曝光；再利用顯影液對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影，以得到與黑矩陣2的圖案。形成黑矩陣2的工藝還可以包括對(duì)基板1的清洗等步驟，在此不再詳述。凹槽21可與黑矩陣2同時(shí)形成，也可在形成黑矩陣2后，再在黑矩陣2上開設(shè)，開設(shè)凹槽21的工藝在此不做特殊限定。

在本實(shí)施方式中，如圖3和圖4所示，遮光條3可采用與上述黑矩陣2相同的材質(zhì)，當(dāng)然，也可以采用其他材質(zhì)；舉例而言，黑矩陣2和遮光條3均可采用高電阻的材料，以增強(qiáng)對(duì)靜電的阻隔效果，其電阻值均可在10⁸ω～10⁹ω的范圍內(nèi)，但不以此為限。遮光條3可設(shè)置于基板1遠(yuǎn)離陣列基板6的一面，也就是說，遮光條3與黑矩陣2分別位于基板1的不同表面上，因而，遮光條3與黑矩陣2不接觸；遮光條3的形狀可與凹槽21相同，且遮光條3的寬度可大于或等于凹槽21的寬度；同時(shí)，遮光條3與凹槽21相對(duì)應(yīng)的設(shè)置于基板1上，可通過遮光條3對(duì)凹槽21進(jìn)行遮蔽，使得進(jìn)入凹槽21的光線被遮光條3所阻擋，從而防止顯示裝置在凹槽21處出現(xiàn)漏光，有利于保證顯示效果。遮光條3可為一體式的環(huán)狀結(jié)構(gòu)，或者遮光條3還可以是由多個(gè)獨(dú)立的邊條圍成的環(huán)狀結(jié)構(gòu)，在此不做特殊限定。遮光條3可采用與黑矩陣2的制造工藝相同的工藝，在此不再贅述。

在本實(shí)施方式中，如圖1和圖3所示，彩膜基板還可以包括接線端4和導(dǎo)電線5，其中：

接線端4可與黑矩陣2的邊沿導(dǎo)電連接，即與黑矩陣2位于凹槽21外側(cè)的部分與接線端4導(dǎo)電連接，以便將黑矩陣2上的靜電導(dǎo)出；接線端4也可與遮光條3導(dǎo)電連接，以便將遮光條3上的靜電導(dǎo)出；且接線端4的數(shù)量可以是一個(gè)、兩個(gè)或者更多個(gè)；接線端4的材質(zhì)可以是導(dǎo)電銀膠，當(dāng)然，也可以是其它導(dǎo)電材質(zhì)。

需要說明的是，接線端4可與黑矩陣2的邊沿和遮光條3之一導(dǎo)電連接，也可同時(shí)與黑矩陣2的邊沿或遮光條3導(dǎo)電連接。

導(dǎo)電線5的一端可與接線端4導(dǎo)電連接，另一端可接地或與其它用于消除靜電的裝置連接，在此不作限定，從而可通導(dǎo)電線5將接線端4上的靜電導(dǎo)出；導(dǎo)電線5的數(shù)量在此不做特殊限定，其可與接線端4的數(shù)量相同，或者同一導(dǎo)電線5可連接多個(gè)接線端4。

在本實(shí)施方式中，彩膜基板還可以包括彩色濾光膜層、保護(hù)膜等其它組成部分，由于彩膜基板的其它構(gòu)成已為現(xiàn)有技術(shù)，故在此不再詳述，可參考現(xiàn)有彩膜基板的構(gòu)成。

本示例實(shí)施方式的彩膜基板，可通過環(huán)形的凹槽21將黑矩陣2截?cái)?，使黑矩?被分割為凹槽21圍繞的部分和凹槽21外側(cè)的部分，避免靜電從黑矩陣2的邊緣向內(nèi)導(dǎo)入，以防止顯示不良；由于遮光條3和凹槽21位于基板1的不同表面并與凹槽21對(duì)應(yīng)，可通過遮光條3對(duì)凹槽21進(jìn)行遮蔽，從而防止在凹槽21處出現(xiàn)漏光，以保證顯示效果；通過黑矩陣2的邊沿和遮光條3可將靜電導(dǎo)出，防止靜電殘留，從而避免在彩膜基板上采用高阻膜和防靜電的偏光膜，有利于降低成本。

本示例實(shí)施方式還提供了一種顯示裝置，如圖5所示，本實(shí)施方式的顯示裝置可以包括陣列基板6、偏光片7和上述任一實(shí)施方式所述的彩膜基板。由于本實(shí)施方式中的彩膜基板與上述彩膜基板的實(shí)施方式中的彩膜基板相同，因此，二者能解決相同的技術(shù)問題，并能達(dá)到相同的技術(shù)效果，在此不再贅述。

在本實(shí)施方式中，該陣列基板6可與上述彩膜基板對(duì)盒，偏光片7可設(shè)于彩膜基板遠(yuǎn)離陣列基板6的一側(cè)，陣列基板6和偏光片7的實(shí)施方式可參考現(xiàn)有顯示裝置，在此不再贅述。

在本實(shí)施方式中，顯示裝置還可以包括柔性電路板和驅(qū)動(dòng)電路等其它構(gòu)成，對(duì)于本實(shí)施方式中未詳述的顯示裝置的其它構(gòu)成可參考現(xiàn)技術(shù)，在此不再贅述。該顯示裝置的具體類型不限，例如，顯示裝置可以是液晶顯示器、平板電腦、手機(jī)、電子書、液晶電視等。

本領(lǐng)域技術(shù)人員在考慮說明書及實(shí)踐這里公開的發(fā)明后，將容易想到本公開的其它實(shí)施方案。本申請(qǐng)旨在涵蓋本公開的任何變型、用途或者適應(yīng)性變化，這些變型、用途或者適應(yīng)性變化遵循本公開的一般性原理并包括本公開未公開的本技術(shù)領(lǐng)域中的公知常識(shí)或慣用技術(shù)手段。說明書和實(shí)施方式僅被視為示例性的，本公開的真正范圍和精神由所附的權(quán)利要求指出。