納米壓印模板的制作系統(tǒng)及方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種納米壓印模板制作系統(tǒng)及方法，系統(tǒng)包括：壓印基板和多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元；每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上均設(shè)置有若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記；壓印基板上設(shè)置有依次鄰接的多個(gè)對(duì)位區(qū)域，每個(gè)對(duì)位區(qū)域中設(shè)置有用于與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記；每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元用于根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。本發(fā)明能夠滿足目前對(duì)大尺寸以及高質(zhì)量的納米壓印模板的需求。
【專利說(shuō)明】
納米壓印模板的制作系統(tǒng)及方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及納米壓印技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種納米壓印模板的制作系統(tǒng)及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]為追求更小特征尺寸，避免光學(xué)光刻瓶頸，納米壓印工藝最先被美國(guó)明尼蘇達(dá)大學(xué)提出，屬于下一代光刻技術(shù)，是一種低成本、高效率的納米級(jí)圖案轉(zhuǎn)移技術(shù)。
[0003]研究表明，納米壓印模板上的最小特征尺寸可以達(dá)到10nm。然而目前的納米壓印模板都是小尺寸模板，而對(duì)于大尺寸的顯示產(chǎn)品，若采用小尺寸的納米壓印模板進(jìn)行壓印制作，不但工藝難度大，效率低，而且制作得到的大尺寸顯示產(chǎn)品的質(zhì)量難以保障。
[0004]由于納米壓印模版采用電子束刻蝕技術(shù)制作而成，故無(wú)法制作出大尺寸的納米壓印模版，因而大大限制了納米壓印模板的使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明提供一種納米壓印模板的制作系統(tǒng)及方法，能夠滿足目前對(duì)大尺寸以及高質(zhì)量的納米壓印模板的需求。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
[0007]第一方面，本發(fā)明提供了一種納米壓印模板制作系統(tǒng)，包括:
[0008]壓印基板和多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元；
[0009]每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上均設(shè)置有若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記；
[0010]相應(yīng)地，所述壓印基板上設(shè)置有依次鄰接的多個(gè)對(duì)位區(qū)域，每個(gè)對(duì)位區(qū)域?qū)?yīng)一個(gè)所述待拼接的納米壓印模板單元;每個(gè)對(duì)位區(qū)域中設(shè)置有用于與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記；
[0011]其中，每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元用于根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。
[0012]優(yōu)選地，若所述待拼接的納米壓印模板單元為矩形的待拼接的納米壓印模板單元，則所述待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記包括:
[0013]設(shè)置在所述待拼接的納米壓印模板單元的四個(gè)頂點(diǎn)處的對(duì)位標(biāo)記。
[0014]優(yōu)選地，所述待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記包括:
[0015]設(shè)置在所述待拼接的納米壓印模板單元中與目標(biāo)顯示基板的非顯示區(qū)域?qū)?yīng)的位置范圍內(nèi)的若干個(gè)對(duì)位標(biāo)記；
[0016]所述目標(biāo)顯示基板為使用所述由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板進(jìn)行壓印工藝得到的顯示基板。
[0017]優(yōu)選地，所述待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記包括:
[0018]所述待拼接的納米壓印模板單元上的壓印圖案中的部分壓印圖案。
[0019]優(yōu)選地，所述第二對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在所述壓印基板遠(yuǎn)離所述待拼接的納米壓印模板單元的一側(cè)。
[0020]優(yōu)選地，所述待拼接的納米壓印模板單元為由碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的待拼接的納米壓印模板單元。
[0021 ]優(yōu)選地，所述系統(tǒng)還包括:第一復(fù)制單元；
[0022]所述第一復(fù)制單元，用于將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元作為母版，分別復(fù)制得到對(duì)應(yīng)的柔性材料壓印模板單元;其中，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記；
[0023]相應(yīng)地，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元用于根據(jù)形成在柔性材料壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。
[0024]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板單元包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板單元和/或含氟聚合物壓印模板單元。
[0025]優(yōu)選地，所述系統(tǒng)還包括:第二復(fù)制單元；
[0026]所述第二復(fù)制單元，用于將拼接得到的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板。
[0027]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板。
[0028]第二方面，本發(fā)明還提供了一種基于上面所述納米壓印模板制作系統(tǒng)的納米壓印模板制作方法，包括:
[0029]將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。
[0030]優(yōu)選地，在將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域之前，所述方法還包括:
[0031]利用第一復(fù)制單元將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元分別復(fù)制成對(duì)應(yīng)的柔性材料壓印模板單元;其中，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記；
[0032]將每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元按照形成在柔性材料壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。
[0033]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板單元包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板單元和/或含氟聚合物壓印模板單元。
[0034]優(yōu)選地，在形成拼接得到的納米壓印模板之后，所述方法還包括:
[0035]利用第二復(fù)制單元將拼接得到的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板。
[0036]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板。
[0037]由上述技術(shù)方案可知，在本發(fā)明提供的納米壓印模板的制作系統(tǒng)中，待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置有第一對(duì)位標(biāo)記，壓印基板上設(shè)置有與每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記，從而可以根據(jù)待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的第一對(duì)位標(biāo)記和壓印基板上設(shè)置的第二對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行光學(xué)對(duì)位，進(jìn)而由多個(gè)尺寸較小的待拼接的納米壓印模板單元拼接得到尺寸較大的納米壓印模板。從上面記載的方案可知，采用本發(fā)明提供的納米壓印模板的制作系統(tǒng)不但可以得到尺寸較大的納米壓印模板，并且由于采用光學(xué)對(duì)位的拼接方式，使得拼接精度高，拼接平整度好，從而可以滿足目前對(duì)納米壓印模板的大尺寸以及高質(zhì)量的要求。最后，可以利用拼接得到的大尺寸的納米壓印模板進(jìn)行大面積的納米壓印，從而可以提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本，并可以應(yīng)對(duì)大尺寸的顯不廣品的制作。
【附圖說(shuō)明】
[0038]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0039]圖1是本實(shí)施例一提供的待拼接的納米壓印模板單元的示意圖；
[0040]圖2是本實(shí)施例一提供的壓印基板的示意圖；
[0041]圖3是本實(shí)施例一提供的由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元和壓印基板形成納米壓印模板的示意圖；
[0042]圖4是本實(shí)施例四提供的納米壓印模板制作方法的流程圖；
[0043]圖5是本實(shí)施例四提供的第一種納米壓印模板制作方法的工藝流程圖；
[0044]圖6是本實(shí)施例四提供的第二種納米壓印模板制作方法的工藝流程圖；
[0045]圖7是本實(shí)施例四提供的第三種納米壓印模板制作方法的工藝流程圖；
[0046]圖8是本實(shí)施例四提供的第四種納米壓印模板制作方法的工藝流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0047]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0048]下面將通過(guò)實(shí)施一至實(shí)施四具體介紹本發(fā)明提供的納米壓印模板制作系統(tǒng)及方法。另外，本發(fā)明中提到的“多個(gè)”是指“兩個(gè)及兩個(gè)以上”。
[0049]實(shí)施例一
[0050]本發(fā)明實(shí)施例一提供了一種納米壓印模板制作系統(tǒng)，參見(jiàn)圖1和圖2，該系統(tǒng)包括:多個(gè)如圖1所示的待拼接的納米壓印模板單元C以及一個(gè)如圖2所示的壓印基板A。
[0051]其中，參見(jiàn)圖1，每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元C上均設(shè)置有若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記10;優(yōu)選地，待拼接的納米壓印模板單元C為由碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的納米壓印模板單元。
[0052]相應(yīng)地，參見(jiàn)圖2，壓印基板A上設(shè)置有依次鄰接的多個(gè)對(duì)位區(qū)域(如圖2虛線框所示的區(qū)域，一個(gè)虛線框?yàn)橐粋€(gè)對(duì)位區(qū)域)，每個(gè)對(duì)位區(qū)域?qū)?yīng)一個(gè)所述待拼接的納米壓印模板單元;每個(gè)對(duì)位區(qū)域中設(shè)置有用于與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記10—一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記20。優(yōu)選地，壓印基板A為硬度較好的玻璃基板。
[0053]其中，第一對(duì)位標(biāo)記10和第二對(duì)位標(biāo)記20的圖案可以相同也可以不同。在本實(shí)施例中，第一對(duì)位標(biāo)記10和第二對(duì)位標(biāo)記20的圖案不同，參見(jiàn)圖1和圖2，第一對(duì)位標(biāo)記10是十字形圖案，第二對(duì)位標(biāo)記20是正方形圖案。本實(shí)施例為了方便區(qū)分兩種對(duì)位標(biāo)記，故采用了兩種不同的圖案進(jìn)行展示。在實(shí)際應(yīng)用中，根據(jù)需要，兩種圖案可以相同也可以不同。例如，第一對(duì)位標(biāo)記10和第二對(duì)位標(biāo)記20可以均為三角形圖案，或均為十字形、正方形圖案等。優(yōu)選地，第一對(duì)位標(biāo)記10和第二對(duì)位標(biāo)記20的大小以能被光學(xué)對(duì)位設(shè)備檢測(cè)到為準(zhǔn)，且第一對(duì)位標(biāo)記10和第二對(duì)位標(biāo)記20的圖案應(yīng)具有對(duì)應(yīng)的光學(xué)對(duì)位基準(zhǔn)點(diǎn)。比如，對(duì)于圖1和圖2所示的例子來(lái)說(shuō)，第一對(duì)位標(biāo)記10是十字形圖案，第二對(duì)位標(biāo)記20是正方形圖案，第一對(duì)位標(biāo)記10和第二對(duì)位標(biāo)記20的光學(xué)對(duì)位基準(zhǔn)點(diǎn)為十字形圖案的中心點(diǎn)以及正方形圖案的中心點(diǎn)。
[0054]參見(jiàn)圖3，每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元C用于根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記10以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記20貼附在所述壓印基板A上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元C拼接得到的納米壓印模板Al。其中，在將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元C貼附在壓印基板A上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域時(shí)，可以采用光學(xué)對(duì)位的方式進(jìn)行貼附。
[0055]其中圖3中的納米壓印模板A2是納米壓印模板Al去除對(duì)位標(biāo)記后樣子，這里去除對(duì)位標(biāo)記不是指真正的去除，而是為了清楚地展示本實(shí)施例拼接后得到的納米壓印模板的樣子而省略未畫。
[0056]在本實(shí)施例中，壓印基板A上的對(duì)位區(qū)域只是為了方便表述而虛擬出的對(duì)位區(qū)域。實(shí)際上，壓印基板A上只需要設(shè)置與每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記10一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記20方便光學(xué)對(duì)位即可。當(dāng)然，若不考慮工序麻煩的問(wèn)題，在壓印基板A上實(shí)際設(shè)置對(duì)位區(qū)域也是可以的，而且還會(huì)對(duì)本發(fā)明的實(shí)施提供方便。
[0057]在本實(shí)施例中，待拼接的納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記可以有如下幾種設(shè)置形式:
[0058]①若待拼接的納米壓印模板單元C為矩形的待拼接的納米壓印模板單元，則納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記可以為:設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元C的四個(gè)頂點(diǎn)處的對(duì)位標(biāo)記。
[0059]對(duì)于圖1所示的待拼接的納米壓印模板單元C，其上的第一對(duì)位標(biāo)記10位于該納米壓印模板單元C的四個(gè)頂點(diǎn)處。其中，對(duì)位標(biāo)記一般是在形成待拼接的納米壓印模板單元C本身的納米圖案時(shí)采用同一道曝光刻蝕等工藝一起形成的，當(dāng)然也可以采用額外工序單獨(dú)形成對(duì)位標(biāo)記。
[0060]本實(shí)施例將對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在四個(gè)頂點(diǎn)處的位置，不會(huì)影響待拼接的納米壓印模板單元C本身的納米的圖案，即不會(huì)對(duì)納米壓印模板單元C的正常使用造成影響?？梢栽O(shè)想，若對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在納米壓印模板單元C的中央位置，那么將很有可能破壞或影響納米壓印模板單元C本身自帶的圖案。另外，將對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在納米壓印模板單元C的四個(gè)頂點(diǎn)處，也便于在進(jìn)行對(duì)位時(shí)，準(zhǔn)確控制對(duì)位的精度，從而不易出現(xiàn)對(duì)位誤差。當(dāng)然，由于3個(gè)點(diǎn)可以唯一地確定位置關(guān)系，所以也可以在納米壓印模板單元C上的任意三個(gè)頂點(diǎn)處設(shè)置對(duì)位標(biāo)記。
[0061]此外，對(duì)于其他形狀的待拼接的納米壓印模板單元C，可以根據(jù)實(shí)際情況，將若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元C上能保證對(duì)位精度且不影響待拼接的納米壓印模板單元C本身圖案的若干位置。例如，對(duì)于形狀為三角形的待拼接的納米壓印模板單元C，可以在待拼接的納米壓印模板單元C的三個(gè)頂點(diǎn)處設(shè)置對(duì)位標(biāo)記10。
[0062]②待拼接的納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記可以為:設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元C中與目標(biāo)顯示基板的非顯示區(qū)域?qū)?yīng)的位置范圍內(nèi)的若干個(gè)對(duì)位標(biāo)記；
[0063]所述目標(biāo)顯示基板為使用所述由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板進(jìn)行壓印工藝得到的顯示基板。
[0064]由于有些對(duì)位標(biāo)記的設(shè)置位置可能會(huì)對(duì)應(yīng)目標(biāo)顯示基板的顯示區(qū)域或可視區(qū)域，從而這些對(duì)位標(biāo)記將會(huì)影響目標(biāo)顯示基板的正常顯示。為了解決該問(wèn)題，優(yōu)選地，待拼接的納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元C中與目標(biāo)顯示基板的非顯示區(qū)域?qū)?yīng)的位置范圍內(nèi)，這樣將不會(huì)對(duì)目標(biāo)顯示基板的正常顯示造成影響。
[0065]③待拼接的納米壓印模板單元C上的第一對(duì)位標(biāo)記可以為:待拼接的納米壓印模板單元C上的壓印圖案中的部分壓印圖案。
[0066]可以理解的是，在待拼接的納米壓印模板單元C上形成第一對(duì)位標(biāo)記不但需要耗費(fèi)時(shí)間和工序，而且由于第一對(duì)位標(biāo)記設(shè)置位置的問(wèn)題，形成的第一對(duì)位標(biāo)記很容易發(fā)生影響目標(biāo)顯示基板正常顯示的情況。為了解決該問(wèn)題，優(yōu)選地，可以將待拼接的納米壓印模板單元C上的壓印圖案中的部分壓印圖案設(shè)置為第一對(duì)位標(biāo)記，這樣不但省去了形成第一對(duì)位標(biāo)記的過(guò)程，而且由于第一對(duì)位標(biāo)記為待拼接的納米壓印模板單元C的壓印圖案本身的一部分，因此也不會(huì)出現(xiàn)影響目標(biāo)顯示基板正常顯示的問(wèn)題。
[0067]在本實(shí)施例中，為了不影響最終拼接得到的納米壓印模板的平整性，優(yōu)選地，所述第二對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在所述壓印基板遠(yuǎn)離所述待拼接的納米壓印模板單元的一側(cè)。
[0068]從上面描述可知，在本實(shí)施例提供的納米壓印模板的制作系統(tǒng)中，待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置有第一對(duì)位標(biāo)記，壓印基板上設(shè)置有與每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記，從而可以根據(jù)待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的第一對(duì)位標(biāo)記和壓印基板上設(shè)置的第二對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行光學(xué)對(duì)位，進(jìn)而由多個(gè)尺寸較小的待拼接的納米壓印模板單元拼接得到尺寸較大的納米壓印模板。從上面記載的方案可知，采用本實(shí)施例提供的納米壓印模板的制作系統(tǒng)不但可以得到尺寸較大的納米壓印模板，并且由于采用光學(xué)對(duì)位的拼接方式，使得拼接精度高，拼接平整度好，從而可以滿足目前對(duì)納米壓印模板的大尺寸以及高質(zhì)量的要求。最后，可以利用拼接得到的大尺寸的納米壓印模板進(jìn)行大面積的納米壓印，從而可以提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本，并可以應(yīng)對(duì)大尺寸的顯不廣品的制作。
[0069]實(shí)施例二
[0070]在上述實(shí)施例一的基礎(chǔ)之上，本實(shí)施例二提供的納米壓印模板制作系統(tǒng)還包括:
第一復(fù)制單元；
[0071]在本實(shí)施例中，第一復(fù)制單元，用于將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元作為母版，分別復(fù)制得到對(duì)應(yīng)的柔性材料壓印模板單元;其中，復(fù)制手段可以為澆鑄等工藝；
[0072]其中，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記;這里，第三對(duì)位標(biāo)記是和第一對(duì)位標(biāo)記形狀和位置一模一樣的標(biāo)記；
[0073]相應(yīng)地，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元用于根據(jù)形成在柔性材料壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記，按照光學(xué)對(duì)位的方式貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。
[0074]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板單元包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板單元和/或含氟聚合物壓印模板單元。
[0075]其中，聚二甲基娃氧燒(Polydimethylsiloxane，簡(jiǎn)稱]3DMS)，也稱為二甲基娃油，是一種疏水類的有機(jī)硅物料。PDMS為一種柔性材料，其對(duì)壓印膠的兼容性較好，且價(jià)格相對(duì)于碳素鋼、碳化硅或金屬鎳來(lái)說(shuō)便宜很多。
[0076]其中，含氟聚合物也為一種柔性材料，且價(jià)格相對(duì)于碳素鋼、碳化硅或金屬鎳來(lái)說(shuō)也較為便宜。其對(duì)壓印膠的兼容性不如PDMS好。其中含氟聚合物又包括全氟聚醚，乙烯-四氟乙烯共聚物，硫醇-烯全氟聚合物等幾種具體的聚合物類型。
[0077]綜合聚二甲基硅氧烷和含氟聚合物的各項(xiàng)性能，優(yōu)選地使用聚二甲基硅氧烷材料較為理想。
[0078]例如，第一復(fù)制單元可以以待拼接的納米壓印模板單元作為母版，采用澆鑄的方式復(fù)制得到聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板單元，其中復(fù)制得到的聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記;相應(yīng)的，可以將復(fù)制得到的聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板單元根據(jù)形成在聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記，按照光學(xué)對(duì)位的方式貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。
[0079]本實(shí)施例這樣處理的好處有以下幾點(diǎn):
[0080]第一，在采用多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接形成納米壓印模板時(shí)，即便兩個(gè)壓印模板單元之間的拼接不是那么完美(比如存在極微小的重疊區(qū)域)，那么相對(duì)于采用剛性材料如碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的待拼接的納米壓印模板單元來(lái)說(shuō)，由柔性材料制成的柔性壓印模板單元更容易實(shí)現(xiàn)交疊區(qū)域的平整性。
[0081]第二，聚二甲基硅氧烷PDMS或含氟聚合物相對(duì)于碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板來(lái)說(shuō)，價(jià)格便宜很多，因此在工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中，若需要大量的大尺寸的納米壓印模板，那么將采用碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的納米壓印模板單元復(fù)制為PDMS壓印模板單元或含氟聚合物壓印模板單元，進(jìn)而使用復(fù)制得到的PDMS壓印模板單元或含氟聚合物壓印模板單元進(jìn)行對(duì)位拼接形成大尺寸的納米壓印模板，將會(huì)節(jié)省很多成本。
[0082]實(shí)施例三
[0083]在上述實(shí)施例一或?qū)嵤├幕A(chǔ)之上，本實(shí)施例提供的納米壓印模板制作系統(tǒng)還包括:第二復(fù)制單元;所述第二復(fù)制單元，用于將拼接得到的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板。
[0084]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板。
[0085]其中，聚二甲基硅氧烷PDMS為柔性材料，價(jià)格相對(duì)于碳素鋼、碳化硅或金屬鎳來(lái)說(shuō)便宜很多。
[0086]其中，含氟聚合物也為一種柔性材料，且價(jià)格相對(duì)于碳素鋼、碳化硅或金屬鎳來(lái)說(shuō)也較為便宜。且其表面能較低，容易脫模，對(duì)于壓印后期的脫膜工藝較為有益，因此優(yōu)選含氟聚合物壓印模板。其中含氟聚合物又包括全氟聚醚，乙烯-四氟乙烯共聚物，硫醇-烯全氟聚合物等幾種具體的聚合物類型。
[0087]本實(shí)施例這樣處理具有如下好處:
[0088]第一，由于壓印工藝的損耗比較嚴(yán)重，這樣對(duì)大面積的納米壓印模板的損耗將會(huì)很嚴(yán)重，而大面積的納米壓印模板的制作成本又較高，若直接采用拼接得到的大面積的納米壓印模板進(jìn)行壓印工藝，如果發(fā)生損壞，將導(dǎo)致整個(gè)壓印成本過(guò)高。而本實(shí)施例將拼接得到的大面積的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板，然后使用復(fù)制得到的多個(gè)柔性材料壓印模板進(jìn)行后續(xù)壓印工藝，則不會(huì)損壞母版，而且由于復(fù)制得到的柔性材料壓印模板的成本較低(復(fù)制工藝相對(duì)于拼接工藝來(lái)說(shuō)成本低很多；而且一般的柔性材料相對(duì)于碳素鋼、碳化硅或金屬鎳來(lái)說(shuō)也很便宜)，因此大大降低了納米壓印成本。
[0089]第二，在采用復(fù)制得到的柔性材料壓印模板進(jìn)行后續(xù)壓印工藝時(shí)，假設(shè)原母版(SP拼接得到的大面積納米壓印模板)中的兩個(gè)壓印模板單元之間的拼接不是那么完美(比如存在極微小的重疊區(qū)域)，但由于復(fù)制得到的為柔性材料壓印模板，因此更容易在輕壓下實(shí)現(xiàn)拼接交疊區(qū)域的平整性。
[0090]第三，采用聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板進(jìn)行壓印，使得壓印后期的脫膜工藝比較容易操作。
[0091]這里，需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明提供的納米壓印模板制作系統(tǒng)中，第一復(fù)制單元和第二復(fù)制單元可以同時(shí)存在，也可以只包含兩者之一，即可以只包括第一復(fù)制單元或只包括第二復(fù)制單元。
[0092]實(shí)施例四
[0093]本實(shí)施例四提供了一種基于上面任一實(shí)施例所述的納米壓印模板制作系統(tǒng)的納米壓印模板制作方法，參見(jiàn)圖4，該方法包括如下步驟:
[0094]步驟101:將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。其中，在將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元C貼附在壓印基板A上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域時(shí)，可以采用光學(xué)對(duì)位的方式進(jìn)行貼附。
[0095]其中，在進(jìn)行對(duì)位拼接工藝之前，還需要形成多個(gè)帶有第一對(duì)位標(biāo)記位的待拼接的納米壓印模板單元以及一個(gè)帶有第二對(duì)位標(biāo)記的壓印基板。
[0096]由于待拼接的納米壓印模板單元為小尺寸的納米壓印模板，其可以采用現(xiàn)有技術(shù)中常用電子束刻蝕技術(shù)制作而成，因此此處不再詳述。具體可參見(jiàn)圖5所示的步驟，圖5中的待拼接的納米壓印模板單元是以鎳模板單元為例，其形成過(guò)程如下:先沉積Cr金屬旋涂光亥Ij膠，再進(jìn)行E-Beam曝光和RIE亥Ij蝕，最后將Cr金屬濕刻去除，并復(fù)制為鎳模板單元。而壓印基板可采用硬度較好的玻璃基板。其中，第一對(duì)位標(biāo)記和第二對(duì)位標(biāo)記的形成方式可參見(jiàn)上面實(shí)施例的記載。由于第一對(duì)位標(biāo)記和第二對(duì)位標(biāo)記較小，因此未在圖5中示出。
[0097]在本實(shí)施例中，所述待拼接的納米壓印模板單元以鎳模板單元為例進(jìn)行介紹。所述鎳模板單元的具體制作過(guò)程以及由多個(gè)鎳模板單元通過(guò)對(duì)位拼接方式形成大尺寸納米壓印模板的工藝過(guò)程可參見(jiàn)圖5所示。
[0098]在上述圖5記載的納米壓印模板制作方法的基礎(chǔ)之上，下面結(jié)合圖6給出一種更為優(yōu)選的納米壓印模板制作方法。其中，圖6中柔性材料壓印模板單元以PDMS壓印模板單元為例。
[0099]具體地，參見(jiàn)圖6，在上述步驟101將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域之前，所述納米壓印模板制作方法還包括:
[0100]步驟100:利用第一復(fù)制單元將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元分別復(fù)制成對(duì)應(yīng)的柔性材料壓印模板單元;其中，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記；
[0101]相應(yīng)地，上述步驟101變?yōu)?將每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元按照形成在柔性材料壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的大尺寸的納米壓印模板。在得到大尺寸的納米壓印模板之后，可以利用該大尺寸的納米壓印模板進(jìn)行大面積的納米壓印，進(jìn)而可以提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本，并且可以應(yīng)對(duì)大尺寸的顯不廣品的制作。
[0102]優(yōu)選地，在將每個(gè)柔性材料壓印模板單元貼附在壓印基板A上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域時(shí)，可以采用光學(xué)對(duì)位的方式進(jìn)行貼附。
[0103]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板單元包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板TOMS單元和/或含氟聚合物壓印模板單元。
[0104]對(duì)比圖5、參見(jiàn)圖6可以看出，在圖6所述的工藝過(guò)程中，采用電子束刻蝕工藝形成待拼接的納米壓印模板單元如鎳模板單元之后，并沒(méi)有直接將得到的鎳模板單元進(jìn)行對(duì)位拼接形成大面積的納米壓印模板，而是先將鎳模板單元采用澆鑄工藝復(fù)制得到PDMS壓印模板單元，然后再由PDMS壓印模板單元進(jìn)行對(duì)位拼接，進(jìn)而得到由多個(gè)PDMS壓印模板單元拼接得到的大尺寸的納米壓印模板。
[0105]本實(shí)施例增加上述步驟100有以下好處:
[0106]第一，在采用多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接形成納米壓印模板時(shí)，即便兩個(gè)壓印模板單元之間的拼接不是那么完美(比如存在極微小的重疊區(qū)域)，那么相對(duì)于采用剛性材料如碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的待拼接的納米壓印模板單元來(lái)說(shuō)，由柔性材料制成的柔性壓印模板單元更容易實(shí)現(xiàn)交疊區(qū)域的平整性。
[0107]第二，聚二甲基硅氧烷PDMS或含氟聚合物相對(duì)于碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板來(lái)說(shuō)，價(jià)格便宜很多，因此在工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中，若需要大量的大尺寸的納米壓印模板，那么將采用碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的納米壓印模板單元復(fù)制為PDMS壓印模板單元或含氟聚合物壓印模板單元，進(jìn)而使用復(fù)制得到的PDMS壓印模板單元或含氟聚合物壓印模板單元進(jìn)行對(duì)位拼接形成大尺寸的納米壓印模板，將會(huì)節(jié)省很多成本。
[0108]在上述圖5和圖6記載的納米壓印模板制作方法的基礎(chǔ)之上，下面結(jié)合圖7和圖8給出另一種更為優(yōu)選的納米壓印模板制作方法。
[0109]具體地，參見(jiàn)圖7和圖8，在上述步驟101形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板或形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板之后，所述方法還包括:
[0110]步驟102:利用第二復(fù)制單元將拼接得到的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板。
[0111]優(yōu)選地，所述柔性材料壓印模板包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板。
[0112]其中，圖7對(duì)應(yīng)于由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元直接拼接得到的納米壓印模板的后續(xù)復(fù)制過(guò)程。圖8對(duì)應(yīng)于由多個(gè)柔性材料(PDMS)壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板的后續(xù)復(fù)制過(guò)程。
[0113]參見(jiàn)圖7和圖8，將通過(guò)光學(xué)對(duì)位拼接工藝得到大面積或大尺寸的納米壓印模板之后，對(duì)大面積或大尺寸的納米壓印模板進(jìn)行復(fù)制，得到柔性材料壓印模板，如PDMS壓印模板，然后采用復(fù)制得到的PDMS壓印模板進(jìn)行大面積的壓印工藝。
[0114]本實(shí)施例增加上述步驟102有以下好處:
[0115]第一，由于壓印工藝的損耗比較嚴(yán)重，這樣對(duì)大面積的納米壓印模板的損耗將會(huì)很嚴(yán)重，而大面積的納米壓印模板的制作成本又較高，若直接采用拼接得到的大面積的納米壓印模板進(jìn)行壓印工藝，如果發(fā)生損壞，將導(dǎo)致整個(gè)壓印成本過(guò)高。而本實(shí)施例將拼接得到的大面積的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板，然后使用復(fù)制得到的多個(gè)柔性材料壓印模板進(jìn)行后續(xù)壓印工藝，則不會(huì)損壞母版，而且由于復(fù)制得到的柔性材料壓印模板的成本較低(復(fù)制工藝相對(duì)于拼接工藝來(lái)說(shuō)成本低很多；而且一般的柔性材料相對(duì)于碳素鋼、碳化硅或金屬鎳來(lái)說(shuō)也很便宜)，因此大大降低了納米壓印成本。
[0116]第二，在采用復(fù)制得到的柔性材料壓印模板進(jìn)行后續(xù)壓印工藝時(shí)，假設(shè)原母版(SP拼接得到的大面積納米壓印模板)中的兩個(gè)壓印模板單元之間的拼接不是那么完美(比如存在極微小的重疊區(qū)域)，但由于復(fù)制得到的為柔性材料壓印模板，因此更容易在輕壓下實(shí)現(xiàn)拼接交疊區(qū)域的平整性。
[0117]第三，采用聚二甲基硅氧烷PDMS壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板進(jìn)行壓印，使得壓印后期的脫膜工藝比較容易操作。
[0118]從上面描述可知，在本實(shí)施例中，根據(jù)設(shè)置在每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的與第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記，依次將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元貼附在所述壓印基板的對(duì)應(yīng)區(qū)域上，形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。由于待拼接的納米壓印模板單元都是小尺寸納米壓印模板，而由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板為大尺寸納米壓印模板，從而可以利用得到的大尺寸的納米壓印模板進(jìn)行大面積的納米壓印，進(jìn)而可以提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本，并且可以應(yīng)對(duì)大尺寸的顯示產(chǎn)品的制作。
[0119]以上實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而這些修改或替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種納米壓印模板制作系統(tǒng)，其特征在于，包括: 壓印基板和多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元； 每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元上均設(shè)置有若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記； 相應(yīng)地，所述壓印基板上設(shè)置有依次鄰接的多個(gè)對(duì)位區(qū)域，每個(gè)對(duì)位區(qū)域?qū)?yīng)一個(gè)所述待拼接的納米壓印模板單元;每個(gè)對(duì)位區(qū)域中設(shè)置有用于與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記； 其中，每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元用于根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，若所述待拼接的納米壓印模板單元為矩形的待拼接的納米壓印模板單元，則所述待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記包括: 設(shè)置在所述待拼接的納米壓印模板單元的四個(gè)頂點(diǎn)處的對(duì)位標(biāo)記。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記包括: 設(shè)置在所述待拼接的納米壓印模板單元中與目標(biāo)顯示基板的非顯示區(qū)域?qū)?yīng)的位置范圍內(nèi)的若干個(gè)對(duì)位標(biāo)記； 所述目標(biāo)顯示基板為使用所述由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板進(jìn)行壓印工藝得到的顯示基板。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述待拼接的納米壓印模板單元上設(shè)置的若干個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記包括: 所述待拼接的納米壓印模板單元上的壓印圖案中的部分壓印圖案。5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第二對(duì)位標(biāo)記設(shè)置在所述壓印基板遠(yuǎn)離所述待拼接的納米壓印模板單元的一側(cè)。6.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述待拼接的納米壓印模板單元為由碳素鋼板、碳化硅板或金屬鎳板制成的待拼接的納米壓印模板單元。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括:第一復(fù)制單元； 所述第一復(fù)制單元，用于將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元作為母版，分別復(fù)制得到對(duì)應(yīng)的柔性材料壓印模板單元;其中，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記； 相應(yīng)地，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元用于根據(jù)形成在柔性材料壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記，按照光學(xué)對(duì)位的方式貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，以形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述柔性材料壓印模板單元包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板單元和/或含氟聚合物壓印模板單元。9.根據(jù)權(quán)利要求1或7或8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括:第二復(fù)制單元； 所述第二復(fù)制單元，用于將拼接得到的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述柔性材料壓印模板包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板。11.一種基于如權(quán)利要求1?10中任一項(xiàng)所述納米壓印模板制作系統(tǒng)的納米壓印模板制作方法，其特征在于，包括: 將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，形成由多個(gè)待拼接的納米壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，在將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元根據(jù)設(shè)置在待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域之前，所述方法還包括: 利用第一復(fù)制單元將每個(gè)待拼接的納米壓印模板單元分別復(fù)制成對(duì)應(yīng)的柔性材料壓印模板單元;其中，每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元中形成有與對(duì)應(yīng)的待拼接的納米壓印模板單元上的第一對(duì)位標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)的第三對(duì)位標(biāo)記； 將每個(gè)復(fù)制得到的柔性材料壓印模板單元按照形成在柔性材料壓印模板單元上的第三對(duì)位標(biāo)記以及設(shè)置在對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域中的第二對(duì)位標(biāo)記貼附在所述壓印基板上對(duì)應(yīng)的對(duì)位區(qū)域，形成由多個(gè)柔性材料壓印模板單元拼接得到的納米壓印模板。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述柔性材料壓印模板單元包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板單元和/或含氟聚合物壓印模板單元。14.根據(jù)權(quán)利要求11或12或13所述的方法，其特征在于，在形成拼接得到的納米壓印模板之后，所述方法還包括: 利用第二復(fù)制單元將拼接得到的納米壓印模板作為母版，復(fù)制得到多個(gè)柔性材料壓印模板。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，所述柔性材料壓印模板包括:聚二甲基硅氧烷壓印模板和/或含氟聚合物壓印模板。
【文檔編號(hào)】G03F7/00GK105911815SQ201610350414
【公開(kāi)日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年5月24日
【發(fā)明人】何曉龍, 姚繼開(kāi), 關(guān)峰, 王英濤, 舒適, 賀芳, 周婷婷
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司