国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      相移掩模、相移掩模的制造方法以及顯示裝置的制造方法與流程

      文檔序號(hào):39615317發(fā)布日期:2024-10-11 13:26閱讀:48來源:國知局
      相移掩模、相移掩模的制造方法以及顯示裝置的制造方法與流程

      本發(fā)明涉及相移掩模、相移掩模的制造方法以及顯示裝置的制造方法。


      背景技術(shù):

      1、近年來,在以oled(organic?light?emitting?diode:有機(jī)發(fā)光二極管)為代表的fpd(flat?panel?display:平板顯示器)等顯示裝置中,大畫面化、廣視角化、折疊等的柔性化以及高精細(xì)化、高速顯示化得到急速發(fā)展。該高精細(xì)化、高速顯示化所需的要素之一是制作細(xì)微且尺寸精度高的元件和布線等電子電路圖案。該顯示裝置用電子電路的圖案化大多使用光刻法。因此,需要形成有細(xì)微且高精度的圖案的顯示裝置制造用的相移掩模。該相移掩模中,相當(dāng)于二元掩模的遮光部的部分由具有低透射率和180度相移量的半色調(diào)膜形成。

      2、例如,在專利文獻(xiàn)1中記載了一種相移掩模的制造方法,該相移掩模在透明基板1上具備包含由半透光膜2被圖案化而成的半透光部的轉(zhuǎn)印用圖案,其中,半透光部12相對(duì)于曝光光的代表波長具有規(guī)定的透射率和大致180度的相位差,該相移掩模的制造方法包括在半透光部的包含缺陷的規(guī)定區(qū)域形成修正膜4的修正膜形成工序,修正膜是具有通過激光cvd法形成的修正膜a4a和通過聚焦離子束法形成的修正膜b4b的層疊膜。

      3、在先技術(shù)文獻(xiàn)

      4、專利文獻(xiàn)

      5、專利文獻(xiàn)1:日本特開2022-20120號(hào)公報(bào)


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、發(fā)明所要解決的課題

      2、例如,就上述顯示裝置中使用的薄膜晶體管(thin?film?transistor、“tft”)而言,如果構(gòu)成tft的多個(gè)圖案中的形成于層間絕緣膜的接觸孔不具有可靠地使上層和下層的圖案連接的作用,則無法保證正確的動(dòng)作。另一方面,為了極力增大顯示裝置的開口率,形成明亮、省電的顯示裝置,就要求接觸孔的直徑足夠小。伴隨于此,期望用于形成這樣的接觸孔的光掩模所具備的孔圖案的直徑也細(xì)微化(例如小于3μm)。例如,需要直徑為2.5μm以下、進(jìn)而需要直徑為2.0μm以下的孔圖案,并且認(rèn)為在不久的將來,期待形成具有比上述直徑更小的1.5μm以下的直徑的圖案。根據(jù)這樣的背景,需要能夠可靠地轉(zhuǎn)印微小的接觸孔的顯示裝置的制造技術(shù)。

      3、例如,在半色調(diào)型相移掩模所具有的由相移膜形成的圖案部分產(chǎn)生缺陷的情況下,對(duì)其進(jìn)行修正未必容易。

      4、通常,已知在相移掩模中產(chǎn)生缺陷,在想要通過修正膜對(duì)其進(jìn)行修正時(shí),使用fib(聚焦離子束)裝置作為修正單元。

      5、然而,已知在使用fib裝置單純地在相移掩模的缺陷部分堆積修正膜的方法中,有時(shí)無法恢復(fù)為與未產(chǎn)生缺陷的相移掩模同樣的功能。可知即使使用fib裝置在相移掩模的缺陷部分堆積修正膜,也不容易形成相對(duì)于曝光光的相移量為大致180度、且具有對(duì)正常部分的相移膜設(shè)定的期望的透射率的修正膜。

      6、另一方面,還已知在形成半透光部的相移掩模的缺陷修正中使用激光cvd法的方法。然而,在使用激光cvd法的方法的情況下,不可避免地產(chǎn)生通過濕式蝕刻去除所堆積的修正膜的工序等,難以以所期望的精度進(jìn)行微小的孔圖案的缺陷修正。

      7、本發(fā)明就是為了解決上述問題而完成的。即,本發(fā)明的目的在于得到一種有利地適合于顯示裝置制造用掩模的曝光環(huán)境,能夠穩(wěn)定地轉(zhuǎn)印細(xì)微的孔圖案的優(yōu)良的相移掩模及其制造方法、以及顯示裝置的制造方法。

      8、用于解決課題的手段

      9、作為解決上述課題的手段,本發(fā)明具有以下構(gòu)成。

      10、(構(gòu)成1)一種相移掩模,其在透光性基板上具備形成有轉(zhuǎn)印圖案的相移膜,該相移掩膜的特征在于,所述轉(zhuǎn)印圖案包括由孔形狀的透光部構(gòu)成的第1孔部和第2孔部,所述第1孔部的所述透光部的整個(gè)外周由所述相移膜構(gòu)成,所述第2孔部的所述透光部的外周的至少一部分由修正膜構(gòu)成,在透過了所述相移膜的曝光光與透過了所述透光部的所述曝光光之間產(chǎn)生的相位差φp為150度以上且210度以下,在透過了所述修正膜的所述曝光光與透過了所述透光部的所述曝光光之間產(chǎn)生的相位差φm為150度以上且210度以下,所述修正膜相對(duì)于所述曝光光的透射率tm小于所述相移膜相對(duì)于所述曝光光的透射率tp。

      11、(構(gòu)成2)根據(jù)構(gòu)成1所述的相移掩膜,其特征在于,所述相移膜的透射率tp為10%以上。

      12、(構(gòu)成3)根據(jù)構(gòu)成1所述的相移掩膜,其特征在于,所述修正膜的透射率tm小于10%。

      13、(結(jié)構(gòu)4)根據(jù)構(gòu)成1所述的相移掩模,其特征在于,在所述第2孔部的由修正膜構(gòu)成的外周緣的透光部設(shè)置有凹陷部。

      14、(構(gòu)成5)根據(jù)構(gòu)成4所述的相移掩膜,其特征在于,在透過所述凹陷部的所述曝光光與透過所述透光部的所述曝光光之間產(chǎn)生的相位差φd為150度以上且210度以下。

      15、(結(jié)構(gòu)6)根據(jù)構(gòu)成4所述的相移掩模,其特征在于,所述凹陷部的寬度為2μm以下。

      16、(結(jié)構(gòu)7)根據(jù)構(gòu)成1所述的相移掩模,其特征在于,所述曝光光至少包含波長365nm的光。

      17、(構(gòu)成8)一種相移掩模的制造方法,所述相移掩模在透光性基板上具備形成有轉(zhuǎn)印圖案的相移膜,所述相移掩模的制造方法的特征在于,具有:在設(shè)置于所述透光性基板上的所述相移膜上形成轉(zhuǎn)印圖案的工序,所述轉(zhuǎn)印圖案包含由孔形狀的透光部構(gòu)成的孔部;對(duì)所述相移膜的轉(zhuǎn)印圖案進(jìn)行缺陷檢查而確定存在缺陷的孔部的工序;以及使用修正膜對(duì)所述存在缺陷的孔部進(jìn)行缺陷修正的工序,在透過了所述相移膜的曝光光與透過了所述透光部的所述曝光光之間產(chǎn)生的相位差φp為150度以上且210度以下,在透過了所述修正膜的所述曝光光與透過了所述透光部的所述曝光光之間產(chǎn)生的相位差φm為150度以上且210度以下,所述修正膜相對(duì)于所述曝光光的透射率tm小于所述相移膜相對(duì)于所述曝光光的透射率tp。

      18、(構(gòu)成9)根據(jù)構(gòu)成8所述的相移掩膜的制造方法,其特征在于,所述相移膜的透射率tp為10%以上。

      19、(構(gòu)成10)根據(jù)構(gòu)成8所述的相移掩膜的制造方法,其特征在于,所述修正膜的透射率tm小于10%。

      20、(結(jié)構(gòu)11)根據(jù)構(gòu)成8所述的相移掩模的制造方法,其特征在于,所述進(jìn)行缺陷修正的工序還包括在所形成的修正膜的外周緣的透光部形成凹陷部的工序。

      21、(構(gòu)成12)根據(jù)構(gòu)成11所述的相移掩膜的制造方法,其特征在于,在透過所述凹陷部的所述曝光光與透過所述透光部的所述曝光光之間產(chǎn)生的相位差φd為150度以上且210度以下。

      22、(結(jié)構(gòu)13)根據(jù)構(gòu)成11所述的相移掩模的制造方法,其特征在于,所述凹陷部的寬度為2μm以下。

      23、(結(jié)構(gòu)14)根據(jù)構(gòu)成8所述的相移掩模的制造方法,其特征在于,所述曝光光至少包含波長365nm的光。

      24、(結(jié)構(gòu)15)一種顯示裝置的制造方法,其特征在于,該制造方法具有:將構(gòu)成1至7中的任一項(xiàng)所述的相移掩模載置于曝光裝置的掩模臺(tái)的工序;以及對(duì)所述相移掩模照射曝光光,將轉(zhuǎn)印圖案轉(zhuǎn)印至設(shè)置在顯示裝置用的基板上的抗蝕劑膜的工序。

      25、(結(jié)構(gòu)16)一種顯示裝置的制造方法,其特征在于,該制造方法具有:將通過構(gòu)成8至14中的任一項(xiàng)所述的相移掩模的制造方法制造的相移掩模載置于曝光裝置的掩模臺(tái)的工序;以及對(duì)所述相移掩模照射曝光光,將轉(zhuǎn)印圖案轉(zhuǎn)印至設(shè)置在顯示裝置用的基板上的抗蝕劑膜的工序。

      26、發(fā)明效果

      27、根據(jù)本發(fā)明,可提供有利地適合于顯示裝置制造用掩模的曝光環(huán)境,能夠穩(wěn)定地轉(zhuǎn)印細(xì)微的孔圖案的優(yōu)良的相移掩模及其制造方法、以及顯示裝置的制造方法。

      當(dāng)前第1頁1 2 
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1