本發(fā)明涉及液晶顯示器領(lǐng)域，特別是涉及一種配向膜制備方法、顯示基板及顯示面板。

背景技術(shù)：

在tft(thinfilmtransistor，薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管)-lcd(liquidcrystaldisplay液晶顯示器)制作中，無論tft基板還是cf(colorfilter，彩色濾光片)基板，其利用率均不可能為100％，除了受制于面板的尺寸與數(shù)量以外，其周邊均會(huì)有一定區(qū)域?yàn)槌赡げ痪蛘卟荒艹赡^(qū)，這個(gè)區(qū)域的大小受制于設(shè)備能力。

不能成膜區(qū)一般有部分膜層或無膜層，因其段差不受控制，故在rubbing(摩擦)配向過程中易影響cloth(摩擦布)特性，導(dǎo)致出現(xiàn)顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，并且無法從后端工藝進(jìn)行有效改善，造成了較大的良率損失。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于上述問題，提出了本發(fā)明實(shí)施例以便提供一種克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的一種配向膜制備方法、顯示基板及顯示面板。

本發(fā)明提供一種配向膜制備方法，包括：

在基板上形成待配向膜層，所述待配向膜層劃分為位于所述基板中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)和位于所述基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)，所述非有效成膜區(qū)內(nèi)所述待配向膜層的厚度不均一；

在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，以使所述非有效成膜區(qū)的所述待配向膜層與所述補(bǔ)償膜層的總厚度與所述成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致；

對(duì)所述待配向膜層及所述補(bǔ)償膜層進(jìn)行配向，以形成配向膜。

可選地，在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，包括：

采用apr版在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，其中，所述apr版線數(shù)隨所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層厚度的變小而遞增。

可選地，在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，包括：

采用點(diǎn)噴涂方式在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，并控制點(diǎn)噴涂采用的噴頭的噴出量在所述非有效成膜區(qū)內(nèi)隨待配向膜層厚度的變小而遞增。

可選地，所述控制點(diǎn)噴涂采用的噴頭的噴出量在所述非有效成膜區(qū)內(nèi)隨待配向膜層厚度的變小而遞增，包括：

通過控制所述噴頭的數(shù)量、流量、噴涂時(shí)間中的至少一種，控制所述噴頭的噴出量在所述非有效成膜區(qū)內(nèi)隨待配向膜層厚度的變小而遞增。

可選地，所述在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，還包括：

檢測(cè)所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及所述補(bǔ)償膜層的厚度；

根據(jù)所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及所述補(bǔ)償膜層的厚度，調(diào)整所述噴頭的噴出量。

可選地，所述檢測(cè)所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及所述補(bǔ)償膜層的厚度，包括：

通過光傳感器實(shí)時(shí)檢測(cè)所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及所述補(bǔ)償膜層的厚度；或者，

通過膜厚測(cè)試儀檢測(cè)所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及所述補(bǔ)償膜層的厚度。

可選地，所述補(bǔ)償膜層的厚度范圍為

本發(fā)明實(shí)施例又提供了一種顯示基板，應(yīng)用于顯示面板，包括基板，以及在所述基板上形成的待配向膜層和補(bǔ)償膜層；其中，所述待配向膜層劃分為位于所述基板中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)和位于所述基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)；在所述非有效成膜區(qū)內(nèi)，所述補(bǔ)償膜覆蓋所述待配向膜層，且所述待配向膜層與所述補(bǔ)償膜層的總厚度與所述成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致。

可選地，所述非有效成膜區(qū)內(nèi)所述補(bǔ)償膜層的厚度范圍為

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板，所述顯示面板包含上述的顯示基板。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明包括以下優(yōu)點(diǎn)：

通過本發(fā)明實(shí)施例，在基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，使非有效成膜區(qū)的待配向膜層與補(bǔ)償膜層的總厚度與成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致，從而使基板非有效成膜區(qū)與成膜保證區(qū)之間的段差較小并且受控制，從而避免了在rubbing過程中影響cloth特性，減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提升了良率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例一的一種配向膜制備方法的步驟流程圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例一的形成待配向膜后的基板的示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例一的形成補(bǔ)償膜層后的基板的示意圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例二的一種配向膜制備方法的步驟流程圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例三的一種配向膜制備方法的步驟流程圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例四的一種顯示基板的示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

實(shí)施例一

詳細(xì)介紹本發(fā)明實(shí)施例提供的一種配向膜制備方法。

參照?qǐng)D1，示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的一種配向膜制備方法的步驟流程圖。所述方法包括：

步驟101，在基板上形成待配向膜層，所述待配向膜層劃分為位于所述基板中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)和位于所述基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)，所述非有效成膜區(qū)內(nèi)所述待配向膜層的厚度不均一。

本實(shí)施例中，在基板上形成待配向膜，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)形成待配向膜的方式不作詳細(xì)限定，可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行選取。參照?qǐng)D2所示的形成待配向膜后的基板的示意圖，形成待配向膜后，待配向膜層劃分為位于基板10中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)a和位于基板10邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)b，非有效成膜區(qū)b內(nèi)待配向膜層20的厚度不均一?；?1可以選用玻璃基板，也可以選用其他基板，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作詳細(xì)限定，可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行選取。

由于非有效成膜區(qū)b內(nèi)待配向膜層20的厚度不均勻，段差不受控制，因此在rubbing(摩擦)配向過程中易影響cloth(摩擦布)特性，導(dǎo)致顯示面板出現(xiàn)面內(nèi)顯示不均等不良情況，并且無法從后端工藝進(jìn)行有效改善，造成了較大的良率損失。

步驟102，在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，以使所述非有效成膜區(qū)的所述待配向膜層與所述補(bǔ)償膜層的總厚度與所述成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致。

本實(shí)施例中，非有效成膜區(qū)b內(nèi)待配向膜層20的厚度不均勻，因此在非有效成膜區(qū)b形成補(bǔ)償膜層30。參照?qǐng)D3所示的形成補(bǔ)償膜層后的基板，補(bǔ)償膜層30和待配向膜層20的總厚度，與成膜保證區(qū)的待配向膜層20厚度一致。本發(fā)明實(shí)施例對(duì)形成補(bǔ)償膜層的方式不作詳細(xì)限定，可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行選取。

步驟103，對(duì)所述待配向膜層及所述補(bǔ)償膜層進(jìn)行配向，以形成配向膜。

本實(shí)施例中，采用rubbing(摩擦)配向工藝對(duì)待配向膜層和補(bǔ)償膜層進(jìn)行配向，使待配向膜層以及補(bǔ)償膜層中的液晶分子按照一定方向排列。形成補(bǔ)償膜層后的非有效成膜區(qū)b內(nèi)膜層厚度均一，不存在段差，因此rubbing過程中不影響影響待配向膜層的cloth特性，從而減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提高了良率。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中，基板上非有效成膜區(qū)的待配向膜層與補(bǔ)償膜層的總厚度與成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致，基板非有效成膜區(qū)與成膜保證區(qū)之間的段差較小并且受控制，從而避免了在rubbing過程中影響cloth特性，減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提升了良率。

實(shí)施例二

詳細(xì)介紹本發(fā)明實(shí)施例提供的一種配向膜制備方法。

參照?qǐng)D4，示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的一種配向膜制備方法的步驟流程圖。所述方法包括：

步驟201，在基板上形成待配向膜層，所述待配向膜層劃分為位于所述基板中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)和位于所述基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)，所述非有效成膜區(qū)內(nèi)所述待配向膜層的厚度不均一。

該步驟與前述步驟101類似，此處不再贅述。

步驟202，采用apr版在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，其中，所述apr版線數(shù)隨所述非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層厚度的變小而遞增。

本實(shí)施例中，在非有效成膜區(qū)b形成補(bǔ)償膜層30可以采用印刷apr版的方式。由生產(chǎn)廠家按照設(shè)定的補(bǔ)償膜層的厚度制備成apr版，將已制備好的apr版粘貼在轉(zhuǎn)印滾筒上，再使用轉(zhuǎn)印滾筒將apr版印刷在基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)。印刷過程中，apr版線數(shù)隨非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層厚度的變小而遞增，從而使非有效成膜區(qū)內(nèi)補(bǔ)償膜層30和待配向膜層20的總厚度與成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致。

apr版的線數(shù)可以根據(jù)經(jīng)驗(yàn)值進(jìn)行設(shè)置，具體地，收集多組非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度，可以根據(jù)待配向膜層的厚度范圍設(shè)置apr版的線數(shù)，也可以根據(jù)待配向膜層的厚度均值設(shè)置apr版的線數(shù)。隨著收集到的待配向膜層的厚度值越來越多，可以對(duì)設(shè)置的apr版的線數(shù)進(jìn)行不斷修正。

本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中，補(bǔ)償膜層可以采用紫外線固化聚氨酯類樹脂。

步驟203，對(duì)所述待配向膜層及所述補(bǔ)償膜層進(jìn)行配向，以形成配向膜。

該步驟與前述步驟103類似，此處不再贅述。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中，根據(jù)經(jīng)驗(yàn)值制備apr版后在基板上形成補(bǔ)償膜層，apr版預(yù)先制備，無需改變現(xiàn)有工藝流程。非有效成膜區(qū)內(nèi)補(bǔ)償膜層和待配向膜層的總厚度與成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致，使基板非有效成膜區(qū)與成膜保證區(qū)之間的段差較小并且受控制，從而避免了在rubbing過程中影響cloth特性，減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提升了良率。

實(shí)施例三

詳細(xì)介紹本發(fā)明實(shí)施例提供的一種配向膜制備方法。

參照?qǐng)D5，示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的一種配向膜制備方法的步驟流程圖。所述方法包括：

步驟301，在基板上形成待配向膜層，所述待配向膜層劃分為位于所述基板中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)和位于所述基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)，所述非有效成膜區(qū)內(nèi)所述待配向膜層的厚度不均一。

該步驟與前述步驟101類似，此處不再贅述。

步驟302，采用點(diǎn)噴涂方式在所述非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層，并控制點(diǎn)噴涂采用的噴頭的噴出量在所述非有效成膜區(qū)內(nèi)隨待配向膜層厚度的變小而遞增。

本實(shí)施例中，在非有效成膜區(qū)形成補(bǔ)償膜層還可以采用點(diǎn)噴涂的方式。通過控制噴頭的數(shù)量、流量、噴涂時(shí)間中的至少一種，控制噴頭的噴出量在非有效成膜區(qū)內(nèi)隨待配向膜層厚度的變小而遞增。例如，控制噴頭的數(shù)量隨待配向膜層厚度的變小而增多，或者控制噴涂的流量隨待配向膜層厚度的變小而變大，還可以控制噴涂的時(shí)間隨待配向膜層厚度的變小而增長(zhǎng)。

本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中，在噴涂補(bǔ)償膜層之前，檢測(cè)非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及補(bǔ)償膜層的厚度。具體地，通過光傳感器實(shí)時(shí)檢測(cè)非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及補(bǔ)償膜層的厚度；或者，通過膜厚測(cè)試儀檢測(cè)非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及補(bǔ)償膜層的厚度。例如，通過光傳感器實(shí)時(shí)檢測(cè)非有效成膜區(qū)b內(nèi)待配向膜層20的厚度為補(bǔ)償后膜層的目標(biāo)厚度為則可計(jì)算出補(bǔ)償膜層的厚度為

得到待配向膜層和補(bǔ)償膜層的厚度之后，根據(jù)非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及補(bǔ)償膜層的厚度，調(diào)整噴頭的噴出量，從而使非有效成膜區(qū)內(nèi)補(bǔ)償膜層30和待配向膜層20的總厚度與成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致。

本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中，所述補(bǔ)償膜層的厚度范圍為

步驟303，對(duì)所述待配向膜層及所述補(bǔ)償膜層進(jìn)行配向，以形成配向膜。

該步驟與前述步驟103類似，此處不再贅述。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中，在噴涂補(bǔ)償膜之前，檢測(cè)非有效成膜區(qū)內(nèi)待配向膜層的厚度及補(bǔ)償膜層的厚度，可以在噴涂補(bǔ)償膜時(shí)實(shí)時(shí)調(diào)整補(bǔ)償膜層的厚度，對(duì)待配向膜的補(bǔ)償精度更高，使基板非有效成膜區(qū)與成膜保證區(qū)之間的段差較小并且受控制，從而避免了在rubbing過程中影響cloth特性，減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提升了良率。

對(duì)于前述的各方法實(shí)施例，為了簡(jiǎn)單描述，故將其都表述為一系列的動(dòng)作組合，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該知悉，本發(fā)明并不受所描述的動(dòng)作順序的限制，因?yàn)橐罁?jù)本發(fā)明，某些步驟可以采用其他順序或者同時(shí)進(jìn)行。其次，本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該知悉，說明書中所描述的實(shí)施例均屬于優(yōu)選實(shí)施例，所涉及的動(dòng)作和模塊并不一定是本發(fā)明所必須的。

實(shí)施例四

參照?qǐng)D6，示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板。所述顯示基板應(yīng)用于顯示面板，其特征在于，包括基板10，以及所述基板10上形成的待配向膜層20和補(bǔ)償膜層30；其中，所述待配向膜層劃分為位于所述基板中央?yún)^(qū)域的成膜保證區(qū)a和位于所述基板邊緣區(qū)域的非有效成膜區(qū)b；在所述非有效成膜區(qū)b內(nèi)，所述補(bǔ)償膜層30覆蓋所述待配向膜層20，且所述待配向膜層20與所述補(bǔ)償膜層20的總厚度與所述成膜保證區(qū)的待配向膜層20厚度一致。

本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施例中，所述非有效成膜區(qū)內(nèi)所述補(bǔ)償膜層的厚度范圍為

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中，顯示基板包括基板以及基板上形成的待配向膜層和補(bǔ)償膜層，補(bǔ)償膜層覆蓋待配向膜層，且待配向膜層與補(bǔ)償膜層的總厚度與成膜保證區(qū)的待配向膜層厚度一致。形成補(bǔ)償膜層后，基板上非有效成膜區(qū)與成膜保證區(qū)之間的段差較小并且受控制，從而避免了在rubbing過程中影響cloth特性，減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提升了良率。

實(shí)施例五

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板，所述顯示面板包含如實(shí)施例四所述的顯示基板。

本實(shí)施例中，實(shí)施例四所述的顯示基板在非有效成膜區(qū)b內(nèi)形成有補(bǔ)償膜層30，補(bǔ)償膜層30覆蓋所述待配向膜層20，且所述待配向膜層20與所述補(bǔ)償膜層30的總厚度與所述成膜保證區(qū)的待配向膜層20厚度一致。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中，顯示面板包含有形成有補(bǔ)償膜層的顯示基板，基板上非有效成膜區(qū)與成膜保證區(qū)之間的段差較小并且受控制，從而避免了在rubbing過程中影響cloth特性，減少了顯示面板面內(nèi)顯示不均等不良情況，提升了良率。

本說明書中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見即可。

最后，還需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、商品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、商品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、商品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上對(duì)本發(fā)明所提供的配向膜制備方法、顯示基板及顯示面板進(jìn)行了詳細(xì)介紹，本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體實(shí)施方式及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。