具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法及使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及集成電路技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法及使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體制造工藝的發(fā)展，半導(dǎo)體芯片的面積越來(lái)越小，因此半導(dǎo)體工藝的精度也變得更加重要。在半導(dǎo)體制造工藝中，其中一個(gè)重要的工藝就是光刻，光刻是將掩膜版上的圖案轉(zhuǎn)移為晶圓上的光刻圖案的工藝過(guò)程，因此光刻的質(zhì)量會(huì)直接影響到最終形成的芯片的性能。
[0003]通常的，掩膜版上包含有多種圖案，主要包括:用于形成功能器件的器件圖案(device pattern)、用于良率檢測(cè)的測(cè)試圖案(yield test pattern)以及用于光刻過(guò)程窗口檢查的小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案(sub-rule pattern)。在上述掩膜版上的圖案中，小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案極易發(fā)生剝離(peel off)的問(wèn)題，同時(shí)，隨著半導(dǎo)體芯片的面積越來(lái)越小，這一問(wèn)題也變得越來(lái)越突出。小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案的這一問(wèn)題，將引發(fā)光刻工藝的缺陷，降低光刻工藝的可靠性；此外，小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案的剝離問(wèn)題，也容易引發(fā)器件圖案及測(cè)試圖案產(chǎn)生剝離的問(wèn)題，從而進(jìn)一步引發(fā)光刻工藝的缺陷，降低光刻工藝的可靠性。
[0004]面對(duì)這一問(wèn)題，現(xiàn)有工藝中的處理方法主要為:
[0005]1、仍舊使用有缺陷的掩膜版(即具有小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案剝離問(wèn)題的掩膜版)進(jìn)行光刻工藝，從而將導(dǎo)致光刻工藝后的晶圓極易發(fā)生缺陷，降低生產(chǎn)良率；
[0006]2、去除有缺陷(主要為剝離問(wèn)題)的小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案或者重新制作掩膜版，使用一修復(fù)的或者新的掩膜版進(jìn)行光刻工藝，由此將產(chǎn)生巨大的制造成本。
[0007]因此，提供一種光刻方法，其既能夠防止生產(chǎn)良率的降低、又能夠避免制造成本的增加，成了本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的目的在于提供一種具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法及使用方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中在面對(duì)掩膜版缺陷時(shí)，將導(dǎo)致生產(chǎn)良率低或者制造成本高的問(wèn)題。
[0009]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法，所述具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法包括:
[0010]提供一掩膜版，所述掩膜版包括多個(gè)圖案，其中一個(gè)或者多個(gè)圖案具有缺陷；
[0011]通過(guò)激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率。
[0012]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法中，經(jīng)過(guò)激光處理后，所述具有缺陷的圖案處的石英玻璃的透光率小于50%。
[0013]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法中，所述具有缺陷的圖案為小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案。
[0014]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法中，利用脈沖激光器產(chǎn)生脈沖激光，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影。
[0015]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法中，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影的用時(shí)為Ims?1000s。
[0016]本發(fā)明還提供一種具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，所述具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法包括:
[0017]提供一掩膜版，所述掩膜版包括多個(gè)圖案，其中一個(gè)或者多個(gè)圖案具有缺陷；
[0018]通過(guò)激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率；
[0019]將經(jīng)過(guò)激光處理后的掩膜版置于光刻機(jī)中，以使所述經(jīng)過(guò)激光處理后的掩膜版用于光刻工藝。
[0020]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法中，所述具有缺陷的圖案將不發(fā)生轉(zhuǎn)移。
[0021]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法中，經(jīng)過(guò)激光處理后，所述具有缺陷的圖案處的石英玻璃的透光率小于50%。
[0022]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法中，所述具有缺陷的圖案為小于設(shè)計(jì)規(guī)則的線條或島型圖案。
[0023]可選的，在所述的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法中，利用脈沖激光器產(chǎn)生脈沖激光，利用脈沖激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影。
[0024]在本發(fā)明提供的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法及使用方法中，通過(guò)激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的透光率，從而在利用具有缺陷圖案的掩膜版進(jìn)行曝光的過(guò)程中，避免了缺陷圖案在晶圓上的形成，降低了光刻工藝后的晶圓發(fā)生缺陷的風(fēng)險(xiǎn)，由此再利用了具有缺陷的掩膜版，避免了修復(fù)具有缺陷的掩膜版或者重新制作掩膜版所帶來(lái)的高制造成本的問(wèn)題，即降低了制造成本；同時(shí)，又提高了生產(chǎn)良率。
【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法的流程示意圖；
[0026]圖2是本發(fā)明實(shí)施例的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法的流程示意圖；
[0027]圖3是本發(fā)明實(shí)施例中的掩膜版及晶圓的狀態(tài)示意圖；
[0028]圖4是本發(fā)明實(shí)施例中所使用的激光脈沖系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0029]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提出的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法及使用方法作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要求書(shū)，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的目的。
[0030]本發(fā)明的核心思想在于，通過(guò)激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的透光率，從而在利用具有缺陷圖案的掩膜版進(jìn)行曝光的過(guò)程中，避免了缺陷圖案在晶圓上的形成，降低了光刻工藝后的晶圓發(fā)生缺陷的風(fēng)險(xiǎn)，由此再利用了具有缺陷的掩膜版，避免了修復(fù)具有缺陷的掩膜版或者重新制作掩膜版所帶來(lái)的高制造成本的問(wèn)題，即降低了制造成本；同時(shí)，又提高了生產(chǎn)良率。
[0031]具體的，請(qǐng)參考圖1，其為本發(fā)明實(shí)施例的具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法的流程示意圖。如圖1所示，所述具有缺陷圖案的掩膜版的后處理方法包括:
[0032]步驟SlO:提供一掩膜版，所述掩膜版包括多個(gè)圖案，其中一個(gè)或者多個(gè)圖案具有缺陷；
[0033]步驟Sll:通過(guò)激光在具有缺陷的圖案處的石英玻璃中形成陰影以降低具有缺陷圖案處的石英玻璃的透光率。
[0034]相應(yīng)的，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法，具體的，請(qǐng)參考圖2，其為本發(fā)明實(shí)施例的具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法的流程示意圖。如圖2所示，所述具有缺陷圖案的掩膜版的使用方法包括:
[0035]步驟SlO:提供一掩膜版，所述掩膜版包括多個(gè)圖案，其中一個(gè)或者多個(gè)圖案具有缺陷；
[0036]步驟Sll:通過(guò)激