一種液晶光學(xué)模組的配置方法及檢測(cè)裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種液晶光學(xué)模組的配置方法及檢測(cè)裝置，所述方法包括建立用于存儲(chǔ)液晶面板規(guī)格與穿透頻譜的對(duì)應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫(kù)及背光源的發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù)；建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型；當(dāng)配置液晶光學(xué)模組時(shí)，獲取所述液晶光學(xué)模組的液晶面板規(guī)格及背光光源；根據(jù)液晶模組的亮度和色坐標(biāo)光學(xué)要求，通過(guò)配置模型確定液晶面板與背光光源的配置。本發(fā)明預(yù)先建立液晶面板規(guī)格和發(fā)光光源的數(shù)據(jù)庫(kù)，并構(gòu)建液晶面板與發(fā)光光源的配置模型，通過(guò)配置模型確定液晶面板與發(fā)光光源的最佳配置方法，減少了產(chǎn)品設(shè)計(jì)階段手工制作樣品并測(cè)試的過(guò)程，縮短產(chǎn)品研發(fā)周期，降低產(chǎn)品設(shè)計(jì)成本。
【專利說(shuō)明】
-種液晶光學(xué)模組的配置方法及檢測(cè)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設(shè)及液晶光學(xué)模組技術(shù)領(lǐng)域，特別設(shè)及一種液晶光學(xué)模組的配置方法及檢 測(cè)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著電子顯示技術(shù)的發(fā)展，液晶電視已在市場(chǎng)上普及。雖然有OLm)新技術(shù)的產(chǎn)生， 但液晶電視由于其細(xì)膩的解析度W及成熟的生產(chǎn)技術(shù)和普眾的價(jià)格，目前W及W后幾年也 仍然會(huì)是主流。隨著技術(shù)的發(fā)展W及環(huán)保的需求，其背光源已從CC化切換到L抓光源。但作 為被動(dòng)式發(fā)光的顯示器件，不管是哪種光源都需要一個(gè)發(fā)光光源與液晶面板的彩色濾光膜 的配光配色過(guò)程。目前液晶面板尺寸及生產(chǎn)廠家眾多，面板規(guī)格也包括標(biāo)清、高清、超高清、 四像素超高清等各種規(guī)格，再加上模組光源本身還有各種不同光譜規(guī)格種類，光源和面板 具有的各項(xiàng)光電參數(shù)(亮度、色度及其發(fā)射光譜等)對(duì)模組設(shè)計(jì)、整機(jī)配屏至關(guān)重要，如相同 亮度、色塊的光源由于存在同色異譜、和面板頻譜匹配有差異等情況導(dǎo)致組裝在模組上存 在亮度色度偏差等問(wèn)題。
[0003] 目前現(xiàn)有的液晶光學(xué)模組的配置是通過(guò)經(jīng)驗(yàn)，將各種光源、反射片、膜片等樣品不 同的搭配組合方案組裝成模組樣機(jī)來(lái)進(jìn)行交叉組裝驗(yàn)證，對(duì)不同方案樣機(jī)的測(cè)試結(jié)果進(jìn)行 比較，來(lái)確定最終符合產(chǎn)品需求的方案。運(yùn)種傳統(tǒng)的驗(yàn)證方法，需要結(jié)構(gòu)件制作手板件，各 種光源和光學(xué)膜片制作樣品，并多次循環(huán)拆裝樣機(jī)組裝測(cè)試，時(shí)間成本和打樣成本耗費(fèi)比 較大。
[0004] 因而現(xiàn)有技術(shù)還有待改進(jìn)和提高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種液晶光學(xué)模組的 配置方法及檢測(cè)裝置，W解決現(xiàn)有液晶模組的配置需要制作手板件，各種光源和光學(xué)膜片 制作樣品，并多次循環(huán)拆裝樣機(jī)組裝測(cè)試，時(shí)間成本和打樣成本耗費(fèi)大的問(wèn)題。
[0006] 為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案如下： 一種液晶光學(xué)模組的配置方法，其包括： 建立用于存儲(chǔ)各種液晶面板規(guī)格的穿透頻譜的數(shù)據(jù)庫(kù)及背光源的發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù)，其 中，所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條； 建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型； 當(dāng)配置液晶光學(xué)模組時(shí)，獲取所述液晶光學(xué)模組的液晶面板規(guī)格及背光光源； 根據(jù)液晶模組的亮度和色坐標(biāo)光學(xué)要求，通過(guò)配置模型確定液晶面板與之配對(duì)的背光 光源的配置。
[0007] 所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其中，所述建立用于存儲(chǔ)各種液晶面板規(guī)格的穿 透頻譜的數(shù)據(jù)庫(kù)具體包括： 制作可見(jiàn)光范圍為連續(xù)光譜標(biāo)準(zhǔn)光源的光源燈箱； 采用光學(xué)測(cè)試儀測(cè)試380nm-780nm均勻光強(qiáng)的連續(xù)光譜數(shù)據(jù)； 將不同規(guī)格的液晶面板放置于光源燈箱上，通過(guò)光學(xué)測(cè)試液晶面板的穿透頻譜，并所 述穿透頻率及與其對(duì)應(yīng)的液晶面板規(guī)格存儲(chǔ)于數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)。
[0008] 所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其中，所述建立背光源的發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù)，其中， 所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條具體為： 通過(guò)積分球檢測(cè)儀檢測(cè)背光光源的發(fā)光光譜，并將所述發(fā)光光譜與背光光源的對(duì)應(yīng)關(guān) 系存儲(chǔ)于數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)，其中，所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條。
[0009] 所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其中，所述建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光 譜的配置模型具體為： 根據(jù)液晶模組的光損經(jīng)驗(yàn)值建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型。
[0010] 所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其中，所述建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光 譜的配置模型具體為：
其中,?，為亮度，x，y為色坐標(biāo)數(shù)值，n為燈顆數(shù)，k為光損系數(shù)，寒^為最大光譜光視效 能；巧獲為人眼的光譜光視效率;巧(麟為光源單位波長(zhǎng)的福射能，可測(cè)；苗ZiX為CE化單位 波長(zhǎng)相對(duì)穿透系數(shù)，可測(cè)；/批}為背光修正光譜，為測(cè)試經(jīng)驗(yàn)值;為標(biāo)準(zhǔn)S色 光譜彩色刺激數(shù)值。
[0011] 所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其中，其所述根據(jù)液晶模組的光損經(jīng)驗(yàn)值建立液 晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型之前包括： 測(cè)試液晶模組的膜片、擴(kuò)散板、導(dǎo)光板的穿透頻譜W及反射片的反射頻譜，其中，所述 液晶模組包括側(cè)入式背光液晶模組及直下式背光液晶模組。
[0012] 所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其中，所述穿透頻率包括液晶面板的WRGB四場(chǎng)畫 面穿透頻譜。
[0013] -種用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其包括:光源燈箱、光學(xué)測(cè)試儀W及光譜 收集處理系統(tǒng)，所說(shuō)光學(xué)測(cè)試儀與所說(shuō)光譜收集處理系統(tǒng)相連接； 所述光源燈箱用于放置待測(cè)液晶面板并為待測(cè)液晶面板提供連續(xù)光譜； 所述光學(xué)測(cè)試儀用于檢測(cè)待測(cè)液晶面板的穿透頻譜，并將所述穿透頻譜傳輸運(yùn)光譜收 集處理系統(tǒng)； 所述光譜收集處理系統(tǒng)用于接受所述穿透頻譜，并將所說(shuō)穿透頻譜與液晶面板對(duì)應(yīng)存 儲(chǔ)。
[0014] 所述用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其中，所述光源燈箱用于提供380nm- 780nm的均勻光強(qiáng)的連續(xù)光源。
[0015] 所述用于測(cè)試液晶面板穿透頻率的裝置，其中，所述光學(xué)測(cè)試儀為CS2000光學(xué)測(cè) 試儀。
[0016] 有益效果：與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供了一種液晶光學(xué)模組的配置方法，其包 括:建立用于存儲(chǔ)各種液晶面板規(guī)格的穿透頻譜的數(shù)據(jù)庫(kù)及背光源的發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù);建 立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型；當(dāng)配置液晶光學(xué)模組時(shí)，獲取所述液晶 模組的液晶面板規(guī)格及背光光源;根據(jù)液晶模組的亮度及色坐標(biāo)光學(xué)要求，通過(guò)配置模型 確定液晶面板與背光光源的配置。本發(fā)明預(yù)先建立液晶面板規(guī)格和發(fā)光光源的數(shù)據(jù)庫(kù)，并 構(gòu)建液晶面板與發(fā)光光源的配置模型，通過(guò)配置模型確定液晶面板與發(fā)光光源的最佳配置 方法，減少了產(chǎn)品設(shè)計(jì)階段手工制作樣品并測(cè)試的過(guò)程，縮短產(chǎn)品研發(fā)周期，降低產(chǎn)品設(shè)計(jì) 成本。
【附圖說(shuō)明】
[0017] 圖1為本發(fā)明提供的液晶光學(xué)模組的配置方法較佳實(shí)施的流程圖。
[0018] 圖2為本發(fā)明提供的用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019] 本發(fā)明提供一種液晶光學(xué)模組的配置方法及檢測(cè)裝置，為使本發(fā)明的目的、技術(shù) 方案及效果更加清楚、明確，W下參照附圖并舉實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理 解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用W解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0020] 下面結(jié)合附圖，通過(guò)對(duì)實(shí)施例的描述，對(duì)
【發(fā)明內(nèi)容】
作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0021] 請(qǐng)參見(jiàn)圖1，圖1為本發(fā)明提供一種液晶光學(xué)模組的配置方法的較佳實(shí)施例的流程 圖。所述方法包括： 5100、 建立用于存儲(chǔ)液晶面板規(guī)格與穿透頻譜的對(duì)應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫(kù)及背光源的發(fā)光光 譜數(shù)據(jù)庫(kù)，其中，所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條。
[0022] 具體地，預(yù)先通過(guò)光學(xué)測(cè)試儀測(cè)試各種規(guī)格的液晶面板的穿透頻譜，并將所述液 晶面板的規(guī)格和其對(duì)應(yīng)的穿透頻率對(duì)應(yīng)存儲(chǔ)與數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)。所述液晶面板的穿透頻譜可W通 過(guò)如下方法測(cè)得，其具體可W包括： 5101、 制作可見(jiàn)光范圍為連續(xù)光譜標(biāo)準(zhǔn)光源的光源燈箱。
[0023] 具體地，所述光源燈箱可W產(chǎn)生連續(xù)光譜的光源，所述光源的波長(zhǎng)為380nm到 780nm。
[0024] S102、采用光學(xué)測(cè)試儀測(cè)試380nm-780nm均勻光強(qiáng)的連續(xù)光譜數(shù)據(jù)。
[0025] 具體地，將所述光源燈箱通電點(diǎn)亮，通過(guò)CS2000等儀器測(cè)試出從380nm-780nm均有 均勻光強(qiáng)的連續(xù)光譜數(shù)據(jù)。
[0026] S103、將不同規(guī)格的液晶面板放置于光源燈箱上，通過(guò)光學(xué)測(cè)試液晶面板的穿透 頻譜，并所述穿透頻譜及與其對(duì)應(yīng)的液晶面板規(guī)格存儲(chǔ)于數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)。
[0027]具體地，將液晶面板放置在標(biāo)準(zhǔn)光源燈箱上面，液晶面板加電路點(diǎn)亮，通過(guò)CS2000 等儀器測(cè)試各種規(guī)格液晶面板在白場(chǎng)畫面、紅場(chǎng)畫面、綠場(chǎng)畫面、藍(lán)場(chǎng)畫面的穿透頻譜，建 立各液晶面板的WRGB四場(chǎng)畫面穿透頻譜數(shù)據(jù)庫(kù)，其中，所述光源燈箱的波長(zhǎng)處于380nm- 780nm 進(jìn)一步，獲取可W作為液晶模組背光光源的類型，如LED單燈、LED燈條、CC化單燈及 CCFL燈條等。采用積分球等儀器測(cè)出各規(guī)格LED或者CCFL的單燈或者燈條光源發(fā)光光譜，建 立光源發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù)。
[00%] S200、建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型。
[0029] 具體地，首先測(cè)試側(cè)入式背光液晶模組的膜片、擴(kuò)散板、導(dǎo)光板的穿透頻率W及反 射片的反射頻譜和直下式背光液晶模組的膜片、擴(kuò)散板、導(dǎo)光板的穿透頻率W及反射片的 反射頻譜，分別根據(jù)側(cè)入式背光液晶模組的光損經(jīng)驗(yàn)值和直下式背光液晶模組光損經(jīng)驗(yàn)值 建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型。
[0030] 所述配置模型是液晶面板規(guī)格的穿透頻譜及背光光源的發(fā)光光譜及光損經(jīng)驗(yàn)值 的關(guān)系導(dǎo)入編譯軟件生成的。所述配置模型的理論依據(jù)的公式為：
其中，為亮度，x，y為色坐標(biāo)數(shù)值，n為燈顆數(shù)，k為光損系數(shù)，堅(jiān)。為最大光譜光視效 能;巧錢為人眼的光譜光視效率;取;濟(jì)為光源單位波長(zhǎng)的福射能，可測(cè)；W為CE化單位波 長(zhǎng)相對(duì)穿透系數(shù)，可測(cè)；/(勾為背光修正光譜，為測(cè)試經(jīng)驗(yàn)值；式石揉(刮Fu;為標(biāo)準(zhǔn)S色光 譜彩色刺激數(shù)值。
[0031] 根據(jù)上公式，利用EXC化或者VB編成配置模型。
[0032] 進(jìn)一步，在根據(jù)所述配置模型計(jì)算液晶面板配置關(guān)系時(shí)，需要輸入或調(diào)用的數(shù)據(jù) 為:光源發(fā)光光譜數(shù)據(jù)、光源數(shù)量、液晶面板WRGB四場(chǎng)的穿透頻譜數(shù)據(jù)、面板尺寸。能夠輸出 的數(shù)據(jù)為:液晶模組的亮度、色坐標(biāo)、色域覆蓋率。
[0033] S300、當(dāng)配置液晶光學(xué)模組時(shí)，獲取所述液晶光學(xué)模組的液晶面板規(guī)格及背光光 源。
[0034] 具體地，當(dāng)需要配置液晶光學(xué)模組時(shí)，確定需求單規(guī)格中的液晶面板型號(hào)、產(chǎn)品的 亮度、色溫、色域覆蓋率或者色彩飽和度要求。再確定液晶模組采用的背光光源的發(fā)光光 譜。
[0035] S400、根據(jù)液晶光學(xué)模組的光譜要求，通過(guò)配置模型確定液晶面板與背光光源的 配置。
[0036] 具體地，將數(shù)據(jù)庫(kù)中的光源與需求單規(guī)格指定的液晶面板光譜進(jìn)行匹配，在模型 中輸入光源規(guī)格和顆數(shù)，來(lái)完成亮度、色坐標(biāo)、色域等光學(xué)參數(shù)的匹配，通過(guò)模型計(jì)算匹配， 最終選擇匹配度最好的方案。
[0037] 本發(fā)明提供的一種液晶光學(xué)模組的配置方法，其包括:建立用于存儲(chǔ)液晶面板規(guī) 格與穿透頻譜的對(duì)應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫(kù)及背光源的發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù);建立液晶面板規(guī)格及背光 源的發(fā)光光譜的配置模型；當(dāng)配置液晶光學(xué)模組時(shí)，獲取所述液晶光學(xué)模組的液晶面板規(guī) 格及背光光源;根據(jù)液晶光學(xué)模組的光譜要求，通過(guò)配置模型確定液晶面板與背光光源的 配置。本發(fā)明預(yù)先建立液晶面板規(guī)格和發(fā)光光源的數(shù)據(jù)庫(kù)，并構(gòu)建液晶面板與發(fā)光光源的 配置模型，通過(guò)配置模型確定液晶面板與發(fā)光光源的最佳配置方法，減少了產(chǎn)品設(shè)計(jì)階段 手工制作樣品并測(cè)試的過(guò)程，縮短產(chǎn)品研發(fā)周期，降低產(chǎn)品設(shè)計(jì)成本。
[0038] 本發(fā)明還提供了一種用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，如圖2所示，其包括:光 源燈箱1、光學(xué)測(cè)試儀3W及光譜收集處理系統(tǒng)4,所說(shuō)光學(xué)測(cè)試儀3與所說(shuō)光譜收集處理系 統(tǒng)4相連接； 所述光源燈箱1用于放置待測(cè)液晶面板2并為待測(cè)液晶面板提供連續(xù)光譜； 所述光學(xué)測(cè)試儀3用于檢測(cè)待測(cè)液晶面板2的穿透頻譜，并將所述穿透頻譜傳輸運(yùn)光譜 收集處理系統(tǒng)4; 所述光譜收集處理系統(tǒng)4用于接受所述穿透頻譜，并將所說(shuō)穿透頻譜與液晶面板對(duì)應(yīng) 存儲(chǔ)。
[0039] 所述用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其中，所述光源燈箱用于提供380nm- 780nm的均勻光強(qiáng)的連續(xù)光源。
[0040] 所述用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其中，所述光學(xué)測(cè)試儀為CS2000光學(xué)測(cè) 試儀。
[0041] 最后應(yīng)說(shuō)明的是：W上實(shí)施例僅用W說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制;盡管 參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可 W對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換； 而運(yùn)些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和 范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，其包括： 建立用于存儲(chǔ)各種液晶面板規(guī)格的穿透頻譜的數(shù)據(jù)庫(kù)及背光源的發(fā)光光譜數(shù)據(jù)庫(kù)，其 中，所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條； 建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型； 當(dāng)配置液晶光學(xué)模組時(shí)，獲取所述液晶光學(xué)模組的液晶面板規(guī)格及背光光源； 根據(jù)液晶模組的亮度和色坐標(biāo)光學(xué)要求，通過(guò)配置模型確定液晶面板與之配對(duì)的背光 光源的配置。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，所述建立用于存儲(chǔ)各種 液晶面板規(guī)格的穿透頻譜的數(shù)據(jù)庫(kù)具體包括： 制作可見(jiàn)光范圍為連續(xù)光譜標(biāo)準(zhǔn)光源的光源燈箱； 采用光學(xué)測(cè)試儀測(cè)試380nm-780nm均勻光強(qiáng)的連續(xù)光譜數(shù)據(jù)； 將不同規(guī)格的液晶面板放置于光源燈箱上，通過(guò)光學(xué)測(cè)試液晶面板的穿透頻譜，并所 述穿透頻譜及與其對(duì)應(yīng)的液晶面板規(guī)格存儲(chǔ)于數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，所述建立背光源的發(fā)光 光譜數(shù)據(jù)庫(kù)，其中，所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條具體為： 通過(guò)積分球檢測(cè)儀檢測(cè)背光光源的發(fā)光光譜，并將所述發(fā)光光譜與背光光源的對(duì)應(yīng)關(guān) 系存儲(chǔ)于數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)，其中，所述背光光源為L(zhǎng)ED單燈、LED燈條、CCFL單燈及CCFL燈條。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，所述建立液晶面板規(guī)格 及背光源的發(fā)光光譜的配置模型具體為： 根據(jù)液晶模組的光損經(jīng)驗(yàn)值建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，所述建立液晶面板規(guī)格 及背光源的發(fā)光光譜的配置模型具體為： 兵屮，％ .73憑反，X，稱數(shù)俚，糊數(shù)，&73亢煩樂(lè)數(shù)，為最大光譜光視 效能；為人眼的光譜光視效率；為光源單位波長(zhǎng)的輻射能，可測(cè);:為CELL 單位波長(zhǎng)相對(duì)穿透系數(shù)，可測(cè)；/μ)為背光修正光譜，為測(cè)試經(jīng)驗(yàn)值；為 標(biāo)準(zhǔn)三色光譜彩色刺激數(shù)值。6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，其所述根據(jù)液晶模組的 光損經(jīng)驗(yàn)值建立液晶面板規(guī)格及背光源的發(fā)光光譜的配置模型之前包括： 測(cè)試液晶模組的膜片、擴(kuò)散板、導(dǎo)光板的穿透頻率以及反射片的反射頻譜，組合得出背 光修正光譜#_，其中，所述液晶模組包括側(cè)入式背光液晶模組及直下式背光液晶模組。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶光學(xué)模組的配置方法，其特征在于，所述穿透頻譜包括液晶 面板的WRGB四場(chǎng)畫面穿透頻譜。8. -種用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其特征在于，其包括:光源燈箱、光學(xué)測(cè)試 儀以及光譜收集處理系統(tǒng)，所說(shuō)光學(xué)測(cè)試儀與所說(shuō)光譜收集處理系統(tǒng)相連接； 所述光源燈箱用于放置待測(cè)液晶面板并為待測(cè)液晶面板提供連續(xù)光譜； 所述光學(xué)測(cè)試儀用于檢測(cè)待測(cè)液晶面板的穿透頻譜，并將所述穿透頻率傳輸這光譜收 集處理系統(tǒng)； 所述光譜收集處理系統(tǒng)用于接受所述穿透頻譜，并將所說(shuō)穿透頻譜與液晶面板對(duì)應(yīng)存 儲(chǔ)。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其特征在于，所述光源燈箱 用于提供380nm-780nm的均勻光強(qiáng)的連續(xù)光源。10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述用于測(cè)試液晶面板穿透頻譜的裝置，其特征在于，所述光學(xué)測(cè) 試儀為CS2000光學(xué)測(cè)試儀。
【文檔編號(hào)】G02F1/13GK105954893SQ201610377145
【公開(kāi)日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2016年5月30日
【發(fā)明人】楊梅慧
【申請(qǐng)人】康佳集團(tuán)股份有限公司