液晶顯示裝置及其陣列基板、陣列基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種液晶顯示裝置及其陣列基板、陣列基板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著光電與半導(dǎo)體技術(shù)的演進(jìn)，也帶動了平板顯示器(Flat Panel Display)的蓬勃發(fā)展，而在諸多平板顯示器中，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡稱IXD)因具有高空間利用效率、低消耗功率、無輻射以及低電磁干擾等諸多優(yōu)越特性，已成為市場的主流。
[0003]在現(xiàn)有的液晶顯示器中，其主要包括相對設(shè)置的液晶面板和背光模塊。由于液晶面板本身并不發(fā)光，因此需要背光模塊向其提供顯示光源。而在背光模塊中，使用的主流發(fā)光器件是發(fā)光二極管LED。按照入光方式的不同，背光模塊主要分為直下式背光模塊和側(cè)入式背光模塊。
[0004]在直下式背光模塊中，通常需要LED搭配二次光學(xué)透鏡；而在側(cè)入式背光模塊中，則需要具有導(dǎo)光作用的導(dǎo)光板(LGP)。然而，直下式背光模塊受限于二次光學(xué)透鏡，其難以實現(xiàn)薄型化設(shè)計；而側(cè)入式背光模塊受限于導(dǎo)光板，其也難以實現(xiàn)薄型化設(shè)計。
[0005]因此，現(xiàn)有技術(shù)有待改進(jìn)和發(fā)展。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種液晶顯示裝置，其包括:第一基板；白光有機(jī)發(fā)光二極管，設(shè)置在所述第一基板之上；下偏光片，設(shè)置在所述白光有機(jī)發(fā)光二極管之上；若干開關(guān)元件，陣列排布在所述下偏光片之上；液晶層，設(shè)置在所述若干開關(guān)元件之上；彩色濾光片基板，設(shè)置在所述液晶層之上；以及上偏光片，設(shè)置在所述彩色濾光片基板之上。
[0007]進(jìn)一步地，所述白光有機(jī)發(fā)光二極管包括:在所述第一基板之上依次設(shè)置的反射金屬層、陽極導(dǎo)電層、空穴注入層、空穴傳輸層、白光有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、陰極金屬層、陰極導(dǎo)電層以及絕緣層。
[0008]進(jìn)一步地，所述開關(guān)元件為薄膜晶體管。
[0009]進(jìn)一步地，所述彩色濾光片基板包括:第二基板；以重復(fù)規(guī)則排列在所述第二基板之下的紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻；設(shè)置在所述紅色光阻、所述綠色光阻和所述藍(lán)色光阻之間的黑色矩陣；覆蓋所述紅色光阻、所述綠色光阻、所述藍(lán)色光阻及所述黑色矩陣的保護(hù)層；設(shè)置在所述保護(hù)層之下的公共電極層；以及設(shè)置在所述公共電極層之下且位于所述黑色矩陣之下的間隔體。
[0010]本發(fā)明的另一目的還在于提供一種用于液晶顯示裝置的陣列基板，其包括:第一基板；白光有機(jī)發(fā)光二極管，設(shè)置在所述第一基板之上；下偏光片，設(shè)置在所述白光有機(jī)發(fā)光二極管之上；若干開關(guān)元件，陣列排布在所述下偏光片之上。
[0011]本發(fā)明的又一目的又在于提供一種陣列基板的制作方法，其包括:提供一第一基板；在所述第一基板之上形成白光有機(jī)發(fā)光二極管；在所述白光有機(jī)發(fā)光二極管之上形成下偏光片；在所述下偏光片之上陣列排布若干開關(guān)元件。
[0012]進(jìn)一步地，在所述第一基板之上形成白光有機(jī)發(fā)光二極管的具體方法包括:在所述第一基板之上依次形成反射金屬層、陽極導(dǎo)電層、空穴注入層、空穴傳輸層、白光有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、陰極金屬層、陰極導(dǎo)電層以及絕緣層。
[0013]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明通過將有機(jī)發(fā)光二極管集成制作在陣列基板上，能夠大幅度減小液晶顯示裝置的厚度。此外，由于利用有機(jī)發(fā)光二極管取代現(xiàn)有技術(shù)的LED作為背光發(fā)光器件，而有機(jī)發(fā)光二極管的能耗遠(yuǎn)小于LED的能耗，因此可以降低液晶顯示裝置的能耗，從而節(jié)省成本。
【附圖說明】
[0014]通過結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實施例的上述和其它方面、特點和優(yōu)點將變得更加清楚，附圖中:
[0015]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2是根據(jù)本發(fā)明的實施例的陣列基板的制作流程圖；
[0017]圖3是根據(jù)本發(fā)明的實施例的彩色濾光片基板的制作流程圖。
【具體實施方式】
[0018]以下，將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。
[0019]在附圖中，為了清楚器件，夸大了層和區(qū)域的厚度。相同的標(biāo)號在附圖中始終表示相同的元件。
[0020]將理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語“第一”、“第二”等來描述各種元件，但是這些元件不應(yīng)受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅用于將一個元件與另一個元件區(qū)分開來。
[0021]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]參照圖1，根據(jù)本發(fā)明的實施例的液晶顯示裝置包括:第一基板11、白光有機(jī)發(fā)光二極管12、下偏光片13、若干開關(guān)元件14、液晶層30、彩色濾光片基板20以及上偏光片40。其中，上偏光片40和下偏光片13的吸光軸垂直設(shè)置。
[0023]第一基板11可例如是透明玻璃基板，但本發(fā)明并不限制于此。
[0024]白光有機(jī)發(fā)光二極管12設(shè)置在第一基板11上。在本實施例中，白光有機(jī)發(fā)光二極管12包括在第一基板11之上依次設(shè)置的反射金屬層1201、陽極導(dǎo)電層1202、空穴注入層1203、空穴傳輸層1204、白光有機(jī)發(fā)光層1205、電子傳輸層1206、電子注入層1207、陰極金屬層1208、陰極導(dǎo)電層1209以及絕緣層1210。
[0025]下偏光片13設(shè)置在白光有機(jī)發(fā)光二極管12上。具體地，下偏光片13設(shè)置在絕緣層1210上。
[0026]若干開關(guān)元件14陣列排布在下偏光片13上。在本實施例中，開關(guān)元件14可例如是薄膜晶體管TFT，但本發(fā)明并不限制于此。
[0027]以上，由第一基板11、白光有機(jī)發(fā)光二極管12、下偏光片13、若干開關(guān)元件14構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明的實施例的陣列基板10。
[0028]液晶層30設(shè)置在若干開關(guān)元件14上。在本實施例中，液晶層30包括若干液晶分子，開關(guān)元件14提供電壓給液晶分子，以使液晶分子按照規(guī)則進(jìn)行偏轉(zhuǎn)。
[0029]彩色濾光片基板20設(shè)置在液晶層30上。在本實施例中，彩色濾光片基板20包括:第二基板21、紅色光阻22a、綠色光阻22b、藍(lán)色光阻22c、黑色矩陣23、保護(hù)層24、公共電極層25及間隔體26。
[0030]紅色光阻22a、綠色光阻22b和藍(lán)色光阻22c以重復(fù)規(guī)則排列在第二基板21之下；黑色矩陣23設(shè)置在紅色光阻22a、綠色光阻22b和藍(lán)色光阻22c之間；保護(hù)層24覆蓋所述紅色光阻22a、綠色光阻22b、藍(lán)色光阻22c及黑色矩陣23 ;公共電極層25設(shè)置在保護(hù)層24之下；間隔體26設(shè)置在公共電極層25之下且位于黑色矩陣23，并且間隔體26抵接到陣列基板10上，以保持陣列基板10與彩色濾光片基板20之間的間隔。
[0031]綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例的液晶顯示裝置，通過將有機(jī)發(fā)光二極管集成制作在陣列基板上，能夠大幅度減小液晶顯示裝置的厚度。此外，由于利用有機(jī)發(fā)光二極管取代現(xiàn)有技術(shù)的LED作為背光發(fā)光器件，而有機(jī)發(fā)光二極管的能耗遠(yuǎn)小于LED的能耗，因此可以降低液晶顯示裝置的能耗，從而節(jié)省成本。
[0032]以下將對根據(jù)本發(fā)明的實施例的陣列基板10和彩色濾光片基板20的制作方法進(jìn)行說明。
[0033]圖2是根據(jù)本發(fā)明的實施例的陣列基板的制作流程圖。
[0034]參照圖1和圖2，在操作210中，提供一第一基板11。這里，第一基板11可例如是透明玻璃基板，但本發(fā)明并不限制于此。
[0035]在操作220中，利用物理氣相沉積法(PVD)在第一基板11上沉積一層膜厚為200nm-400nm的反射金屬層1201。這里，反射金屬層1201可采用Mo、Cu、Al等金屬材料制成。
[0036]在操作230中，利用物理氣相沉積法(PVD)在反