光取向裝置以及光取向方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本申請的發(fā)明涉及作為獲得取向膜的方法而公知的光取向的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，在獲得以液晶面板為首的液晶顯示元件的取向膜、視場角補(bǔ)償薄膜的取向?qū)訒r(shí)，采用通過光照射來進(jìn)行取向的被稱為光取向的技術(shù)。以下，將通過光照射產(chǎn)生取向的膜、層統(tǒng)稱為光取向膜。此外，“取向”乃至“取向處理”是指對對象物的某一性質(zhì)賦予方向性。
[0003]光取向通過對光取向膜用的膜(以下稱為膜材料)照射偏振光來進(jìn)行。膜材料例如是聚酰亞胺那樣的樹脂制，在所希望的方向(應(yīng)取向的方向)偏振的偏振光照射至膜材料。通過規(guī)定波長的偏振光的照射，膜材料的分子構(gòu)造(例如側(cè)鏈)形成為與偏振光的方向一致的狀態(tài)，得到光取向膜。
[0004]光取向膜與其所被使用的液晶面板的大型化一起大型化。并且，為了從一張液晶基板生產(chǎn)多個(gè)液晶顯示元件，作為處理對象物的液晶基板大型化，伴隨于此，需要針對大的對象區(qū)域進(jìn)行光取向處理。由于這樣的情況，在光取向中要求的偏振光的照射區(qū)域的寬度寬幅化而達(dá)到1500mm乃至1500mm以上。作為在這樣的寬度寬的照射區(qū)域中照射偏振光的光取向裝置，例如存在專利文獻(xiàn)I所公開的裝置。該裝置具備:長度與照射區(qū)域的寬度相當(dāng)?shù)陌魻畹墓庠?，以及使來自該光源的光偏振的線柵偏振元件，對沿與光源的長邊方向正交的方向被搬運(yùn)的膜材料照射偏振光。
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本特許第5344105號(hào)公報(bào)
[0006]在這樣的光取向裝置中，作為工件，存在為膜材料連續(xù)相連的長條狀工件的情況，和工件為膜材料已經(jīng)設(shè)置于基板上的帶膜材料的基板的情況。
[0007]其中，專利文獻(xiàn)I中公開了如下的技術(shù):將設(shè)置有膜材料的液晶顯示元件用的基板作為工件配置于工作臺(tái)，使工作臺(tái)移動(dòng)從而基板通過照射區(qū)域，由此來進(jìn)行光取向。該文獻(xiàn)的裝置使用兩個(gè)工作臺(tái)，使其交替地通過照射區(qū)域并進(jìn)行偏振光照射，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)基于生產(chǎn)間隔時(shí)間的縮短的高生產(chǎn)率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本申請的發(fā)明所要解決的課題在于，在一并考慮實(shí)現(xiàn)上述專利文獻(xiàn)I所公開的基于生廣間隔時(shí)間縮短的尚生廣率工序的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步提尚生廣率，或者進(jìn)一步提尚光取向處理的品質(zhì)。
[0009]為了解決上述課題，本申請的技術(shù)方案I所記載的發(fā)明具有如下結(jié)構(gòu):
[0010]具備:照射單元，對所設(shè)定的照射區(qū)域照射在規(guī)定的方向偏振的偏振光；
[0011]工作臺(tái)，載置基板；以及
[0012]工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過使工作臺(tái)以通過照射區(qū)域的方式移動(dòng)而使得偏振光照射至工作臺(tái)上的基板，
[0013]作為工作臺(tái)設(shè)置有第一工作臺(tái)、第二工作臺(tái)這兩個(gè)工作臺(tái)，
[0014]工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使第一工作臺(tái)從設(shè)定于照射區(qū)域的一側(cè)的第一基板搭載位置移動(dòng)至照射區(qū)域，并且使第二工作臺(tái)從設(shè)定于照射區(qū)域的另一側(cè)的第二基板搭載位置移動(dòng)至照射區(qū)域，
[0015]工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)在第一工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域后使第一工作臺(tái)朝一側(cè)返回而使其位于第一基板回收位置，并且在第二工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域后使第二工作臺(tái)朝另一側(cè)返回而使其位于第二基板回收位置，
[0016]在位于第一基板搭載位置或者第一基板回收位置的第一工作臺(tái)與照射區(qū)域之間確保第二工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域的量以上的第一退避空間，在位于第二基板搭載位置或者第二基板回收位置的第二工作臺(tái)與照射區(qū)域之間確保第一工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域的量以上的第二退避空間，
[0017]設(shè)置有控制工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)的控制單元，
[0018]在控制單元中，作為基板通過照射區(qū)域時(shí)的速度設(shè)定有設(shè)定通過速度，
[0019]控制單元針對第一工作臺(tái)從第一基板搭載位置到照射區(qū)域的移動(dòng)以及從照射區(qū)域到第一基板回收位置的移動(dòng)進(jìn)行使該移動(dòng)的速度比設(shè)定通過速度快的控制，并且針對第二工作臺(tái)從第二基板搭載位置到照射區(qū)域的移動(dòng)以及從照射區(qū)域到第二基板回收位置的移動(dòng)進(jìn)行使該移動(dòng)的速度比設(shè)定通過速度快的控制，
[0020]第一工作臺(tái)、第二工作臺(tái)在移動(dòng)時(shí)對基板進(jìn)行真空吸附而保持基板，
[0021]控制單元在第一工作臺(tái)從第一基板搭載位置到照射區(qū)域的移動(dòng)以及第二工作臺(tái)從第二基板搭載位置到照射區(qū)域的移動(dòng)中進(jìn)行使移動(dòng)的速度為每秒300mm以上600mm以下的控制。
[0022]并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案2所記載的發(fā)明具有如下結(jié)構(gòu):
[0023]在上述技術(shù)方案I的結(jié)構(gòu)中，上述設(shè)定通過速度被設(shè)定為恒定的速度，
[0024]上述控制單元進(jìn)行如下的控制:在從上述第一基板搭載位置到上述照射區(qū)域的去路移動(dòng)中，在上述第一工作臺(tái)上的基板的移動(dòng)方向前方邊緣到達(dá)上述照射區(qū)域之前使上述第一工作臺(tái)的速度減速至上述設(shè)定通過速度，在從該基板的移動(dòng)方向前方邊緣到達(dá)上述照射區(qū)域開始直至移動(dòng)方向后方邊緣通過上述照射區(qū)域?yàn)橹沟钠陂g維持上述設(shè)定通過速度，在該基板的移動(dòng)方向后方邊緣通過上述照射區(qū)域后進(jìn)行減速以便朝上述一側(cè)返回，
[0025]上述控制單元進(jìn)行如下的控制:在從上述第二基板搭載位置到上述照射區(qū)域的去路移動(dòng)中，在上述第二工作臺(tái)上的基板的移動(dòng)方向前方邊緣到達(dá)上述照射區(qū)域之前使上述第二工作臺(tái)的速度減速至上述設(shè)定通過速度，在從該基板的移動(dòng)方向前方邊緣到達(dá)上述照射區(qū)域開始直至移動(dòng)方向后方邊緣通過上述照射區(qū)域?yàn)橹沟钠陂g維持上述設(shè)定通過速度，在該基板的移動(dòng)方向后方邊緣通過上述照射區(qū)域后進(jìn)行減速以便朝上述另一側(cè)返回。
[0026]并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案3所記載的發(fā)明具有如下結(jié)構(gòu):
[0027]在技術(shù)方案2的結(jié)構(gòu)中，上述照射單元在上述第一工作臺(tái)、第二工作臺(tái)進(jìn)行去路移動(dòng)時(shí)和歸路移動(dòng)時(shí)的雙方對上述各工作臺(tái)上的基板照射偏振光，
[0028]在上述控制單元中，上述第一工作臺(tái)進(jìn)行去路移動(dòng)時(shí)的設(shè)定通過速度和上述第一工作臺(tái)進(jìn)行歸路移動(dòng)時(shí)的設(shè)定通過速度被設(shè)定為相同的速度，上述第二工作臺(tái)進(jìn)行去路移動(dòng)時(shí)的設(shè)定通過速度和上述第二工作臺(tái)進(jìn)行歸路移動(dòng)時(shí)的設(shè)定通過速度被設(shè)定為相同的速度。
[0029]并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案4所記載的發(fā)明具有如下結(jié)構(gòu):
[0030]在上述技術(shù)方案3的結(jié)構(gòu)中，在上述控制單元中，
[0031]上述第一工作臺(tái)從上述第一基板搭載位置到上述照射區(qū)域的移動(dòng)的速度和從上述照射區(qū)域到上述第一基板回收位置的移動(dòng)的速度，被設(shè)定為相同的速度，
[0032]上述第二工作臺(tái)從上述第二基板搭載位置到上述照射區(qū)域的移動(dòng)的速度和從上述照射區(qū)域到上述第二基板回收位置的移動(dòng)的速度，被設(shè)定為相同的速度，
[0033]上述第一工作臺(tái)在去路移動(dòng)中到達(dá)上述照射區(qū)域時(shí)的朝上述設(shè)定通過速度的朝上述設(shè)定通過速度的減速和上述第一工作臺(tái)在歸路移動(dòng)中通過上述照射區(qū)域后的從上述設(shè)定通過速度的加速被設(shè)定為相同的斜度，
[0034]上述第二工作臺(tái)在去路移動(dòng)中到達(dá)上述照射區(qū)域時(shí)的朝上述設(shè)定通過速度的朝上述設(shè)定通過速度的減速和上述第二工作臺(tái)在歸路移動(dòng)中通過上述照射區(qū)域后的從上述設(shè)定通過速度的加速被設(shè)定為相同的斜度。
[0035]并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案5所記載的發(fā)明具有如下結(jié)構(gòu):
[0036]在上述技術(shù)方案4的結(jié)構(gòu)中，在上述控制單元中，
[0037]上述第一工作臺(tái)從上述第一基板搭載位置到上述照射區(qū)域的移動(dòng)的速度和從上述照射區(qū)域到上述第一基板回收位置的移動(dòng)的速度，被設(shè)定為相同的速度，
[0038]上述第二工作臺(tái)從上述第二基板搭載位置到上述照射區(qū)域的移動(dòng)的速度和從上述照射區(qū)域到上述第二基板回收位置的移動(dòng)的速度，被設(shè)定為相同的速度，
[0039]上述第一工作臺(tái)在去路移動(dòng)中到達(dá)上述照射區(qū)域時(shí)的朝上述設(shè)定通過速度的減速和上述第一工作臺(tái)在歸路移動(dòng)中通過上述照射區(qū)域后的從上述設(shè)定通過速度的加速被設(shè)定為相同的斜度，
[0040]上述第二工作臺(tái)在去路移動(dòng)中到達(dá)上述照射區(qū)域時(shí)的朝上述設(shè)定通過速度的減速和上述第二工作臺(tái)在歸路移動(dòng)中通過上述照射區(qū)域后的從上述設(shè)定通過速度的加速被設(shè)定為相同的斜度。
[0041]并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案6所記載的發(fā)明具有如下結(jié)構(gòu):
[0042]具備:照射工序，對所設(shè)定的照射區(qū)域照射在規(guī)定的方向偏振的偏振光；
[0043]搭載工序，在第一工作臺(tái)、第二工作臺(tái)這兩個(gè)工作臺(tái)上分別載置基板；
[0044]移動(dòng)工序，以使得各工作臺(tái)交替通過照射區(qū)域的方式利用工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使各工作臺(tái)移動(dòng)，由此使得偏振光照射至各工作臺(tái)上的基板；以及
[0045]回收工序，將由偏振光照射后的各基板從各工作臺(tái)除去，
[0046]在移動(dòng)工序中，第一工作臺(tái)從設(shè)定于照射區(qū)域的一側(cè)的第一基板搭載位置移動(dòng)至照射區(qū)域，第二工作臺(tái)從設(shè)定于照射區(qū)域的另一側(cè)的第二基板搭載位置移動(dòng)至照射區(qū)域，
[0047]在移動(dòng)工序中，在第一工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域后第一工作臺(tái)朝一側(cè)返回而位于第一基板回收位置，在第二工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域后第二工作臺(tái)朝另一側(cè)返回而位于第二基板回收位置，
[0048]在位于第一基板搭載位置或者第一基板回收位置的第一工作臺(tái)與照射區(qū)域之間確保第二工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域的量以上的第一退避空間，在位于第二基板搭載位置或者第二基板回收位置的第二工作臺(tái)與照射區(qū)域之間確保第一工作臺(tái)上的基板通過照射區(qū)域的量以上的第二退避空間，
[0049]作為基板通過照射區(qū)域時(shí)的速度設(shè)定有設(shè)定通過速度，
[0050]在移動(dòng)工序中，針對第一工作臺(tái)從第一基板搭載位置到照射區(qū)域的移動(dòng)以及從照射區(qū)域到第一基板回收位置的移動(dòng)進(jìn)行使該移動(dòng)的速度比設(shè)定通過速度快的控制，并且針對第二工作臺(tái)從第二基板搭載位置到照射區(qū)域的移動(dòng)以及從照射區(qū)域到第二基板回收位置的移動(dòng)進(jìn)行使